上海激光干涉仪仪器

被光束照射到的电子会吸收光子的能量，但是其中机制遵照的是一种非全有即全无的判据，光子所有能量都必须被吸收，用来克服逸出功，否则这能量会被释出。假若电子所吸收的能量能够克服逸出功，并且还有剩余能量，则这剩余能量会成为电子在被发射后的动能。逸出功 W 是从金属表面发射出一个光电子所需要的较小能量。如果转换到频率的角度来看，光子的频率必须大于金属特征的极限频率，才能给予电子足够的能量克服逸出功。逸出功与极限频率之间的关系为其中，h是普朗克常数， W是光频率为的光子的能量。克服逸出功之后，光电子的比较大动能  为其中，hv 是光频率为 v的光子所带有并且被电子吸收的能量。实际物理要求动能必须是正值，因此，光频率必须大于或等于极限频率，光电效应才能发生。皮 米 精 度 位 移 传 感 器。上海激光干涉仪仪器

半导体应变片:用于车辆等机械量测量的元件.半导体应变片是将单晶硅锭切片、研磨、腐蚀压焊引线，结尾粘贴在锌酚醛树脂或聚酰亚胺的衬底上制成的。是一种利用半导体单晶硅的压阻效应制成的一种敏感元件。利用半导体单晶硅的压阻效应制成的一种敏感元件，又称半导体应变片。压阻效应是半导体晶体材料在某一方向受力产生变形时材料的电阻率发生变化的现象（见压阻式传感器）。半导体应变片需要粘贴在试件上测量试件应变或粘贴在弹性敏感元件上间接地感受被测外力。广东激光干涉仪高精度测量环境补偿模块（ECU）。

高灵敏，高分辨，小型化。如将光谱仪集成到一块电路板上。

标准化。通讯接口过去常用GPIB，RS232，目前有可能成为替代物的高性能标准是USB、IEEE1394和VXI。现在，技术前面者设法控制技术标准，参与标准制订是仪器开发的基础研究工作之一。

配合数控设备的技术创新(如主轴速度，精度创成)

数控设备的主要误差来源可分为几何误差（共有21项）和热误差。对于重复出现的系统误差，可采用软件修正；对于随机误差较大的情况，要采用实时修正方法。对于热误差，一般要通过温度测量进行修正。

薄膜型半导体应变片

这种应变片是利用真空沉积技术将半导体材料沉积在带有绝缘层的试件上或蓝宝石上制成的。它通过改变真空沉积时衬底的温度来控制沉积层电阻率的高低，从而控制电阻温度系数和灵敏度系数。因而能制造出适于不同试件材料的温度自补偿薄膜应变片。薄膜型半导体应变片吸收了金属应变片和半导体应变片的优点，并避免了它的缺点，是一种较理想的应变片。

外延型半导体应变片

这种应变片是在多晶硅或蓝宝石的衬底上外延一层单晶硅而制成的。它的优点是取消了P-N结隔离，使工作温度大为提高(可达300℃以上)。 激光电流以高频调幅（~MHz）。

电压影响

1 当电压自额定值偏离±10%(对比率表和由化学电源和交流电网作供电电源的兆欧表)、±15%(对整流系仪表和钳形表)或±20%(对其它仪表)时，由此引起仪表指示值的改变应不超过规定值。仪表辅助电路用电源、由内附手摇发电机作供电电源的兆欧表，当其电压自额定值偏离±10%时，指示值改变应不超过表7 规定值的一半。指示值改变的表示方法与基本误差表示方法相同。试验在标度尺的几何中心附近和上量限附近的两点进行，整步表在同步点进行。如果在仪表上注明额定电压范围，则在此范围内的任一电压下，仪表基本误差应不超过规定值。

2 检验电压影响时应遵守有关规定(对电压的规定除外)，且应除去变差影响(可轻敲表壳)。检验相位表和功率因数表时，在额定电流下进行；检验功率表时在额定功率因数下进行。 寄生（错误）运动将被确定。福建激光干涉仪多层厚度测量

电机振动的非接触频率分析。上海激光干涉仪仪器

结构原理：普通电流互感器结构原理：电流互感器的结构较为简单，由相互绝缘的一次绕组、二次绕组、铁心以及构架、壳体、接线端子等组成。其工作原理与变压器基本相同，一次绕组的匝数（N1）较少，直接串联于电源线路中，一次负荷电流(I1)通过一次绕组时，产生的交变磁通感应产生按比例减小的二次电流（I2）；二次绕组的匝数（N2）较多，与仪表、继电器、变送器等电流线圈的二次负荷（Z）串联形成闭合回路，由于一次绕组与二次绕组有相等的安培匝数，I1N1=I2N2，电流互感器额定电流比电流互感器实际运行中负荷阻抗很小，二次绕组接近于短路状态，相当于一个短路运行的变压器。上海激光干涉仪仪器