河南2019广州真空镀膜设备展会

时间:2022年03月01日 来源:

【离子镀的历史】: 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步,我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】: 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表 面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】: 优点:膜层附着力好,膜层致密,具有绕度性能,能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点:离子镀的应用范围不广;膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。真空镀膜设备品牌排行。河南2019广州真空镀膜设备展会

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜色差异】: 膜色差异有两种(不含色斑),一种时整罩上、中、下膜色不一致,即分光测试曲线有差异;二是单片膜色不一致。 改善对策: 1. 调整修正版,尽量考虑高低折射率膜料的平衡兼容,如果有两个蒸发源,可能的条件下,独li使用各自的修正板,避免干扰。 2. 条件许可,采用行星夹具。 3. 伞片整形。 4. 加强伞片管理。 5. 改善膜料状况 6. 能够自动预熔的膜料,尽量自动预熔 注:修正板对物理膜厚的修正有效,但对折射率的修正是力不从心的,所以完全靠修正板解决分光均匀性,是很困难的。如果一个修正板对应二把电子抢(蒸发源)、以及多种膜料,就会有较大困难。 河南2019广州真空镀膜设备展会真空镀膜设备技术教程。

【真空镀膜机概述】: 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子抢加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 真空镀膜机构造的五大系统:排气系统、控制系统、蒸镀系统、监控系统、辅助系统。 真空镀膜三要素:真空度、抽气时间、温度;任何镀膜工艺都需要为这三个要素设定目标值;因此,只有当三个条件同时满足时,自动化程序才会自动运行。 真空镀膜机需要做定期定期保养,目的在于:让镀膜机能长时间地正常运转;降低故障时间,避免影响产能,减少损失;提高机器精度,稳定品质;加快抽气速度,提升机器利用率等。

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜内色斑】: 色斑(也称膜色亚克、烧蚀)是指镜片上的膜色局部变异。有膜内色斑和膜外色斑二种。 膜内色斑改善对策: 1. 加快研磨(抛光)到镀膜的周期,减少镜片被污染服饰的几率,注意:是镜片的全部抛光面。 2. 抛光加工中,注意对另一已抛好光的面保护 3. 注意抛光加工中的工装、夹具、加工方法,以免造成对镜片表面局部腐蚀伤害 4. 抛光加工完成的光面,必须立即清洁干净,不能有抛光粉或其他杂志附着干结。 5. 控制研磨抛光液的PH值 6. 镀膜前,用抛光粉或碳酸钙粉对镜片抛光面复新。 7. 加强镀前的离子轰击 8. 对于可见光区减反膜,在满足技术要求的前提下设计制作成单峰形,反射色呈淡绿色,掩盖色斑。 9. 对于化学性能较好的镜片,在清洗前先用退膜液或稀酸液侵泡去除腐蚀斑 10. 选择合适的膜层匹配对色斑改善也有帮助 11. 提高基片镀制时的温度,加快水汽的彻底挥发。 12. 第yi层镀上Al2O3膜层一般会有好的改善效果。 成都国泰真空镀膜设备怎么样?

【离子镀膜法之直流二极型(DCIP)】: 直流二极型(DCIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化;被镀基体作为阴极,利用高电压直流辉光放电将充入的气体氩(Ar)(也可充少量反应气体)离化。这种方法的特点是:基板温升大、绕射性好、附着性好,膜结构及形貌差,若用电子束加热必须用差压板;可用于镀耐腐蚀润滑机械制品。 【离子镀膜法之多阴极型】: 多阴极型:利用电阻或电子束加热使膜材气化;依靠热电子、阴极发射的电子及辉光放电使充入的真空惰性气体或反应气体离化。这种方法的特点是:基板温升小,有时需要对基板加热;可用于镀精密机械制品、电子器件装饰品。 真空镀膜设备真空度多少?河南2019广州真空镀膜设备展会

真空镀膜设备的应用。河南2019广州真空镀膜设备展会

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜外自雾】: 现象:镀膜完成后,表面有一些淡淡的白雾,用丙tong或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。用氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻。 可能成因有: 1. 膜结构问题,外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙 2. 蒸发角过大,膜结构粗糙 3. 温差:镜片出罩时内外温差过大 4. 潮气:镜片出罩后摆放环境的潮气 5. 真空室内POLYCOLD解冻时水汽过重 6. 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀。 7. 膜与膜之间的应力 改善思路:膜外白雾成因很多但各有特征,尽量对症下药。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善环境减少吸附的对象。 改善对策: 1. 改善膜系,外层加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。 2. 降低出罩时的镜片温度 3. 改善充氧(加大),改善膜结构 4. 适当降低蒸发速率,改善柱状结构 5. 离子辅助镀膜,改善膜结构 6. 加上Polycold解冻时的小充气阀 7. 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解冻时的真空度。 河南2019广州真空镀膜设备展会

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