合肥真空镀膜机

真空镀膜机的优势主要体现在：1、外观改善，表面光滑，有色金属光泽，装饰性提高；2、提高表面硬度。原来的塑料表面比金属柔软，容易损坏。通过真空镀膜，硬度和耐磨性提高；3、提高耐候性。一般来说，塑料在户外老化很快，主要是由于紫外线辐射。镀铝后，铝对紫外线的反射较强。因此，耐候性提高；4、使得吸水率降低，涂布次数越多，吸水率越低，且制品不易变形，耐热性提高；5、使得塑料表面具有导电性；6、无需吸尘即可以轻松清洁。真空镀膜机中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。合肥真空镀膜机

真空镀膜机各部件的组成及其工作原理：一、真空主体——真空室根据加工产品的要求差异，大小也不一。目前应用较广的真空室有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。燃烧室由不锈钢制成，不需要生锈、坚固等。真空室的所有部分都设有连接阀，用于连接各种泵。二、辅助抽气系统：排气系统是真空镀膜机的重要组成部分，主要由机械泵、增压泵(主要引入罗茨泵)和油扩散泵组成。排气系统由“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。机械泵首先将真空室抽入小于2.0*10-2pa的低真空状态，为扩散泵的后续真空抽吸提供了前提，然后在扩散泵的真空室抽吸时，机械泵与油扩散泵串联，完成抽吸作用。河南OLED蒸镀机真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。

真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。(1)基片表面清洁。真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、残余镀料等在真空中易蒸发，直接影响膜层的纯度和结合力。镀前必须清沽干净。(2)镀前准备。镀膜室抽真空到合适的真空度，对基片和镀膜材料进行预处理。加热基片，其目的是去除水分和增强膜基结合力。在高真空下加热基片，能够使基片的表面吸附的气体脱附。然后经真空泵抽气排出真空室，有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。然后达到一定真空度后．先对蒸发源通以较低功率的电，进行膜料的预热或者预熔，为防止蒸发到基板上，用挡板遮盖住蒸发源及源物质，然后输入较大功率的电，将镀膜材料迅速加热到蒸发温度，蒸镀时再移开挡板。(3)蒸镀。在蒸镀阶段要选择合适的基片温度、镀料蒸发温度外，沉积气压是一个很重要的参数。沉积气压即镀膜室的真空度高低，决定了蒸镀空间气体分子运动的平均自由程和一定蒸发距离下的蒸气与残余气体原子及蒸气原子之间的碰撞次数。(4)取件。膜层厚度达到要求以后，用挡板盖住蒸发源并停止加热，但不要马上导入空气。

真空镀膜中常用的塑料，ABS是开始使用的，是同时符合三个条件的塑料，A表示丙烯腈，B表示丁二烯，S表示苯乙烯，塑料中含有以上三种物质的就是ABS塑料了，ABS镀上膜层后，可以很好的发挥其机械性能、抗冲击性，依靠其硬度大，耐磨损，成本不高，常常被用于代替某些金属机械零部件，也用于生产家用电器的外壳，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外使用，否则会变色。PETP聚对苯二甲酸乙二醇醋，简称聚酯，是继ABS后又一种符合三种条件的塑料，所镀的膜层具有良好的拉伸强度，韧性大。PS聚苯乙烯可以承受100℃以下的温度，真空镀膜的适应性也好，无色无味，耐酸碱性，是一种不错的绝缘材料。真空镀膜机抽气不均会影响镀膜均匀性，基片干净很重要。

真空蒸镀使用的加热方式主要有：(1)电阻加热：电阻加热源是普遍使用的蒸发源，它结构简单、操作方便。典型的导电加热体材料有钨、钽、钼和碳等。导电加热体的电阻加热通常采用低电压（<10V）、大电流（几百安培）加热方式。可根据蒸发材料的性质以及蒸发源材料的浸润性加以选用。(2)电子束加热：电子束加热法的基本原理是基于由热阴极发射的电子在电场作用下，获得动能轰击到作为阳极的蒸发材料上，将其动能转化为加热材料的内能而使材料蒸发。由于聚集电子束的能量密度大，可使材料表面局部区域达到3000℃～4000℃的高温，适于蒸发高熔点金属、化合物材料和要求高蒸发速率的场合。(3)射频感应加热：感应加热是将射频电源的能量直接耦合到金属、石墨一类的导体上，其原理是利用高频电磁场在导体材料中感生的热量来直接加热导体本身。真空镀膜机的镀膜方式是一种绿色低碳、符合行业的可持续发展战略的方式。真空蒸镀机设备制造商

真空镀膜机设计焊缝结构的时候，接头一定要焊透，应该避免产生聚集污物的有害空间。合肥真空镀膜机

真空镀膜机在镀膜的时候，需要镀层表面的化学成分保持均匀性，这主要体现在以下三个方面：1、厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看也就是1/10波长作为单位，约为100A，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。2、化学组分上的均匀性：就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。3、晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。合肥真空镀膜机

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