辽宁粉末喷涂报价

时间:2022年08月25日 来源:

反应性离子镀

如果采用电子束蒸发源蒸发,在坩埚上方加20V~100V的正偏压。在真空室中导入反应性气体。如N2、O2、C2H2、CH4等代替Ar,或混入Ar,电子束中的高能电子(几千至几万电子伏特),不仅使镀料熔化蒸发,而且能在熔化的镀料表面激励出二次电子,这些二次电子在上方正偏压作用下加速,与镀料蒸发中性粒子发生碰撞而电离成离子,在工件表面发生离化反应,从而获得氧化物(如TeO2:SiO2、Al2O3、ZnO、SnO2、Cr2O3、ZrO2、InO2等)。其特点是沉积率高,工艺温度低。 常州市丰裕科技有限公司主营金属喷涂,若有需要,欢迎来电详谈。辽宁粉末喷涂报价

微弧氧化是在铝镁、钛及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,生长出以基体氧化物为主的陶瓷膜层。反应在常温下进行,操作方面,易于掌握。

激光熔覆作为一种新型高效涂层制备工艺,以其凝固速率快,能够获得平衡状态下无法获得的优异组织等特点受到关注。它有利于目前纳米陶瓷涂层制备中材料晶粒过度生长、致密度不高等问题的解决。

磁控溅射镀膜通常利用氩气电离产生的正离子轰击固体(靶),溅出的中性原子沉积到基片(工件上),形成镀膜。 江西防静电涂层喷涂多少钱常州市丰裕科技有限公司主营碳化钨喷涂,若有需要,欢迎致电详谈。

等离子喷涂的焰流速度快、温度快,特别适用于喷涂陶瓷等高熔点材料。与其它技术相比,用等离子喷涂制备纳米陶瓷涂层,工艺简单、选材多样、沉积效率高等。

电泳沉积是一种温和的表面涂覆方法,可避免采用传统高温涂覆而引起的相变和脆裂,且电泳沉积技术适用于形状复杂的零件。电泳沉积是带电粒子的定向移动,不会因电解水溶剂时产生的大量气体影响涂层与金属基体的结合力。

热化学反应法制备金属基陶瓷涂层,是采用水基黏结剂,混以陶瓷骨料,搅拌成悬浮料浆,涂在经过预处理的金属表面上,阴干、高温固化处理而成,高温固化时发生热化学反应产生新的复合陶瓷相,亦称固相反应法。其优点是工艺简单,无需特殊设备,成本低廉,涂层与基体表面既有机械结合,又有化学结合;缺点是结合强度较低,涂层不致密等。

真空蒸镀的基本工艺过程如下:

(1)镀前处理,包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。具体预处理有除静电,涂底漆等。

(2)装炉,包括真空室清理及镀件挂具的清洗,蒸发源安装、调试、镀件褂卡。

(3)抽真空,一般先粗抽至6.6Pa以上,更早打开扩散泵的前级维持真空泵,加热扩散泵,待预热足够后,打开高阀,用扩散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。

(4)烘烤,将镀件烘烤加热到所需温度。

(5)离子轰击,真空度一般在10Pa~10-1Pa,离子轰击电压200V~1kV负高压,离击时间为5min~30min,

(6)预熔,调整电流使镀料预熔,除气1min~2min。

(7)蒸发沉积,根据要求调整蒸发电流,直到所需沉积时间结束。

(8)冷却,镀件在真空室内冷却到一定温度。

(9)出炉,取件后,关闭真空室,抽真空至l×l0-1Pa,扩散泵冷却到允许温度,才可关闭维持泵和冷却水。

(10)后处理,涂面漆。 常州市丰裕科技有限公司主营碳化钨喷涂,若有需要,欢迎来电详谈。

PVD(物理类气相沉积)镀膜技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。

近十多年来,真空离子镀膜技术的发展是迅捷的,它已经成为当今优异的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。

物理类气相沉积(PVD)

物理类气相沉积是通过蒸发,电离或溅射等过程,产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理类气象沉积方法有真空镀,真空溅射和离子镀三种,应用较广的是离子镀。

离子镀是借助于惰性气体辉光放电,使镀料(如金属钛)气化蒸发离子化,离子经电场加速,以较高能量轰击工件表面,此时如通入CO2,N2等反应气体,便可在工件表面获得TiC、TiN覆盖层,硬度高达2000HV。离子镀的重要特点是沉积温度只有500℃左右,且覆盖层附着力强,适用于高速钢工具,热锻模等。 常州市丰裕科技有限公司主营喷涂业务,若有需要,欢迎咨询。河北碳化钨喷涂价钱

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离子镀技术在1963年由D.M.Mattox提出,1972年,Bunshah&Juntz推出活性反应蒸发离子镀(AREIP),沉积TiN,TiC等超硬膜,1972年Moley&Smith发展完善了空心热阴极离子镀,l973年又发展出射频离子镀(RFIP)。20世纪80年代,又发展出磁控溅射离子镀(MSIP)和多弧离子镀(MAIP)。

离子镀的基本特点是采用某种方法(如电子束蒸发磁控溅射,或多弧蒸发离化等)使中性粒子电离成离子和电子,在基体上必须施加负偏压,从而使离子对基体产生轰击,适当降低负偏压后,使离子进而沉积于基体成膜。离子镀的优点如下:

①膜层和基体结合力强。

②膜层均匀,致密。

③在负偏压作用下绕镀性好。

④无污染。

⑤多种基体材料均适合于离子镀。 辽宁粉末喷涂报价

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