上海全自动单盘金相磨抛机按钮操作

金相磨抛机技术参数：工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm，转速 100-1000r/min，三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义，旋转方向 顺时针或逆时针可调，电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水压 1-10bar/0.1-1Mp，进水管 Φ8mm长2m，排水管 内径Φ40，环境温度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。装箱清单：金相磨抛机 1台，进水管（带接头） 1根，排水管 1根，电源线（国标插头） 1根，卡圈 2个，砂纸（320#、600#、800#、1000#各一张） 4张，植绒 1张，帆布 1张，操作手册 1套，合格证 1张 金相磨抛机底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。上海全自动单盘金相磨抛机按钮操作

金相磨抛机抛光案例： 打磨：240# 600# 1200# ，转速：300转左右，转盘方向：顺时针，压力：30N即可，每道砂纸时间：1分钟左右（划痕均匀，没有多面出现）打磨：4000# 沿着一个方面手磨，抛光：转速：300转左右，转盘方向：顺时针 ，压力：30N即可。 抛光：真丝绸布，纹路均匀，进口硬质背基金刚石喷雾抛光剂/金刚石悬浮抛光液：5微米 420毫升 时间：5-10分钟（喷2-3次溶液）防氧化抛光润滑液防止过于干燥过热，抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注：抛光前，抛光布保持干净，完全湿润；1、精抛短绒，进口硬质背基，2、进口工艺氧化铝抛光液：0.05微米， 3、防氧化抛光液时间：5-10分钟（喷2-3次溶液）会出现模糊氧化层，需要进行氧化抛光，同时去除表面细小划痕防止过于干燥过热，抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注：抛光前，抛光布保持干净，完全湿润 上海全自动单盘金相磨抛机按钮操作金相磨抛机（单盘/双盘）三档定速：300、500、800r/min，可自定义。

金相磨抛机：手工磨光法是把使用放在垫有平玻璃板或平铁板的金相砂纸上进行推磨。为了保证试样试面平整而不产生弧形，在磨面上所施力应力求均衡，磨面与砂纸接触。同时磨削应循单方向进行，向前推行时进行磨削，回程时把试样提离砂纸。细磨时一般依次从0号（W40）开始，逐一换细一号的砂纸推磨，一般钢铁试样磨到04号砂纸，软材料如铝、镁等合金可磨到05号砂纸。每换下一号细砂纸时，应将试样和手冲洗干净，并将下面垫的玻璃板擦干净，谨防粗砂粒掉入细砂纸上，同时磨面方向应旋转90°，以便观察上次磨痕是否磨掉。在细磨较软的金相试样时，如铝、镁、铜等有色金属是应该在砂纸上涂一层润滑剂，可防止砂粒嵌入软金属材料内，同时减少表面撕损现象。常用的润滑剂有机油、石蜡、汽油溶液、汽油、皂化水溶液、甘油水溶液等。

在金相制样过程中会产生各式各样的问题。污染：来源于其他部分而不是样品本身的杂物，并在机械研磨或抛光过程沉积在样品表面，这种现象称之为污染。应对措施：这种试样重新轻抛即可去除，如果检查抛光态试样，用酒精淋后进行吹风时，用酒精棉花在试样面上轻轻擦洗即可。为了避免出现污染，各道制样工序后尤其是倒数那一道工序后要立即清洗并干燥样品。当怀疑某一种相或粒子可能不属于真实组织时，请一定要清洁或者更换抛光布，并且从精磨开始重新制样。金相磨抛机操作面板单独安装，拆卸方便、操作、维护方便。

金相磨抛机故障排除：急停按键按下，当释放紧急停止按钮后该信息就会消失；锁限位故障，通讯超时、限位开关损坏或者线路故障断开，关机重启，检查开关或者线路；磨头不转动，通讯超时或者电机过载，关机重启，降低力度并继续制备进程；磨盘不转动，通讯超时或者电机过热，关机重启或者等待电机降温在开机，降低力度并继续制备进程；磨头磨盘电机不通知，通讯故障，关闭电源后重启；磨盘电机无法停止，数据库参数缺损行参数，在按启动键后再按停止；磨头上升后无法下降，通讯故障或者断气，关机重启，检查气源气压；加载气缸不伸出，通讯故障或者气压不够，停止制备启动，再次启动制备，检查气源。金相磨抛机（全自动）也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性。苏州无极调速金相磨抛机企业

金相磨抛机可除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。上海全自动单盘金相磨抛机按钮操作

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。上海全自动单盘金相磨抛机按钮操作