苏州共格检测分析

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一个纳米到几个微米之间的单层或者多层材料。由于厚度比较薄，薄膜材通常依附于一定的衬底材料之上。常规的XRD测试，X射线的穿透深度一般在几个微米到几十个微米，这远远大于薄膜的厚度，导致薄膜的信号会受到衬底的影响（图1）。另外，如果衍射简单较高，那么X射线只能辐射到部分样品，无法利用整个样品的体积，衍射信号弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解绝了以上问题。所谓掠入射是指使X射线以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大减小了在薄膜中的穿透深度，同时增加衍射颗粒的数目和x射线在薄膜中的光程。这里有两点说明：GID需要硬件配置；常规GID只适合多晶薄膜和非晶薄膜，不适合单晶外延膜。无论面对何种应用，DIFFRAC.DAVINCI都会指引用户选择较好的仪器配置。苏州共格检测分析

D2PHASER所具备的数据质量和数据采集速度远超目前人们对台式XRD系统的认知。紧凑轻便的外形和易于使用的设计，十分便于移动，您无需准备复杂的基础框架、大而笨重的工作台，也无需供应商前来安装和调整，只需准备标准的电源插座，然后花费几分钟的时间，即可完成从拆包到获得分析结果的过程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配备了独特的LYNXEYEXE-T探测器，已然成为同类更好的选择！小于380eV的能量分辨率使其支持的数字单色器模式，可有效去除——不必要的辐射，如样品荧光，Kβ辐射以及轫致辐射——背景散射，而不会明显降低检测速度。安徽检测实验室XRD衍射仪可在数秒内，轻松从先焦点切换到点焦点，从而扩大应用范围，同事缩短重新匹配的时间。

X射线反射率测定引言X射线反射率（XRR：X-RayReflectivity）是一种表面表征技术，是利用X射线在不同物质表面或界面的反射线之间的干涉现象分析薄膜或多层膜结构的工具。通过分析XRR图谱(图1)可以确定各层薄膜的密度、膜厚、粗糙度等结构参数。XRR的特点：1无损检测2对样品的结晶状态没有要求，不论是单晶膜、多晶膜还是非晶膜均可以进行测试3XRR适用于纳米薄膜，要求厚度小于500nm4晶面膜，表面粗糙度一般不超过5nm5多层膜之间要求有密度差

二氧化锆多晶型分析引言二氧化锆化学性质不活泼，且具有高熔点、高电阻率、高折射率和低热膨胀系数等独特的物理化学性质，使它成为重要的耐高温材料、陶瓷绝缘材料和陶瓷遮光剂。其结构主要有三种晶型：单斜相、四方相以及立方相。不同晶体结构对应的物理化学性质有较大区别，X射线衍射是区分二氧化锆晶型的主要手段之一。同时利用先进的Rietveld方法可对二氧化锆多晶型样品进行快速定量分析。实例二氧化锆多晶型定性分析左插图：微量的二氧化锆单斜相右插图：二氧化锆四方相和立方相区分明显新结构测定以及多晶筛选是药物开发的关键步骤，对此，D8 DISCOVER具有高通量筛选功能。

当石墨(002)衍射峰峰形对称性很差时，如图2，样品中可能含有多种不同石墨化度的组分存在(当然，也可能是由于非晶碳或无定形碳的存在。需要对衍射峰进行分峰处理，得到各个子峰的峰位和积分强度值，如图2所示。分别计算各子峰的石墨化度，再利用各子峰的积分强度为权重，归一化样品的石墨化度。图2石墨实验（蓝色数据点）及分峰拟合图谱（红色：拟合图谱，两绿色为单峰拟合结果）石墨及其复合材料具有高温下不熔融、导电导热性能好以及化学稳定性优异等特点，应用于冶金、化工、航空航天等行业。特别是近年来锂电池的快速发展，进一步加大了石墨材料的需求。工业上常将碳原料经过煅烧破碎、焙烧、高温石墨化处理来获取高性能人造石墨材料。石墨的质量对电池的性能有很大影响，石墨化度是一种从结构上表征石墨质量的方法之一。根据应用需求，调节探测器的位置和方向，包括0°/ 90°免工具切换以及探测器位置可连续变化、支持自动对光。安徽检测实验室XRD衍射仪

在DIFFRAC.LEPTOS中，使用sin2psi法，用Cr辐射进行测量，对钢构件的残余应力进行分析。苏州共格检测分析

D8DISCOVER是旗舰款多功能X射线衍射仪，带有诸多前沿技术组件。它专为在环境条件下和非环境条件下，对从粉末、非晶和多晶材料到外延多层薄膜等各种材料进行结构表征而设计。应用范围：1.定性相分析和定量相分析、结构测定和精修、微应变和微晶尺寸分析2.X射线反射法、掠入射衍射（GID）、面内衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI应力分析、晶体取向分析3.残余应力分析、织构和极图、微区X射线衍射、广角X射线散射（WAXS）4.总散射分析：Bragg衍射、对分布函数（PDF）、小角X射线散射（SAXS）苏州共格检测分析