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在化学镀PCB药液溶液中加入一些加速催化剂，能提高化学镀镍的沉积速率。加速剂的使用机理可以认为是还原剂次磷酸根中氧原子被外来的酸根取代形成配位化合物，导致分子中H和P原子之间键合变弱，使氢在被催化表面上更容易移动和吸附。也可以说促进剂能起活化次磷酸根离子的作用。常用的加速剂有丙二酸、丁二酸、氨基乙酸、丙酸、氟化钠等。在化学镀镍溶液中，有时镀件表面上连续产生的氢气泡会使底层产生条纹或麻点。加入一些表面活性剂有助于工件表面气体的逸出，降低镀层的孔隙率。常用的表面活性剂有十二烷基硫酸盐、十二烷基磺酸盐和正辛基硫酸钠等。铝蚀刻液STM-AL10特点：单剂型产品，打开即可使用，拥有稳定的蚀刻速率表现。无硅除泡剂批发市场

去除前工序(主要指绿油)残留在板面的药水渍或严重氧化等铜面杂物，防止化学镍金出现由前工序引起的甩镍﹑金面颜色不良﹑渗镀等问题。需要注意的是，前处理若使用了水平微蚀剂，沉镍金制程中的微蚀缸仍需保留，但微蚀率达到0.5μm即可，否则易造成铜厚不足的问题。后处理：由于沉镍金表面正常情况下光洁度和平整度很好，所以轻微的金面氧化或水渍都会使金面颜色变得很难看。而沉镍金生产线纵然控制到较佳，也只能杜绝金面氧化，对于烘干缸因水珠而遗留的水渍实在是无能为力。清槽液销售PCB药水需储存在室温下，阴凉干燥处，避免阳光直射，作业场所请设置排气装置，以保持舒适的作业环境。

随着生产的进行，亚磷酸盐浓度会越来越高，于是反应速度受生成物浓度的长高而压制，所以镍缸寿命末期与初期的沉积速度相差1/3则为正常现象。但此先天不足可采用调整反应物浓度方式予以弥补，开缸初期Ni浓度控制在4.60g/L，随着MTO的增加Ni浓度控制值随之提高，直至5.0g/L停止。以维持析出速度及磷含量的稳定，以确保镀层品质。影响镍缸活性重要的因素是稳定剂的含量，常用的稳定剂是Pb(CH3COO)2或硫脲，也有两种同时使用的。稳定剂的作用是控制化学镍金的选择性，适量的稳定剂可以使活化后的铜面发生良好的镍沉积，而基材或绿油部分则不产生化学沉积。

PCB药水溶解能力：在清洗SMA时，由于元器件与基板之间、元器件与元器件之间及元器件带的I/O端子之间的距离非常微小，导致只有少量溶剂能接触器件底下的污染物。因此，必须采用溶解能力高的溶剂，特别是要求在限定时间内完成清洗时，如在联机传送带清洗系统中要这样考虑。但要注意到，溶解能力高的溶剂对被清洗零件的腐蚀性也大。多数焊膏和双波峰焊中采用松香基焊剂，所以，在比较各种溶剂的溶解能力时，对松香基焊剂剩余物要特别重视。化银STM-AG70：优良的接触性能，获得较好的铜/锡焊点，是几十年电子焊接行业的优先选择。

PCB药水适当时可考虑加热，但不可超过50℃，以免空气污染。另外，也有人认为活化带出的钯离子残液在水洗过程中会造成水解，从而吸附在基材上引起渗镀，所以，应在活化逆流水洗之后，多加硫酸或盐酸的后浸及逆流水洗的制程。事实上，正常情况下，活化带出的钯离子残液体，在二级逆流水洗过程中可以被洗干净。吸附在基材上的微量元素，在镍缸中不足以导致渗镀的出现。另一方面，如果说不正常因素导致基材吸附大量活化残液，并不是硫酸或盐酸能将其洗去，只能从根源去调整钯缸或镍缸。蚀刻液原料：硫酸钠：在蚀刻液中作为填充剂使用，一般选用工业产品。杭州铜退镀剂

蚀刻时，用毛笔蘸蚀刻液书写文字或图案于玻璃上，2min蚀刻工作即完成。无硅除泡剂批发市场

循环过滤泵﹑加热及打气装置：循环过滤泵，为保持槽液有一定的循环效果，除油﹑微蚀﹑活化﹑沉镍﹑沉金各缸都需要加装循环泵，除镍缸之外以上各缸还需加装过滤器，通过5μm滤芯来过滤槽液。对于镍缸其循环不但要求均匀，有利于PCB药液扩散和温度扩散，而且不能流速太快而影响化学镍金的沉积，通常其循环量6-7turnover为佳。同时镍缸还需过滤，以除去槽液中杂物。由于棉芯容易上镍，所以应首先考虑布袋式过滤系统。关于镍缸的溢流问题，由主缸流入副缸，更有利于药水扩散和温度平衡。无硅除泡剂批发市场

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