江苏真空镀膜设备jiage

时间:2021年09月26日 来源:

【真空镀膜设备的分类】: 这个问题如果在十年之前,其实是很容易回答的,就是两个大类,物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的,但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了,所以从应用领域上可以分成以下几类: 传统光学器件(镜片,滤光片)所用的镀膜设备:单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备,溅射式镀膜设备。 新材料领域的柔性设备:卷对卷柔性镀膜设备。 光通讯行业:离子束溅射镀膜设备。 半导体及相似工艺:化学气相沉积设备。 功能膜:多弧离子镀设备,溅射设备,蒸发设备 玻璃工艺:溅射式连续线 其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了,例如车灯镀膜设备,太阳能的共蒸发设备,光纤镀膜设备,太阳能管设备等等 真空镀膜设备大概多少钱一台?江苏真空镀膜设备jiage

【离子镀的历史】: 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步,我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】: 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表 面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】: 优点:膜层附着力好,膜层致密,具有绕度性能,能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点:离子镀的应用范围不广;膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。江苏真空镀膜设备jiage真空镀膜设备使用时,需要注意哪些问题?

【近些年来出现的新的镀膜方法】: 除蒸发法和溅射法外,人们又综合了这两种方法的优缺点,取长补短,发展出一些新的方法,如:等离子体束溅射等。这种崭新的技术结合了蒸发镀的高效和溅射镀的高性能特点,特别在多元合金以及磁性薄膜的制备方面,具有其它手段无可比拟的优点。高效率等离子体溅射(High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS))实际上是由利用射频功率产生的等离子体聚束线圈、偏压电源组成的一个溅射镀膜系统。这种离子体源装置在真空室的侧面。如图1所示。图2为实际的镀膜机照片。该等离子体束在电磁场的作用下被引导到靶上,在靶的表面形成高密度等离子体。同时靶连接有DC/RF偏压电源,从而实现高效可控的等离子体溅射。等离子体发生装置与真空室的分离设计是实现溅射工艺参数宽范围可控的关键,而这种广阔的可控性使得特定的应用能确定工艺参数Zui优化。 与通常的磁控溅射相比,由于磁控靶磁场的存在而在靶材表面形成刻蚀环不同,HiTUS系统由于取消了靶材背面的磁铁,从而能对靶的材料实现全mian积均匀。

【真空镀膜改善外层膜表面硬度】: 减反膜一般外层选用MgF2,该层剖面是较为松散的柱状结构,表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外层表面硬度的方法包括: 1. 在膜系设计允许的条件下,膜外层加10nm左右的二氧化硅膜层,二氧化硅的表面光滑度优于氟化镁(但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化镁)。镀膜后离子轰击几分钟,牢固度效果会更好。(但表面会变粗) 2. 镜片取出真空室后,放置在较为干燥洁净的地方,防止镜片快速吸潮,表面硬度降低。 真空镀膜设备故障解决方法?

【真空镀膜真空的基本概念】: 真空的划分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 极高真空 <10E&12Torr 流导(导通量):表示真空管道通过气体的能力,单位为升/秒(L/S)。一般情况下,管道越短,直径越大,表面越光滑,越直的管道流导也越大。 流量:单位时间内流过任意截面的气体量,单位为Torr·L/s或Pa·L/s。 抽气速率:在一定的压强和温度下,单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率,简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。 极限真空:真空容器经充分抽气后,稳定在某一真空度,此真空度称为极限真空。磁控溅射真空镀膜设备是什么?江苏真空镀膜设备jiage

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【真空镀膜设备之涡轮分子泵】: 涡轮分子泵:涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子,使气体产生定向流动而抽气的真空泵。主要用于高真空或超高真空,属于干泵,极限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可从50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速转动的涡轮转子携带气体分子而获得高真空、超高真空的一种机械真空泵。泵的转速为10000转/分到50000转/分,这种泵的抽速范围很宽,但不能直接对大气排气,需要配置前级泵。分子泵抽速与被抽气体的种类有关,如对氢的抽速比对空气的抽速大20%。 江苏真空镀膜设备jiage

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