东莞PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家

蚀刻液再生循环系统：在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到较佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度较佳水平，蚀刻用过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工艺的要求，又可节省生产成本。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。东莞PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家

蚀刻液回收利用工艺,包括下列步骤:S1,碳酸钠溶液的制备:将碳酸钠固体溶解于一定质量的水中得到碳酸钠溶液,并将制备的碳酸钠溶液置于反应容器中,且碳酸钠溶液中碳酸钠与水的质量比为1:2。53。5,并将碳酸钠溶液的温度保持在3040℃;S2,酸性蚀刻液的滴加:向反应容器中滴加酸性蚀刻液,在滴加酸性蚀刻液的同时使用搅拌器对反应容器内的液体进行搅拌,并保持反应容器内的反应温度为3050℃,反应终点的pH值为7。5～8。5;S3,静置沉降:停止搅拌并静置得到碱式碳酸铜沉淀;S4,回收碱式碳酸铜:将沉淀在反应容器中的碱式碳酸铜取出,清洗并烘干,得到碱式碳酸铜产品。本发明能有效降低酸性蚀刻液废水中的铜离子浓度,且能实现铜资源的回收。东莞PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家蚀刻液中的铜离子浓度、酸度、比重或亚铜离子浓度增加至一定值时，蚀刻液就不能保证快速且稳定地蚀刻铜箔。

湿法蚀刻是将晶圆浸入合适的化学溶液中，或将化学溶液喷射到晶圆上进行淬火，通过溶液与被蚀刻物体的化学反应去除薄膜表面的原子，从而达到蚀刻的目的。进行湿法刻蚀时，溶液中的反应物首先通过停滞边界层扩散，然后到达晶片表面，发生化学反应，产生各种产物。蚀刻化学反应的产物是液相或气相产物，然后这些产物通过边界层扩散并溶解到主溶液中。湿法蚀刻不只会在垂直方向蚀刻，还会有水平蚀刻效果。干蚀刻是一种各向异性蚀刻，具有良好的方向性，但选择性比湿蚀刻差。在等离子体蚀刻中，等离子体是一种部分离解的气体，气体分子被离解成电子、离子和其他具有高化学活性的物质。干蚀刻大的优点是“各向异性蚀刻”。然而，（自由基）干蚀刻的选择性低于湿蚀刻。这是因为干蚀刻的蚀刻机理是物理相互作用；因此，离子的冲击不只可以去除蚀刻膜，还可以去除光刻胶掩模。

新型的蚀刻液回收专门用导电排,为条状体,该导电排具有一横截面为方形的阳极安装段以及阴极安装段,其中阳极安装段上开设有多个用于固定阳极板的安装孔,阴极安装段具有一弧形面,弧形面与阳极安装段之间具有一台阶,阴极板与弧形面对接安装。本实用新型有如下优点:1。拆装阴极板方便,节省人力。2。采用这种导电方式的导电板,出装阴极板时间可以缩短10%以上,很大程度提高了作业效率。3。方便处理阴极板出现的各种不良状况。4。该种结构方式有利于清洗阴极接触点,可以提高和保障接触点的导电性能。如今业界采用的蚀刻液，主要分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。

Cu+含量的影响：根据蚀刻反应机理，随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。较微量的Cu+就会明显的降低蚀刻速率。所以在蚀刻操作中要保持Cu+的含量在一个低的范围内。 c、Cu2+含量的影响：溶液中的Cu2+含量对蚀刻速率有一定的影响。一般情况下，溶液中Cu2+浓度低于2mol/L时，蚀刻速率较低；在2mol/L时速率较高。随着蚀刻反应的不断进行，蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。当铜含量增加到一定浓度时，蚀刻速率就会下降。为了保持蚀刻液具有恒定的蚀刻速率，必须把溶液中的含铜量控制在一定的范围内。 d、温度对蚀刻速率的影响：随着温度的升高，蚀刻速率加快，但是温度也不宜过高，一般控制在45~55℃范围内。温度太高会引起HCl过多地挥发，造成溶液组分比例失调。另外，如果蚀刻液温度过高，某些抗蚀层会被损坏。蚀刻液的浓度，应根据金属腐蚀原理和铜箔的结构类型，通过试验方法确定浓度，它应有较大的选择余地。东莞PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家

根据蚀刻反应机理，随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。东莞PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家

碱性蚀刻液电解提铜系统主要能实现生产药水的循环使用，节省成本物料，生产药水循环使用过程中将药水中所含的铜进行回收，还原成高纯度的电解铜，并能达到高浓含铜废液的零排放标准。该系统有“萃取工艺”及“直接电解工艺”。其中，直接电解工艺的流程为：从蚀刻机出来的铜离子进入再生铜回收系统的调整槽，将废液调整到电解状态。经调整后的废蚀刻液直接进入电解系统，在阴阳极下电解铜离子被分离出来形成电解铜。经过电解系统处理后的废蚀刻液，铜离子浓度下降，然后进入再生液调配系统，调配完后即回蚀刻机继续工作。东莞PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家

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