河北医药微射流技术

CMP抛光液一般由去离子水、磨料、pH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成。其中SiO2、Al2O3、CeO2 是应用较普遍的磨料。由于纳米磨料颗粒存在比表面积大、表面原子数多、表面能高等问题使其在水相介质中极易发生粒子团聚和快速沉降，导致抛光过程中表面粗糙度增加、划伤增多及抛光效率不稳定。因此，如何均匀分散成为制备CMP抛光液关键工艺之一。通过微射高压均质机分散可以有效的将二氧化硅，二氧化铈等氧化物均匀分散到纳米级，有效解决抛光液纳米分散中团聚的痛点。微射流均质机具有高速、高效、高精度的特点。河北医药微射流技术

微射流高压均质机功能，微射流均质机可以将乳化体系和混悬分散体系物料的粒径均质到纳米级且均一的状态，以此提升相关产品的各项功能性指标，比如脂质体药物的缓释性、靶向性，稳定性，难溶药物的溶解度提高、细化混悬，化妆品的包封保护活性、降低异味、高透的外观、纳米材料的提高催化性能、导电导热性能、磨料性能以及各种纳米功能性等等。微射流高压均质机特点以及与一代高压均质机的区别：主要处理单元差别：微射流高压均质机主要处理单元：特定内部结构的微射流金刚石交互容腔，也称固定线性孔道式均质腔；一代高压均质机主要处理单元：分体式高压均质阀，由底座、冲击环、阀芯组成。两代设备处理过程都用到高压，都有高速液流产生，但较大的区别在于主要部件，两种主要处理单元在物料处理过程中发生的反应有明显差别。河北医药微射流技术微射流均质机在制药行业中，尤其适用于细胞破壞和药物纳米化处理。

高压均质机其关键指标如下：均质过程中，能否稳定达到物料所需均质压力，是均质机选型的主要因素。设备的处理流量与设备选型、均质压力、物料粘度或浓度等因素有关。对于许多温度敏感、温度影响性质的物料而言，设备是否能够实时监控进出料的温度（进口温度、出口温度），其冷凝管的温控效果能否满足需求，是不可忽略的选型指标。在生产型设备的选型上，连续工作能力也是非常重要的选型要素。微射流均质机主要部件，其内部固定的几何角度构造对成品起到直接的作用。现基本采用“Y”型或“Z”型构造的均质腔。

均质机的作用力主要为剪切力和压力。在均质过程中，产生层流效应，分散相颗粒或液滴被剪切和延伸拉碎；受到湍流效应影响，颗粒或液滴在压力波动下产生随机变形；受到空穴效应的影响，较高的压力作用使小气泡迅速破裂,释放能量，从而引起局部液压冲击,造成振动。经过缝隙的液体，由于瞬间失压以极高的速度喷射出，撞击到均质部件上，产生了剪切、撞击和空穴三种效应。较高速度的液体流经均质腔缝隙时由于极大的速度梯度，会产生剧烈的剪切作用。分散相颗粒或液滴在强剪切力的作用下将发生变形，当剪切力大到一定程度时，分散相中的液滴发生破碎。微射流均质机能够均匀地分散和悬浮固体颗粒，避免沉淀和堵塞。

处理纳米乳液和脂质体的效果区别：1 .粒径，脂质体为双分子层粒子柔性较强，做小粒径所需的能量并不大；纳米乳液，多为水油两相混合，也不需要很大的能量，对于均质方面，微射流均质机和均质机都可以满足脂质体样品减小粒径的要求，不过微射流均质机相对均质机而言，可以处理粒径要求更小的样品。2. PDI，脂质体、纳米乳样品对粒径的分布要求非常高，PDI需达到0.2或0.1以下，反应了样品均一程度，对于这种情况。微射流交互容腔的优势明显：微射流金刚石交互容腔活塞直径更小，通道行程长，样品通过通道均质时高压持续时间长、压力稳定，能量转换率高，在通道里面所受到的力相同，得到的PDI分布较小，比较均匀。微射流均质机的设计紧凑，占用空间小。MLCC微射流均质机制造

微射流均质机可以实现微射流速度和压力的精确控制。河北医药微射流技术

由于碳纳米管之间存在着比较强的范德华力，导致很容易缠绕在一起或者团聚成束，严重制约了碳纳米管的应用。如何提高碳纳米管的分散性成为目前迫切需要解决的问题。物理法是比较常用的分散碳纳米管的方法，超声法是一种物理方法，常在实验室内使用，但这种方法存在分散不完全，容易造成碳纳米管损伤，无法连续大规模生产等问题。微射流R高压均质机使通过微通道的物料产生高速微射流，利用物理剪切、对撞、空穴效应等物理作用力，将碳纳米管团聚打开，并均匀分散在溶剂中，可以有效提高swcnts束的分散效率。河北医药微射流技术