南宁真空镀膜企业

时间:2023年01月18日 来源:

真空镀膜机的安全操作注意事项:1、真空电镀机操作员要穿着整洁,袖口扣紧(佩戴袖套),上衣下摆不能敞开,不得穿拖鞋、高跟鞋;2、检查电路各控制开关能否正常断开闭合,电压指示380±20V;3、检查各螺钉处连接是否牢固,电控柜、主机的连接线有无松脱现象、接地是否良好;所有电器的开关在零或者“关”的位置上;4、检查镀膜机室内不锈钢挡板的插销是否牢固,角部有无弯曲翘曲等变形情况;5、检查水压、气压是否正常;水、油、气是否有漏滴现象;6、设备中途停水时,应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵,让维持泵继续运行。在控制技术上,更多的应用先进的计算机技术和微电子技术,使得真空镀膜更具高效性和智能自动化。南宁真空镀膜企业

真空镀膜工艺对应用环境有着严谨的要求,对于常规的真空工艺来说,它对真空卫生主要是要求:在真空中的设备的零件或表面无积存的污染源、真空室表面光滑且无松软组织和气孔和死空间、真空设备内焊缝不会影响真空、高真空设备不得用机油作润滑剂、无油超高真空系统应避免因油蒸气而对工作介质的纯度、工作性能或表面特性造成影响、超高真空金属系统常以1Cr18Ni9Ti作为结构材料、置放真空镀膜设备的实验室或车间应保持清洁卫生等。真空镀膜工艺对环境的基本要求主要有:真空室内的高度清洁、置于清洁度高的工作间、镀膜室内的灰尘等。部分地区空气湿度较大,所以,在镀前不只要清洗基片、真空室内的各部件,还需做烘烤除气工作。此外,为防止真空室内带入油,还需注意施加油扩散泵的返油、挡油等措施。南宁真空镀膜企业真空镀膜技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。

真空镀膜工艺流程:1、表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。2、底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用镀膜油;采用浸涂方法,具体应视镀件材料而定。3、底涂烘干:镀膜油系列均为自干型漆,烘干的目的是为了提高生产效率。通常烘干的温度为60-70oC,时间约2小时。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。4、镀膜:镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。同时应掌握好镀膜用金属(如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜质量。

真空镀膜一般比较薄,厚度不超过0.2lum,并且其耐磨性等力学性能相对比较差。面漆的作用是保护镀层,而且能够赋予真空镀膜制品较好的硬度以及耐磨性等力学性能。面漆的具体性能要求包括:一,要求镀层具备较高的附着力,这也是涂层发挥保护作用的重要基础;二,应该具备足够的耐磨性,从而保证极薄的真空镀层能够避免出现机械擦伤;三,具备较高的阻隔性,即面漆本身需要具备良好的耐水性、耐腐蚀性以及耐候性,从而阻止氧气等一些腐蚀镀膜的物质直接接触真空镀层,能够保护镀层免受腐蚀;四,面漆组成只能够不能含有可能腐蚀镀层的组分或者杂质;五,对于应该突出光亮度的真空镀膜场合,面漆需要保证具备较高的透明性以及表面光泽。有的真空镀膜工艺不需要面漆,比如,镀膜材料为铬或者不锈钢时,其镀层的耐腐蚀性非常好、硬度较高且耐划伤性强,因此对制品性能的要求不高时,可以不必涂装面漆。真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果。

随着人们生活水平的不断提高,对各种工艺品、建材、家具、电子产品、汽车、玩具、灯具等的表面装饰提出了越来越高的要求。对非金属物件表面金属化或金属物件表面美观化,传统上通常采用电镀的方法。但由于传统电镀毒性大,三废污染特别严重,在人们环保意识逐步加强的现在,它的发展,已受到了各方各面的制约。真空镀膜技术是近年发展起来的一项新技术。它的原理是金属固体(如铝线等)在高真空状态下受热气化,再以分子或原子形态沉积在基材表面,从而在镀件表面形成一层薄薄的金属膜。由于金属气化后均匀地分布于镀膜机腔体内,所以,通常情况下,镀件表面形成的金属膜七分均匀。真空镀膜常用在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用。内蒙古太阳能电池真空镀膜

真空镀膜工业化大规模生产开始于20世纪80年代。南宁真空镀膜企业

真空镀膜真空离子镀在加工上和普通离子镀有什么区别?蒸发物质的分子经过电子碰撞电离后以离子的形式沉积在固体表面,称为离子镀,也就是常见的离子镀。真空离子镀是真空蒸发和阴极溅射的结合。离子镀系统以基材为阴极,外壳为阳极,充入惰性气体(如氩气)产生辉光放电。当被蒸发源蒸发的分子通过等离子体区时,它们被电离。正离子被负电压加速到基材表面。离子化的中性原子也会沉积在衬底或真空室的壁表面上。电场对电离蒸气分子的加速作用(离子能量约为几百到几千电子伏)和氩离子对基片的溅射作用,提高了薄膜的附着强度。离子镀技术结合了蒸发(高沉积速率和溅射)的特点,具有良好的衍射性,可用于镀制形状复杂的工件。南宁真空镀膜企业

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