关于软板特点

布线图柔性线路板软板设计的基本方法:（５）强电流引线（公共地线，功放电源引线等）应尽可能宽些，以降低布线电阻及其电压降，可减小寄生耦合而产生的自激。（６）阻抗高的走线尽量短，阻抗低的走线可长一些，因为阻抗高的走线容易发笛和吸收信号，引起电路不稳定。电源线、地线、无反馈元件的基极走线、发射极引线等均属低阻抗走线，射极跟随器的基极走线、收录机两个声道的地线必须分开，各自成一路，一直到功效末端再合起来，如两路地线连来连去，极易产生串音，使分离度下降。高速软板信号，在层与层之间切换的时候必须保证特性阻抗的连续，否则会增加EMI的辐射。关于软板特点

 很多人对直角走线都有这样的理解,认为容易发射或接收电磁波,产生EMI,这也成为许多人认为不能直角走线的理由之一。然而很多实际测试的结果显示,直角走线并不会比直线产生很明显的EMI。也许目前的仪器性能,测试水平制约了测试的精确性,但至少说明了一个问题,直角走线的辐射已经小于仪器本身的测量误差。总的说来,直角走线并不是想象中的那么可怕。至少在GHz以下的应用中,其产生的任何诸如电容,反射,EMI等效应在TDR测试中几乎体现不出来,高速软板设计工程师的重点还是应该放在布局,电源/地设计,走线设计,过孔等其他方面。当然,尽管直角走线带来的影响不是很严重,但并不是说我们以后都可以走直角线,注意细节是每个工程师必备的基本素质,而且,随着数字电路的飞速发展,软板工程师处理的信号频率也会不断提高,到10GHz以上的RF设计领域,这些小小的直角都可能成为高速问题的重点对象。河南柔性软板能否在做FPC时对元件符号的某些部分加以修改或删除？

布线的方式也有两种，手工布线和自动布线。PowerFPC软板提供的手工布线功能十分强大，包括自动推挤、在线设计规则检查（DRC），自动布线由Specctra的布线引擎进行，通常这两种方法配合使用，常用的步骤是手工—自动—手工。1. 自动布线前，先用手工布一些重要的网络，比如高频时钟、主电源等，这些网络往往对走线距离、线宽、线间距、屏蔽等有特殊的要求；另外一些特殊封装，如BGA，自动布线很难布得有规则，也要用手工布线。2. 自动布线以后，还要用手工布线对FPC软性线路板的走线进行调整。

微光电子机械系统(MOEMS)是一种新兴技术，日前已成为全球热门的技术之一。MOEMS是利用光子系统的微电子机械系统(MEMS)，内含微机械光调制器、微机械光学开关、IC及其他构件，并利用了MEMS技术的小型化、多重性、微电子性，实现了光器件与电器件的无缝集成。简单地说，MOEMS就是对系统级芯片的进一步集成。与大规模光机械器件相比，PCB设计MOEMS器件更小、更轻、更快速(有更高的谐振频率)，并可采用批量制作技术。与波导方式相比，这种自由空间方式优点是具有较低的耦合损耗和较小的串话。光子学和信息技术的变革直接促进了MOEMS的发展，图1示出了微电子学、微机械学、光电子学、纤维光学、MEMS与MOEMS的关系。如今信息技术迅速发展、不断更新，到2010年光开天速度可达Tb／s。日益增长的数据率和更高性能的新一代设备需求，驱动了对MOEMS和光互连的需求，使软板设计MOEMS器件在光电子学领域的应用不断增长。用PROTEL画图，反复修改后，发现线路板软板文件体积非常大（虚肿），导出后再导入就小了许多。

对软板中特别重要的信号线或局部单元实施地线包围的措施.该措施在Protel软件中也能自动实现,它就是“Edit”菜单的“Place”下的“Outline Select-ed Items”,即:绘制所选对象的外轮廓线.利用此功能,可以自动地对所选定的重要信号线进行所谓的“包地”处理,当然,把此功能用于时钟等单元局部进行包地处理对高速系统也将非常有益. 各类信号走线不能形成环路,地线也不能形成电流环路.Protel自动布线的走线原则除了前面所讲的短化原则外,还有基于X方向、基于Y方向和菊花状(daisy)走线方式,采用菊花状走线能有效避免布线时形成环路.具体可打开"Netlist”菜单的“Edit Net”子菜单,出现一个“Change Net”对话框,把此对话框中的“Optimize Method(布线优化模式)”选为“Daisy Chain”即可. 直接画FPC软板时，如何为一个电路接点定义网络名？河南柔性软板

软板可不可以做不对称焊盘？拖动布线时相连的线保持原来的角度一起拖动？关于软板特点

一般软板采用光刻技术制作结构图形。此外，无掩膜光刻技术也可用于制作常规图形。如用于聚合物一类光敏材料的表面。为了获得低折射率表面，也可制作二维图形，该表面可取代传统的多层抗反射涂层，并可用于MOEMS以改善其性能。所采用的材料及其淀积技术类似于标准的IC工艺，如Si热氧化、LPCVD、PECVD、溅射、电镀等，也可采用不同类型的湿法腐蚀和干法腐蚀技术。例如，通过湿法各向异性腐蚀可很精确地制作SiV形槽，并用于光纤与光电器件的对准与封装。通过湿法反应离子刻蚀(DRIE)和表面微机械加工可制作微反射镜。采用精珩磨技术也可获得具有大纵模比的非平面结构。关于软板特点

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