3D IC纳米压印售后服务
为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。
通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。
*根据ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生产**小40 nm *或更小的结构
联合预处理(清洁/涂层/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化时间**快
优化的模块化平台可实现高吞吐量
*分辨率取决于过程和模板 SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。3D IC纳米压印售后服务
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EVG610特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG610附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG610技术数据:
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
自动分离:不支持
工作印章制作:外部
3D IC纳米压印售后服务步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。
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纳米压印应用三:连续性UV纳米压印
EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。
EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的纳米压印光刻(NIL) - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。
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HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米
结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统,将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统,以比较好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。
EVG ® 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。3D IC纳米压印售后服务
HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。3D IC纳米压印售后服务
HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)
■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配,压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
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