江苏高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪

因此，需要对其粒径的分布进行测试。而目前对炭黑的粒径测量方法为差速沉淀法。由于常用的炭黑粒径比较均匀，在测试时粒径的分布常呈现正态曲线分布，但在裂解后炭黑中混有橡胶纤维，导致粒径变大，不同粒径炭黑的含量不同，不再呈现均匀的正态分布。造成样品的测试比较困难。美国CPS24000纳米粒度分析仪可以真实反映样品在溶液中的真实粒径分布状态，粒径测试结果的精确度只次于扫描电镜。主要特点如下：所需样品量少，每次只需要0.1ml，这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。驰光机电科技与广大客户携手共创碧水蓝天。江苏高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪

而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。江苏高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪驰光机电科技有限公司在客户和行业中树立了良好的企业形象。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！

为了实现较佳过程控制，样品测量时间为5分钟左右。催化剂浓度通常在40至1000ppm范围内。C-Quand在线XRF分析仪是一款真正的过程分析仪，专为化工厂的恶劣环境而设计。分析仪配置和操作简单。它配有模拟和串行数据传输协议。C-Quand在线 XRF分析仪可以连续测量多达四个流路，每个流都有自己的校准曲线。此外，C-Quand在线XRF分析仪有各种方法来检查和确保可靠的数据。每小时分析一次内置的固体参考。有了这个内置的自动参考，您将能够在一年内实现无漂移过程测量。驰光机电科技有限公司受行业客户的好评，值得信赖。

主要特点如下：1.所需样品量少。每次只需要0.1ml，这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后，可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较，对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒，依旧可以很好地区分测量出来，即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较，由于采用更快的圆盘转速和高速检测器，因此较大缩短了分析所需时间。山东驰光机电科技有限公司重信誉、守合同，严把产品质量关，热诚欢迎广大用户前来咨询考察，洽谈业务！北京激光粒度粒形分析仪

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