山西专业纯水设备工程

水是药物生产中用量比较广的一种基本原料，用于生产过程及药物制剂的制备，制药用水是制药业的生命线。纯化水设备系统采用当今先进RO及EDI纯化水工艺，产水水质满足客户的生产用水要求，符合GMP、FDA等认证要求。医疗器械纯化水设备系统整体人性化设计，模块化安装，占地面积小，操作简单方便，运行稳定节能。

二、医疗器械纯化水设备的工艺流程1、原水→原水增压泵→多介质过滤器→软水器→活性碳过滤器→精密过滤器→一级反渗透→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→用水点→紫外线杀菌器→消毒装置2、原水→原水增压泵→多介质过滤器→软水器→活性碳过滤器→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→用水点→紫外线杀菌器→消毒装置3、原水→原水增压泵→多介质过滤器→软水器→活性碳过滤器→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→二级反渗透→EDI系统→纯化水箱纯水泵→用水点→紫外线杀菌器→消毒装置 第二级：UDF滤芯吸附水中之巽味、巽色、余氯、卤代烃及有机物等对有人体有害的物质。山西专业纯水设备工程

在晶体管和集成电路的半导体行业生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。集成电路生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片，水质的好坏与集成电路产品的质量和生产量有很大关系。在电子元器件的生产中，超纯水主要用于清洗水和用于配制各种溶液、浆液，不同的电子元器件在生产中对纯水和水质的要求是不同的。半导体纯水设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。广东实验纯水设备装置反渗透水处理设备在商业行为之中大有用武之地。

反渗透设备是一种高效的水处理设备，可以有效地去除水中的溶解性盐类、有机物，以及微生物等有害物质。1.去除溶解性盐类：反渗透设备采用的半透膜孔径通常很小，为0.0001微米，只有普通过滤器的数十分之一，可以过滤掉水中的大部分溶解性盐类和矿物质，如铁、锰、钠、钾、镁、钙等。此外，反渗透设备还可以去除水中的硝酸盐、氯化物、硫酸盐等。2.去除有机物：反渗透设备中的半透膜具有微孔结构，可以有效地过滤掉水中的有机物，如悬浮颗粒、胶体、蛋白质、细菌、病毒等微生物。3.去除微生物：反渗透设备通过紧密的半透膜过滤，可以有效地去除水中的微生物，如细菌、病毒、霉菌等，从而保证出水安全卫生。

在电子工业主要是线路板、电子元器件生产都需要使用超纯水设备，这类产品精密度非常高，在生产过程中的重要度也在不断的提升，已经慢慢成为能影响产品生产质量的重要因素。一款好的超纯水设备，能将生产线路板、电子元器件生产过程中直接影响到实验结果和生产结果的金属离子降到很低，使生产品质得到不错的提升。

在晶体管、集成电路生产中，超纯水设备主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水设备清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。 受材料影响，可以试验复合膜的酸碱值不同，大多数复合膜都能承受4 ~ 7之间的酸碱值。

2、医药纯水设备--自动反冲刷活性炭过滤罐活性炭具有很多的微孔和巨大的比表面积，选用的是1000-1200高碘值吸附能力的椰壳活性炭，具有很强的物理吸附能力，能够非常有用的吸附水中杂质，尤其是有机物和微生物。活性炭外表形成的含氧催化氧化和化学吸附的功用，能够去除一部分水中的金属离子。能够去除一部分水中尚存的余氯有很强的吸附效果，以维护反浸透膜不被氧化。3、医药纯水设备--自动反冲、再生软化罐软化罐内填充钠型阳离子交换树脂。经过树脂的离子交换反应，下降水的硬度，防止钙、镁离子与碳酸根，硫酸根离子结合，在后续反浸透水处理设备或管道中结垢。水源的质量不稳定，会对后续的处理工艺带来很大的干扰。重庆大型纯水设备工艺

6、根据自己的用水量来选择设备的型号。山西专业纯水设备工程

1、水处理设备在施工、调试及验收过程中，凡涉及机械安装、管道施工、焊接工艺、监测仪表及程序控制等部分，应参照设计规定、国家标准和相应的技术条件进行配合使用。2、水处理设备的施工，应按设计图纸和制造厂的有关技术文件进行。设备就位前，建设单位应会同安装、土建施工、监理等单位共同检查以下各项：(1)设备基础的几何尺寸、相应位置及标高应符合设计要求;(2)钢筋混凝土梁、柱及设备基础上的预埋件及预留孔洞，其尺寸、位置应符合设计要求;(3)平底水箱设备基础上应做垫层，垫层的中心向外应有坡度，中心比边缘应高出15mm~20mm。山西专业纯水设备工程