湖南高分辨率灰度光刻3D光刻

   Nanoscribe成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，拥有卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的技术背景和卡尔蔡司公司的支持。经过十几年的不断研究和成长，Nanoscribe已成为微纳米生产的先驱和3D打印市场的带领者，推动着诸如力学超材料，微纳机器人，再生医学工程，微光学等创新领域的研究和发展，并提供优化制程方案。全新的QuantumX无掩模光刻系统能够数字化制造高精度2维和。作为世界上头一个双光子灰度光刻系统，在充分满足设计自由的同时，一步制造具有光学质量表面以及高形状精度要求的微光学元件，达到所见即所得。。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司带您一起了解双光子灰度光刻系统的应用。湖南高分辨率灰度光刻3D光刻

这是一款兼顾微观和宏观的高精度3D无掩模光刻产品，名为3D无掩模光刻。无论您是进行科学研究还是制作工业手板，这款产品都能满足您的需求。它不仅高效，而且精度非常高，能够适用于多种尺度和多种应用领域，极大地节省了加工时间。您可以轻松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，无论您是在微观尺度还是宏观尺度进行制作。如果您想要在科学研究或工业生产中得到更好的效果，3D无掩模光刻是您的比较好选择。它能够为您节省时间和精力，让您专注于更重要的事情。立即购买，体验高效、高精度的3D无掩模光刻吧！广东高分辨率灰度光刻设备灰度光刻技术具有高精度、高效率的特点。

Nanoscribe的Quantum X打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术 (2GL ®)的Quantum X打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，Quantum X可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。

Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印 。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项**技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项专项技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您揭秘什么是灰度光刻技术。

Nanoscribe双光子灰度光刻系统QuantumX,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX，适用于制造微光学衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球头一次创造工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX，适用于制造微光学衍射以及折射元件。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您了解成熟的灰度光刻技术。重庆进口灰度光刻

灰度光刻技术是一种非接触、高精度的光刻技术，具有较高的灵活性和自由度。湖南高分辨率灰度光刻3D光刻

Quantum X 新型超高速无掩模光刻技术的重要部分是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系统非常适合DOE的制作。湖南高分辨率灰度光刻3D光刻