江西tbd真空镀膜机

时间:2022年01月12日 来源:

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场,在此区电子密度高,进而提高离子密度,使得溅镀率提高(一个数量级),溅射速度可达0.1—1 um/min膜层附着力较蒸镀佳,是目前*实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术 溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室,排气系统,溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang(sputter gun)。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型,其中平面型分为矩型和圆型,靶材料利用率30- 40%,圆柱型靶材料利用率>50% 溅射电源分为:直流(DC)、射频(RF)、脉冲(pulse), 直流:800-1000V(Max)导体用,须可灾弧。 射频:13.56MHZ,非导体用。 脉冲:泛用,*新发展出 PVD真空镀膜机的公司。江西tbd真空镀膜机

【真空镀膜机清洗工艺之真空加热清洗】 将工件放置于常压或真空中加热.促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的,这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件.促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下,为了得到原子级清洁表面,加热温度必高于450度才行.加热清洗方法特别有效。但有时,这种处理方法也会产生副作用。由于加热的结果,可能发生某些碳氢化合物聚合成较da的团粒,并同时分解成碳渣。 江西tbd真空镀膜机真空镀膜机机组是怎样的?

【真空镀膜设备的维修及保养方法】 1.真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,应清洁工作室一次。 方法:用烧碱(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,( 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。 2.当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),需更换新油。 方法:拧开放油螺栓,放掉旧油,再将泵启动数秒,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上,换油时应将油盖打开,用布擦干净箱内污垢。 3.在重新开机前,要注意检漏。 方法:启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕,否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈,或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热,否则扩散泵油会烧环,真空镀膜设备无法进入工作状态。

【真空镀膜机电控柜的操作】 1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源 2、开总电源 3、开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。 4、开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。 5、观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。 真空镀膜机怎么保养?

【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料,把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的,它的温度可以单独控制。基片通常接地位,它和靶与高频电路无关,不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击,因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型,控温范围为-10℃~50℃,精度≤0。5℃),实现对样品台的单独控温,就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造,设计、加工了专门的金属样品架,放上样品后盖上金属压片,用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上,可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻,用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧,再用导线引出与高精度的万用表相连,以监测薄膜生长过程中的样品温度。真空镀膜机品牌有很多,你如何选择?江西tbd真空镀膜机

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