深圳线路板蚀刻液回用及提铜方法

蚀刻液废水中含有大量的铜离子，对酸性蚀刻液废水末端处理时对废液需要采用电解处理将废液中的铜离子提出来，电解后得到的电清液直接中和排放，在对污泥进行处理时，需要重新配置酸性溶液倒入污泥中以及棕化液中，将其中的 铜离子释放出来，通过电解的方式提取出来，酸性电解液在配置这一过程中比较浪费水资源，在配置酸性溶液时也较为浪费原料。将电解后得到的电清液通入污泥稀释仓内，酸性电清液对污泥进行稀释，污泥内的铜离子可充分混入电清液内，避免对污泥电解处理时再次配置酸性溶液造成的原料浪费，在将稀释污泥时可将棕化液通入污泥内，同时对其进行稀释，稀释后的到的含有铜离子的废液重新通入电解罐内进行电解，电解后的电清液通入污泥内继续进行稀释，通过循环作用直至污泥内的铜离子含量排放达标。碱性蚀刻液电解提铜系统主要能实现生产药水的循环使用，节省成本物料。深圳线路板蚀刻液回用及提铜方法

金属蚀刻液的配置问题：金属蚀刻液可在当地化工市场购买，玻璃蚀刻液可自行配置。金属蚀刻液可按盐酸8毫升、硝酸25.5毫升、铜末或银粉少许配置具有金色或银色蚀刻效果的蚀刻液。玻璃蚀刻液可按50℃至60℃热水18.4%、氢氟酸铵23.5%、草酸12.4%、硫酸铵15.7%、甘油6.5%、硫酸钡23.5%和少许有机染料配置各种颜色的蚀刻液。配方中的原料在各地化工商店均有售。加工前让消费者把玻璃或金属器皿洗涤干净，再少许加温以防炸裂，小件器皿直接放入热水中浸泡，大件用吹风机在器皿表面平均加热。深圳线路板蚀刻液回用及提铜方法蚀刻液回收氯化铵的处理系统，包括中和处理段、压滤段、离子交换处理段、蒸发段和后处理段。

酸性蚀刻液再生回用系统,所述酸性蚀刻液再生回用系统包括:蚀刻工位,所述蚀刻工位设有相连通的蚀刻机缸和废液收集桶;电解工位,所述电解工位设有电解装置,所述电极装置包括由隔膜分隔的阳极室和阴极室,所述阴极室连通于所述废液收集桶;以及再生工位,所述再生工位设有相连通的再生子液调配缸和再生子液吸收桶,所述再生子液调配缸连通于所述阴极室,所述再生子液吸收桶连通于所述阳极室和所述蚀刻机缸。本发明的技术方案提升再生液回用率,并且减少再生回用系统中配制再生子液时加入的补加剂量,从而有效地避免了蚀刻液体积膨胀的现象发生。

碱性氯化铜蚀刻液：适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。蚀刻过程中的主要化学反应：在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应：CuCl2＋4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中，板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化，其蚀刻反应如下：Cu(NH3)4Cl2＋Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子，不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下，能很快地被空气中的O2所氧化，生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子，其再生反应如下：2Cu(NH3)2Cl＋2NH4Cl＋2NH3＋1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2＋H2O从上述反应可看出，每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此，在蚀刻过程中，随着铜的溶解，应不断补加氨水和氯化铵。蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。

蚀刻：将覆铜箔板表面由化学药水蚀刻去除不需要的铜导体，留下铜导体形成线路图形，这种减去法工艺是当前印制电路板加工的主流。蚀刻溶液： 目前是以氯化铜与盐酸的酸性氯化铜蚀刻液，及以氯化铜与氨水的碱性氯化铜蚀刻液为主流。蚀刻操作条件：蚀刻操作条件是对温度、压力、时间以及溶液浓度等工艺参数的控制，使蚀刻过程处于良好状态。蚀刻设备是围绕着生产效率、蚀刻速度和蚀刻均匀性而不断改进。目前主流是水平传送喷淋式。固定式：早期的设备是一个槽缸，存放蚀刻液后，将PCB板浸泡在里面。缺点：放板取板效率低；蚀刻效率低；无法做细线路，线条宽度/间距在0。5mm以上。现有蚀刻液在蚀刻过程中，蚀刻的均一性很难把控，蚀刻偏差及蚀刻直线度等特性失去，影响产品质量。深圳线路板蚀刻液回用及提铜方法

蚀刻速率：蚀刻速率慢会造成严重侧蚀。深圳线路板蚀刻液回用及提铜方法

传统上，用于形成半导体电路中的硅晶片蚀刻，通常使用氢氟酸、硝酸、醋酸的混和溶液，根据需要结合使用磷酸和硫酸的混和溶液。这些溶液的比例根据加工设备类型的不同而改变的。当混合溶液在上述蚀刻过程中使用吋，硝酸和氢氟酸在不断地消耗，从而酸的比例不断地在改变。因此，为始终保持相同的蚀刻效果，氢氟酸和硝酸要及时补充。传统的方法是对每个使用后的混合液的成分进行单独的滴定定量分析来确定补充量，需要繁杂的操作和很长的时间，往往是由操作人员根据经验来判断。深圳线路板蚀刻液回用及提铜方法

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