苏州IC除胶清洗剂生产基地

IC芯片生产是一个高科技、高投入和高回报的行业，芯片工艺生产中所运用的清洗液，尤其是后段制程的有机溶剂，价格昂贵，成分保密，被国外化学品大厂垄断。IC清洁剂采用多种能生物降解表面活性剂，并添加多种助剂、缓蚀剂科学配制而成。，能够迅速除掉工件表面的各种油污，不腐蚀工件，并且具有短期防锈效果。也可用于大型设备的表面擦洗，具有低碱度、无腐蚀、操作简单、低温使用，节约能源，使用寿命长等特点。使用方法：本脱脂剂可用擦洗或浸泡式对工件表面进行清洗处理，配制方法：（按1000L计算）1：将清水加到处理槽容量的9成。2：慢慢加入100-公斤IC-502，边加边搅拌。（油污较重可适量提供使用比例）3：加入余量的水到1000L，并搅拌均匀。IC封装药水牢固地吸附在金属表面上的物理膜。苏州IC除胶清洗剂生产基地

翻新处理过程中，清洗是比较重要的环节，由于电路板与IC芯片等元器件回收来源复杂，表面污染物差异很大，除了常见的三防漆、松香残留、油脂、导电胶、导热膏、灰尘、设备长期运行产生的积碳等，还会混有其他生活和工业垃圾所带来的各种污染物。目前常用的主流环保清洗方法有以碳氢清洗剂为主的溶剂类清洗及高效水基清洗，碳氢清洗方法运行成本较高；水基清洗对某些污染物的去除能力有限，同时需要配置烘干环节。如正确选用合适的IC清洁剂，一般情况下可做到成本与清洁效果的兼顾。宁波芯片封装药水IC封装药水使金属基本停止溶解形成钝态达到防腐蚀的作用。

在IC除锈剂涂抹完20分钟时间里，必须保证生锈的表面尽量的湿润，如果效果不好，可以用IC除锈剂进行反复的擦拭；在擦拭完毕后，用清水冲洗表面，尽量是使用热水，这样可以让表面更快的干燥，同时还可以预防生锈。浸泡槽除锈法：在浸泡槽里水和IC除锈剂按照5比1的比例进行调和；除锈的温度保持常温即可，如果有条件可以将IC除锈剂进行加温，加温至上限70摄氏度即可；锈蚀的物体放在浸泡槽内浸泡的时间不能超过三个小时；浸泡完毕后，用清水冲洗表面，尽量是使用热水，这样可以让表面更快的干燥，同时还可以预防生锈。

硅晶圆经过SC-1和SC-2溶液清洗后，由于双氧水的强氧化力，在晶圆表面上会生成一层化学氧化层。为了确保闸极氧化层的品质，此表面氧化层必须在晶圆清洗过后加以去除。另外，在IC制程中采用化学汽相沉积法(CVD)沉积的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相应的清洗过程中有选择的去除。化学清洗是利用各种化学试剂和有机溶剂去除附着在物体表面上的杂质的方法。在半导体行业，化学清洗是指去除吸附在半导体、金属材料以及用具表面上的各种有害杂质或油污的工艺过程。IC封装药水在酸性、中性、碱性条件下均能溶解透明，且长期稳定。

IC清洁剂水清洗技术是今后清洗技术的发展方向，须设置纯净水源和排放水处理车间。IC清洁剂以水作为清洗介质，并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去水溶剂和非极性污染物。其清洗工艺特点是：安全性好，不燃烧、不炸裂，基本无毒；清洗剂的配方组成自由度大，对极性与非极性污染物都容易清洗掉，清洗范围广；多重的清洗机理。水是极性很强的极性溶剂，除了溶解作用外，还有皂化、乳化、置换、分散等共同作用，使用超声比在有机溶剂中有效得多；作为一种天然溶剂，其价格比较低廉，来源普遍。IC封装药水银封闭剂具有很强的耐硫化和耐盐雾性。江苏芯片封装药水供应

STM-C160除锈活化剂，单剂操作，配比浓度20-40%。苏州IC除胶清洗剂生产基地

IC除锈剂中盐酸可以清洗表面，提高酸洗效果，增快酸洗速度。该IC除锈剂在循环使用时，为进一步提高除锈速度、消除气味，可加入柠檬酸、盐酸配成的活化剂。柠檬酸可中和铁离子。盐酸可增加酸的能量。制备方法：先将有机酸、糊精、钼酸钠、磷酸和水放入混合罐内室温下匀速搅拌30min。然后在混合溶液中加入甘油，室温下匀速搅拌10min，搅拌转速为25r/min。接着在混合溶液中加入添加剂SI一1，室温下匀速搅拌30min，搅拌转速为25r/min。得到环保IC除锈剂。苏州IC除胶清洗剂生产基地

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