浙江eb光学镀膜机def报警是什么意思
【光学镀膜机的清洗】设备使用一个星期后,因镀料除镀在工件表面外,亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料,并越镀越厚,该层膜厚因组织、繞疏松,吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时,应对工作室及衬板进行清洗,如不必要拆落来的部件,可用砂纸打磨干净,衬板可浸泡在氢氟酸水溶液里,氢氟酸和水的比例看需要浸泡时间长短以及不伤衬板为原则。 注:衬板必须烘干水份才能安装,烘干前,衬板的水分尽量抹干,工作架等部件用砂纸清洁后,需要把真空室的所有灰尘清理干净,此可用吸尘器吸干净灰尘。*后安装衬板时,真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。 因使用电子qiang及离子源辅助镀膜,可能会造成清洁困难,可使用喷沙等方法来清洁。 光学镀膜机详细镀膜方法。浙江eb光学镀膜机def报警是什么意思
【光学薄膜的研究新进展之金刚石薄膜及类金刚石薄膜】金刚石被认为是自然界中*硬的物质。在自然界中,碳以3种同位素异型体的形式存在,非晶态的炭黑、六方片状结构的石墨和立方体的金刚石。金刚石薄膜具有高硬度、高密度、热导率高、全波段透光率高、高绝缘、抗辐射、化学惰性强和耐高温、弹性模量大,摩擦系数jin为0.05。金刚石薄膜的高热导率、高摩擦系数和良好的透光性也使其常作为导弹的整流罩材料。 类金刚石(diamond-likecarbon,DLC)薄膜是碳的一种非晶态,它含有大量的sp3键,硬度超过金刚石硬度20%的绝缘硬质无定形碳膜,被称为类金刚石膜,类金刚石膜具有高硬度、高电阻率、热传导率高、化学惰性强、良好的光学性能等,同时又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。随着人们研究的深入,人们发现类金刚石膜具有很大的研究价值和广fan的应用前景,引起学术界极大兴趣。美国已经将类金刚石薄膜材料作为国家21世纪的战略材料之一。 湖北真空光学镀膜机功能光学镀膜机厂家排名。
【光学薄膜制备技术之物理qi相学沉积(PVD)】 物理qi相沉积法,简单地说是在真空环境中加热薄膜材料使其成为蒸汽,蒸汽再凝结到温度相对低的基片上形成薄膜。根据膜料汽化方式的不同,又分为热蒸发、溅射、离子镀及离子辅助镀技术。 1) 热蒸发:光学薄膜器件主要采用真空环境下的热蒸发方法制造,此方法简单、经济、操作方便。 2) 溅射:指用高速正离子轰击膜料(靶)表面,通过动量传递,使其分子或原子获得足够的动能而从靶表面逸出(溅射),在被镀件表面凝聚成膜。其膜层附着力强,纯度高,可同时溅射多种不同成分的合金膜或化合物。 3) 离子镀:兼有热蒸发的高成膜速率和溅射高能离子轰击获得致密膜层的双优效果,离子镀膜层附着力强、致密。离子镀常见类型:蒸发源和离化方式。 4) 离子辅助镀:在热蒸发镀膜技术中增设离子发生器—离子源,产生离子束,在热蒸发进行的同时,用离子束轰击正在生长的膜层,形成致密均匀结构(聚集密度接近于1),使膜层的稳定性提高,达到改善膜层光学和机械性能。
【光学镀膜之反射膜】反射膜一般可分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。此外,还有将两者结合的金属电介质反射膜,功能是增加光学表面的反射率。 一般金属都具有较大的消光系数。当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。人们总是选择消光系数较大,光学性质较稳定的金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄材料是铝,在可见光区常用铝和银,在红外区常用金、银和铜,此外,铬和铂也常作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能,所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。 金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损大,反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜。需要指出的是,金属电介质射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率,却破坏了金属膜中性反射的特点。 光学镀膜机抽真空步骤。
【光学镀膜机的维护与保养之电子qiang安装与维护】电子qiang蒸发源控制系统是由电子qiang灯丝电源、高压电源、扫描电源、坩埚驱动电源、蒸发源等组成一个电子qiang控制电柜。 电子qiang控制电柜内含有高压,在工作前必须保证柜门各个联锁装置正常工作,非专业人员不得打开电柜门,电子qiang在工作时不得打开电柜门,整个电柜必须有良好的接地并与机台接地连接。 电子qiang蒸发源安装在真空室底板上,必须与底板有良好的接地效果,安装蒸发源必须使用不锈钢螺丝来固定,周边200mm以内不得有导磁的物体,否则会影响到电子qiang的光斑成表,造成电子性能的不良。电子qiang档板应尽量装在蒸发源坩埚的中心上30mm处,以不影响电子束的发射为好。 电子qiang蒸发源是一个精密机械加工体,在工作时必须保证有良好的冷却水,如过高的温度会影响电子束的成型及各密封圈的性能。 光学镀膜机技术教程。江苏光学镀膜机操作
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【光学镀膜之良好的薄膜需要具备哪些特性】 通俗的定义为在正常状况下,其应用功能不会失效。想要达到这个目的,一般而言这层薄膜必须具有坚牢的附着力、很低的内应力、针kong密度很少、够强的机械性能、均匀的膜厚、以及足够的抗化学侵蚀性。薄膜的特性主要受到沉积过程、成膜条件、接口层的形成和基材的影响,随后的热处理亦扮演重要角色。 沉积的薄膜有内应力的存在,其来源为: (1)薄膜和基材之间的晶格失配 (2)薄膜和基材之间的热膨胀系数差异 (3)晶界之间的互挤 浙江eb光学镀膜机def报警是什么意思
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