云南磁控真空镀膜设备
【离子镀膜法之活性反应蒸镀法】: 活性反应蒸镀法(ABE):利用电子束加热使膜材气化;依靠正偏置探极和电子束间的低压等离子体辉光放电或二次电子使充入的氧气、氮气、乙炔等反应气体离化。这种方法的特点是:基板温升小,要对基板加热,蒸镀效率高,能获得三氧化铝( AL2O3)、氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)等薄膜;可用于镀机械制品、电子器件、装饰品。 【离子镀膜法之空心阴极离子镀(HCD)】: 空心阴极离子镀(HCD):利用等离子电子束加热使膜材气化;依靠低压大电流的电子束碰撞使充入的气体Ar或其它惰性气体、反应气体离化。这种方法的特点是:基板温升小,要对基板加热,离化率高,电子束斑较大,能镀金属膜、介质膜、化合物膜;可用于镀装饰镀层、机械制品。 PVD真空镀膜设备公司。云南磁控真空镀膜设备
【溅射镀膜定义】: 定义:所谓溅射,就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下,形成气体等离子体(辉光放电),其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击,阳离子和靶材进行能量交换,使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出(其中逸出的还可能包含靶材离子)。这一整个的动力学过程,就叫做溅射。入射离子轰击靶面时,将其部分能量传输给表层晶格原子,引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位,并克服了表面势垒直接发生溅射;有的不能脱离晶格的束缚,只能在原位做振动并波及周围原子,结果使靶的温度升高;而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲,将其临近的原子碰撞移位,反冲继续下去产生高次反冲,这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面,克服势垒逸出,这就形成了级联溅射,这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时,动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略,这就是线性级联碰撞。 云南磁控真空镀膜设备广东真空镀膜设备厂家。
【真空镀膜真空的基本概念】: 真空的划分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 极高真空 <10E&12Torr 流导(导通量):表示真空管道通过气体的能力,单位为升/秒(L/S)。一般情况下,管道越短,直径越大,表面越光滑,越直的管道流导也越大。 流量:单位时间内流过任意截面的气体量,单位为Torr·L/s或Pa·L/s。 抽气速率:在一定的压强和温度下,单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率,简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。 极限真空:真空容器经充分抽气后,稳定在某一真空度,此真空度称为极限真空。
【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜脏】: 顾名思义,膜层有脏。一般的膜脏发生在膜内或膜外。脏也可以包括:灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等。 改善对策:检讨过程,杜绝脏污染。 1. 送交洗净或擦拭的镜片不要有过多的不良附着物。 2. 加强镀前镜片的洗净率或擦净率。 3. 改善上伞后待镀膜镜片的摆放环境,防止污染。 4. 养成上伞作业员的良好习惯,防止镜片污染。 5. 加快真空室护板更换周期。 6. 充气管道清洁,防止气体充入时污染。 7. 初始排期防涡流(湍流),初始充气防过充。 8. 镜片摆放环境和搬运过程中避免油污、水汽。 9. 工作环境改造成洁净车间。 10. 将镀膜机作业面板和主机隔开,减少主机产生的有害物质污染镜片。真空镀膜设备品牌推荐。
【真空镀膜设备之真空的测量】: 真空计: A、热偶规、皮拉尼规、对流规: 用来测粗真空的真空计,从大气到1E&5Torr,精度一般在10%,皮拉尼规精度高的可到5%, 反应较慢,受温度变化的影响较大。 B、离子规: 用来测高真空或超高真空的真空计,热灯丝的离子规测量范围一般从1E&4到1E&9Torr,特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr,精度在10%~20%,灯丝在工作时遇到大气会烧毁;冷阴极的离子规一般可以测到1E&11Torr,精度在20%~50%,特别是超高真空下测量精度很差,需要高压电源,探头内有磁铁,使用时不能用于某些无磁的场合。 C、电容式压力计: 探头Zui大压力从25000Torr到0.1Torr,动态范围大约104范围,比如,1Torr量程的Zui低是5E&4Torr,通常精度在读数的0.25%,可以高到0.15%。 D、宽量程真空计: 皮拉尼规和热灯丝离子规的组合,两个规可以自动切换,在低真空时切换到皮拉尼规,高真空时可切换到离子规。真空镀膜设备故障维修技巧有哪些?云南磁控真空镀膜设备
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【离子镀膜法之直流二极型(DCIP)】: 直流二极型(DCIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化;被镀基体作为阴极,利用高电压直流辉光放电将充入的气体氩(Ar)(也可充少量反应气体)离化。这种方法的特点是:基板温升大、绕射性好、附着性好,膜结构及形貌差,若用电子束加热必须用差压板;可用于镀耐腐蚀润滑机械制品。 【离子镀膜法之多阴极型】: 多阴极型:利用电阻或电子束加热使膜材气化;依靠热电子、阴极发射的电子及辉光放电使充入的真空惰性气体或反应气体离化。这种方法的特点是:基板温升小,有时需要对基板加热;可用于镀精密机械制品、电子器件装饰品。 云南磁控真空镀膜设备
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