北京维修真空镀膜机

【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高，水转印的用途越来越广fan。 适用材料： 所有的硬材料都适合水转印，适合喷涂的材料也一定适用于水转印。*常见的为注塑件和金属件。 工艺成本:无模具费用，但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印，时间成本一般每周期不会超过10分钟。 环境影响:和产品喷涂比较而言，水转印更充分的应用了印刷涂料，减少了废料泄漏和材料浪费的可能。 广东真空镀膜机厂家。北京维修真空镀膜机

【真空镀膜机之电镀工艺】利用电解作用使零件表面附着一层金属膜的工艺，从而起到防止金属氧化，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用，不少硬币的外层亦为电镀。 适用材料： 多数金属可以进行电镀 但是不同的金属具有不同等级的纯度和电镀效率。其中*常见的有：锡，铬，镍，银，金和铑； 常用于电镀的塑料为ABS。 3.镍金属不可用于电镀接触皮肤的产品，因为镍对皮肤有刺激性且有毒性。 工艺成本：无模具费用，但需要夹具对零件进行固定/时间成本取决于温度和金属种类/人力成本（中-高），取决于具体电镀件的种类，例如银器和珠宝的电镀就需要极高的熟练工人进行操作，因为其对外观和耐久性的要求很高 环境影响:da量有毒物质会被用在电镀过程中，所以需要专业的分流和提取，以确保*小的环境影响。 北京维修真空镀膜机真空镀膜机参数怎么调？

【真空镀膜机检漏之气压检漏】气压检漏被检零部件内腔充以气体(一般为空气)，充气压力的高低视零部件的强度而定，一般为(2~4)×105帕。充压后的零部件如发出明显的嘶嘶声，音响源处就是漏孔位置。用这种方法可检*小漏率为5帕·升/秒的漏孔。如不能用声音直接察觉漏孔，则用皂液涂于零部件可疑表面处，有气泡出现处便是漏孔位置。用这种方法*小可检漏率为5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，还可将充气的零部件浸在清净的水槽中，气泡形成处便是漏孔位置。用水槽显示漏孔，方便可靠，并能同时全部显示出漏孔位置。如气泡小、成泡速度均匀、气泡持续时间长，则为1.3×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如气泡da、成泡持续时间短，则为13~103帕·升/秒漏率的漏孔。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等*高，Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/离子。 离子可以直流辉光放电(glow discharge)产生，在10-1—10 Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。 正常辉光放电(glow discharge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。 任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。 真空镀膜机的培训资料。

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1 um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前*实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术 溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputter gun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30- 40%，圆柱型靶材料利用率>50% 溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse）， 直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。 射频：13.56MHZ，非导体用。 脉冲：泛用，*新发展出 真空镀膜机的工作原理和构成。北京维修真空镀膜机

离子真空镀膜机是什么？北京维修真空镀膜机

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件，为了获得原子态的清洁表面，消除其表面污染的标准方法是化学清洗，真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后)，由于真空系统内的各种零部件已经被固定，这时对它们进行除气处理就很困难，一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染)，通常要拆卸后重新处理再安装．而用反应气体工艺，可以进行原位在线除气处理．有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理：在系统中引述氧化性气体(O2、N0 )和还原性气体(H2、N H3)对金属表面进行化学反应清洗，消除污染，以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化／还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质，表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言，精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向，这些参数是不同的。北京维修真空镀膜机

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