江苏高灵敏度纳米粒度分析仪

自动化和智能化：许多现代实验室分析仪配备了高级的自动化和智能化功能，可以自行完成样品处理、分析检测和数据处理的整个流程，较大提高了检测效率。高精度和高准确性：实验室分析仪通常具有高精度和高准确性，能够提供更为精确的实验数据，有助于提高实验结果的可信度和可靠性。多功能性：一些实验室分析仪具备多种检测功能，可以同时进行多种指标的检测，较大提高了设备的利用率。操作简便：一些实验室分析仪的操作非常简便，只需简单的培训或操作指导，工作人员即可使用。驰光机电科技在客户和行业中树立了良好的企业形象。江苏高灵敏度纳米粒度分析仪

CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间，以及病毒颗粒的团聚情况，峰值清晰可见，为疫苗的研发生产提供全新的解决方案。应用范围：CPS纳米粒度分析仪可测量粒度分布在5nm-75微米之间的超细粉，大量应用于以下领域。化工：聚合物乳胶和乳液，助剂及添加剂(纳米碳酸钙CaCO，重晶石3CaSO)，白炭黑SiO2，金刚石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等，抗冲击增强颗粒。制药/生物：纳米金和纳米银，病毒和类病毒颗粒，细胞和细胞碎片，蛋白质，脂质体。江西高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价诚挚的欢迎业界新朋老友走进驰光机电科技！

实验室分析仪的精度和准确性对于获得可靠实验结果至关重要。为了确保实验室分析仪的准确性和精度，需要采取一系列措施来维护和校准仪器。以下是一些常用的方法和技术，用于保证实验室分析仪的精度和准确性。定期校准和维护是保证实验室分析仪精度和准确性的基础。校准的目的是检查仪器是否准确测量并显示数据，而维护则包括清洁、润滑和更换磨损部件等操作，以保持仪器性能。根据仪器类型和使用频率，制定合理的校准和维护计划，确保仪器始终处于良好状态。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光锐意进取，持续创新为各行各业提供专业化服务。

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电愿和各界朋友真诚合作一同开拓。江西高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价

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而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。江苏高灵敏度纳米粒度分析仪