湖南光学镀膜机简介

时间:2022年02月17日 来源:

【光学镀膜之减反射膜技术】 1)镀膜前准备:镜片在接受镀膜前必须进行分子级的预清洗。在清洗槽中分别放置各种清洗液,并采用超声波加强清洗效果,当镜片清洗完后,放进真空舱内,在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。*后的清洗是在真空舱内,在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。*后的清洗是在真空舱内镀前进行的,放置在真空舱内的离子qiang将轰击镜片的表面(例如用氩离子),完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。 2)真空镀膜:真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于镜片的表面,同时在蒸发过程中,对镀膜材料的化学成分能严密控制。真空蒸发工艺能够对于膜层的厚度精确控制,精度达到。 3)膜层牢固性:对眼镜片而言,膜层的牢固性是至关重要的,是镜片重要的质量指标。镜片的质量指标包括镜片抗磨损、抗文化馆、抗温差等。因此现在有了许多针对性的物理化学测试方法,在模拟戴镜者的使用条件下,对镀膜镜片进行膜层牢度质量的测试。这些测试方法包括:盐水试验、蒸汽试验、去离子水试验、钢丝绒磨擦试验、溶解试验、黏着试验、温差试验和潮湿度试验等等。 光学镀膜机类型推荐。湖南光学镀膜机简介

【减反射膜的原理】 减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。 1)振幅条件:膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。 2)位相条件:膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时,d=555/4=139nm 对于减反射膜层,许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波(波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄(〈139nm),反射光会显出浅棕黄色,如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚( 〉139nm)。镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射,但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色,我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同,因此在镜片中yang部分呈绿色,而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。 3)镀减反射膜技术 :有机镜片镀膜的难度要比玻璃镜片高。玻璃材料能够承受300 °C以上的高温,而有机镜片在超过100 °C时便会发黄,随后很快分解。 湖南光学镀膜机简介光学镀膜机的主要应用。

【光学镀膜之蒸发源的类型和特点】 ①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质 。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。 ③电子束加热源:用电子束轰击材料使其蒸发。适用于蒸发温度较高(不低于2000℃)的材料。 特点:能在金属、半导体、绝缘体甚至塑料、纸张、织物表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜,其适用范围之广是其它方法无法与之比拟的。可以不同的沉积速率、不同的基板温度和不同的蒸气分子入射角蒸镀成膜,因而可得到不同显微结构和结晶形态(单晶、多晶或非晶等)的薄膜; 薄膜的纯度很高;易于在线检测和控制薄膜的厚度与成分;厚度控制精度*高可达单分子层量级。

【溅射镀膜的特点】溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅镀具有电镀层与基材的结合力强,电镀层致密,均匀等优点。溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及*有效率的生产 溅镀利用高压电场做发生等离子镀膜物质,使用几乎所有高熔点金属,合金和金属氧化物,如:铬,钼,钨,钛,银,金等.但加工成本相对较高。光学镀膜机哪个牌子的好?

【光学镀膜之何为溅射镀】用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。通常将欲沉积的材料制成板材──靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10~1帕的气体(通常为氩气),在阴极和阳极间加几千伏电压,两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极,与靶表面原子碰撞,受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。 ①反应溅射法:即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉积在基片上,适用溅射化合物膜。 ②高频溅射法。基片装在接地的电极上,绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地,一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后,高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上沉积。由于电子迁移率高于正离子,绝缘靶表面带负电,在达到动态平衡时,靶处于负的偏置电位,从而使正离子对靶的溅射持续进行,适用溅射绝缘膜。 光学镀膜机常见故障及解决方法。湖南光学镀膜机简介

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【减反射膜的透过量】 反射光占入射光的百分比取决于镜片材料的折射率,可通过反射量的公式进行计算。 反射量公式:R=(n-1)平方/(n+1)平方 R:镜片的单面反射量 n:镜片材料的折射率 例如普通树脂材料的折射率为1.50,反射光R=(1.50-1)平方/(1.50+1)平方=0.04=4%。 镜片有两个表面,如果R1为镜片前表面的量,R2为镜片后表面的反射量,则镜片的总反射量R=R1+R2。(计算R2的反射量时,入射光为100%-R1)。镜片的透光量T=100%-R1-R2。 由此可见,高折射率的镜片如果没有减反射膜,反射光会对戴镜者带来的不适感比较强烈。 湖南光学镀膜机简介

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