遂宁碱性蚀刻液回用及提铜工艺

碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤：所述萃取单元包含萃取槽和一个水洗槽，所述萃取槽上设有萃取剂溢流出口、蚀刻废液进口、蚀刻废液溢流出口，所述萃取剂溢流出口与一个水洗槽相连，所述蚀刻废液进口与蚀刻废液收集槽相连，所述蚀刻废液溢流出口与调配单元相连，一个水洗槽与反萃单元相连接。其中，所述反萃单元包括反萃槽和第二水洗槽，所述反萃槽上设有萃取剂溢流出口、反萃剂溢流出口和反萃剂入口，所述萃取剂溢流出口与第二水洗槽相连，所述反萃剂入口和溢流出口分别与电解单元相连接；且所述第二水洗槽与萃取槽相连。酸碱性蚀刻液回收利用的移动式集成装置,所述移动式集成装置包括集装箱本体。遂宁碱性蚀刻液回用及提铜工艺

提高酸性蚀刻液再生回用率的系统,其包括蚀刻产线,电解装置,添加装置,再生液调配装置以及再生液ORP提升装置,蚀刻产线的富铜酸性蚀刻废液经电解装置电解后成氯气和贫铜电解清液,贫铜电解清液与蚀刻产线的低ORP酸性蚀刻液混合形成再生酸性蚀刻液,再生液ORP提升装置对酸性蚀刻液进行逆流喷射,并与氯气碰撞,获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线。本申请通过再生液ORP提升装置的设置,获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线,以提高蚀刻产线上酸性蚀刻液的ORP,替代了传统蚀刻产线添加氧化剂与盐酸的方式,提高了蚀刻废液的再生回用率,降低了化学剂的使用和废水的排放。梧州蚀刻液回用及提铜设备哪家好溶铜能力高,蚀刻容易控制。

蝕刻液发展概况：印制线路板产业发展至今，蚀刻工艺过程所使用过的蚀刻液，已经更新至第四代产品。首代产品：盐酸—三氯化铁型蚀刻液，工艺稳定、操作方便、成本低廉,但污染严重、再生困难、废水治理困难，同时蚀刻速度也不快（20～30μm/min），溶铜量也不多（50～60g/L）。第二代产品：硫酸—过硫酸铵型蚀刻液（或铬酸）：蚀刻速度和溶铜量都较低,易分解,废液中含首类有害物质。这两代产品现已被淘汰。第三代产品：盐酸—双氧水型蚀刻液：组份简单,双氧水（35%）与盐酸（36%）按1：2的体积比配制、蚀刻速度可达25～30μm/min,溶铜量可达80～110g/L。至今仍有极少数企业在使用它。第四代产品：氯化铜型(酸性、碱性)蚀刻液：自1975年发明以来至今，被普遍使用，(性能特点将在下面将作重点论述）。

蚀刻液再生循环系统：在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到较佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度较佳水平，蚀刻用过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工艺的要求，又可节省生产成本。酸性蚀刻液技术领域,尤其为一种酸性蚀刻液循环回用装置,包括回用装置主体,除杂室,隔板以及分离室。

随着中国变革开放不断的深化,全中国的印制电路板(Printed Circuit Board,简称PCB)生产企业发展迅速,自2003年以来,中国已经成为世界PCB工业的第二生产大国,并且每年还以20%左右的发展速度增加。在电路板的生产过程中,蚀铜是一个非常重要的过程,每年都要消耗大量精铜并排出数量庞大的含铜量高的蚀刻废液(含铜120-180 g/L)。大部分企业采用抛弃法,即廉价地将废液卖给有回收资质的单位,用化学法回收废液中的铜,这不只造成企业本身的经济损失,污染源的转移还给环境造成了二次污染;还有部分企业采用化学试剂氧化再生法,虽然可以再生废液,但是会导致蚀刻液的体积不断增大,而且消耗了化学试剂,并且还是要面对废液的处理。因此,酸性蚀刻废液的的处理问题成为国内外研究的一项重要课题碱性蚀刻液的蚀刻速率快(可达70μm/min以上),侧蚀小。遂宁碱性蚀刻液回用及提铜工艺

碱性蚀刻液储罐和用于合成氯化铵的中和反应罐。遂宁碱性蚀刻液回用及提铜工艺

蚀刻液中的含氨尾气回收利用装置,包括吸收塔本体,副槽以及药水循环组件,所述的吸收塔本体包括进气孔和出液孔,出气孔,进液孔以及多面球;所述的吸收塔本体的出液孔通过管道与副槽连通,所述的副槽与药水循环组件之间通过管道连通,所述的药水循环组件与吸收塔本体的进液孔连通。本实用新型具有结构简洁,生产制造成本低,实用性强,且氨气回收利用率高,通过在吸收塔本体内填充多面球,可以有效的增加氨气和吸收液在吸收塔本体内的流动时间,增加收集后的含氨尾气与吸收液的接触时间,使得含氨尾气中的氨气能够充分的被吸收液吸收,提高含氨尾气的净化效率,降低了空气污染,降低生产成本,提高经济效益。遂宁碱性蚀刻液回用及提铜工艺

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