吉安蚀刻液回用及提铜设备厂家

传统上，用于形成半导体电路中的硅晶片蚀刻，通常使用氢氟酸、硝酸、醋酸的混和溶液，根据需要结合使用磷酸和硫酸的混和溶液。这些溶液的比例根据加工设备类型的不同而改变的。当混合溶液在上述蚀刻过程中使用吋，硝酸和氢氟酸在不断地消耗，从而酸的比例不断地在改变。因此，为始终保持相同的蚀刻效果，氢氟酸和硝酸要及时补充。传统的方法是对每个使用后的混合液的成分进行单独的滴定定量分析来确定补充量，需要繁杂的操作和很长的时间，往往是由操作人员根据经验来判断。如今业界采用的蚀刻液，主要分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。吉安蚀刻液回用及提铜设备厂家

蚀刻液中的Cu2+的浓度、PH值、氯化铵浓度以及蚀刻液的温度对蚀刻速率均有影响。掌握这些因素的影响才能控制溶液，使之始终保持恒定的良好蚀刻状态，从而得到好的蚀刻质量。因为Cu2+是氧化剂，所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明：在0－11盎司/加仑时，蚀刻时间长；在11－16盎司/加仑时，蚀刻速率较低，且溶液控制困难；在18－22盎司/加仑时，蚀刻速率高且溶液稳定；在22－30盎司/加仑时，溶液不稳定，趋向于产生沉淀。吉安蚀刻液回用及提铜设备厂家碱性蚀刻液电解提铜系统主要能实现生产药水的循环使用，节省成本物料。

碱性蚀刻液循环再生回用装置,具有废液暂存槽、三级萃取槽、二级水洗涤槽、电解反应槽、再生液调配槽、萃取油中转槽,废液暂存槽连接蚀刻生产线,废液暂存槽的输出端依次连接三级萃取槽、二级水洗涤槽、电解反应槽,三级萃取槽萃取分离废液中的铜离子,二级水洗涤槽将铜离子和萃取油分离,电解反应槽对铜离子电解提铜；三级萃取槽的废液转移到再生液调配槽中调配回用；二级水洗涤槽分离出来的萃取油转移搭配萃取油中转槽中循环回用。本实用新型实现在线随机封闭式循环运行,从源头污染预防,减少二次污染,达到对蚀刻废液有价部分进行回收,有用部分进行完全回用,符合产业利用,具有好的经济效益和社会效益。

酸碱蚀刻液再生回用及铜回收设备运用一项专门设备，把蚀刻液中铜分离出来，使其中的铜含量很大程度降低，这样，蚀刻废液中的铜含量降低以后，经调整可以回到蚀刻线上回用，而分离出来的铜可以经特殊的方式生成含99。95%的铜板。本技术运用一项专门设备，把蚀刻液中铜分离出来，使其中的铜含量很大程度降低，这样，蚀刻废液中的铜含量降低以后，经调整可以回到蚀刻线上回用，而分离出来的铜可以经特殊的方式生成含99。95%的铜板。经本技术处理蚀刻废液,使废蚀刻液经再生,回到生产回用,这样企业不再购买蚀刻子液,实现污染物的零排放,同时获得高纯度铜板。蚀刻速度越快，板子在蚀刻液中停留的时间越短。

碱性蚀刻液循环再生回用装置,机架,废液暂存槽,所述机架侧面设置有控制器,所述机架上方设置有电解反应槽,所述电解反应槽内部设置有硫酸铜反萃液槽,所述硫酸铜反萃液槽与所述电解反应槽之间设置有单向膜,所述电解反应槽旁边设置有二级水洗槽,所述二级水洗槽旁边设置有三级萃取槽,所述三级萃取槽连接有所述废液暂存槽,所述废液暂存槽连接有蚀刻生产线,所述蚀刻生产线另一端连接有再生液暂存槽,所述再生液暂存槽旁边设置有再生液调配槽,所述再生液调配槽内部设置有浓度检测计,所述二级水洗槽连接有萃取油中转槽。有益效果在于:可以实现循环利用蚀刻液,减少环境污染,降低生产成本。酸性蚀刻液再生循环使用铜回收设备,它涉及酸性蚀刻液回收设备领域。吉安蚀刻液回用及提铜设备厂家

溶铜能力高,蚀刻容易控制。吉安蚀刻液回用及提铜设备厂家

蚀刻液回收利用工艺,包括下列步骤:S1,碳酸钠溶液的制备:将碳酸钠固体溶解于一定质量的水中得到碳酸钠溶液,并将制备的碳酸钠溶液置于反应容器中,且碳酸钠溶液中碳酸钠与水的质量比为1:2。53。5,并将碳酸钠溶液的温度保持在3040℃;S2,酸性蚀刻液的滴加:向反应容器中滴加酸性蚀刻液,在滴加酸性蚀刻液的同时使用搅拌器对反应容器内的液体进行搅拌,并保持反应容器内的反应温度为3050℃,反应终点的pH值为7。5～8。5;S3,静置沉降:停止搅拌并静置得到碱式碳酸铜沉淀;S4,回收碱式碳酸铜:将沉淀在反应容器中的碱式碳酸铜取出,清洗并烘干,得到碱式碳酸铜产品。本发明能有效降低酸性蚀刻液废水中的铜离子浓度,且能实现铜资源的回收。吉安蚀刻液回用及提铜设备厂家

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