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本实用新型涉及真空设备领域，尤其涉及一种真空反应腔室和真空镀膜设备。背景技术：目前，真空设备，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等离子体增强化学气相沉积）和pvd（physicalvaporde****ition，物宝来利相沉积）设备已被广泛应用于各种产品的生产过程中，如光伏电池、半导体器件等等。真空设备中(如pecvd设备、pvd设备)的宝来利真空反应室通常为单个反应腔室，传动部件和升降部件等机械模块部件以及溅射靶材等工艺模块部件均设置于该单个反应腔室内，这就造成反应腔室内的工艺环境不够封闭，容易造成工艺环境污染。另外，设置单个反应腔室时，由于工艺反应区域较大，容易造成工艺所需原料的浪费，同时，还会造成工艺反应过程中温度波动大，不可控因素较多，从而影响工艺过程。技术实现要素：本实用新型的宝来利真空目的在于提供一种真空反应腔室，以解决现有真空设备中由于只设置一个反应腔室造成的工艺环境易被污染、工艺原料易被浪费、环境温度可控性低等问题。本实用新型的第二目的在于提供一种包含本实用新型真空反应腔室的真空镀膜设备。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种真空反应腔室，包括：用于提供真空环境的外腔体。江苏光学镜片真空镀膜机品牌品质真空镀膜机，请选丹阳市宝来利真空机电有限公司，有需要可以电话联系我！

通孔41从上至下向外倾斜，通孔41的内部固定安装有喷头42。铰接的前罐体2和后罐体3方便开合，驱动装置5能带动清理装置4中的u形架44、刮板43转动，使刮板43剐蹭后罐体3、前罐体2的内表面，从上至下向外倾斜通孔41能够与喷头42配合，将清洗液喷洒在后罐体3、前罐体2的内表面。驱动装置5包括半圆板52，前罐体2的前表面上侧开设有与半圆板52匹配的半圆槽51，半圆板52的上表面开设有转轴通孔53，半圆板52的上表面固定安装有防护罩55和减速电机54，防护罩55罩接在减速电机54的外侧，减速电机54的输出轴转动安装在转轴通孔53的内部，减速电机54输出轴的下端与u形架44固定装配。驱动装置5中的半圆板52起支撑作用，与半圆槽51配合不妨碍后罐体3和前罐体2的盖合，减速电机54能够带动u形架44、刮板43在后罐体3和前罐体2的内部转动，防护罩55能够保护内部的减速电机54，起防尘、保护作用。前罐体2的下表面后侧安装有集料盒7，集料盒7包括出料口71，出料口71的下侧固定安装有外螺管72，外螺管72的外侧螺接有收集盒73。集料盒7能够通过出料口71、外螺管72、收集盒73，方便收集并清理清理装置4剐蹭下来的碎屑。控制箱1的内部左侧固定安装有清洗箱8和泵6，清洗箱8固定安装在泵6的右侧。

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所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型一种实施方式的真空反应腔室，其结构如图1和图2所示，包括：用于提供真空环境的外腔体10，以及位于所述外腔体10内的用于进行工艺反应的内反应腔20；所述内反应腔20的侧壁上设有自动门23，所述自动门23连接自动门控制器，工件自所述外腔体10经所述自动门23进入所述内反应腔20中。本实施方式提供的真空反应腔室，外腔室和内反应腔20为嵌套结构，其内反应腔20位于外腔室内。该结构中，相当于设置了两个腔室，其中外腔体10用于隔绝大气，提供真空环境，而内反应腔20中的区域为工艺反应区，形成相对封闭的工艺环境，相关工艺反应在内反应腔20中进行。由于采用双腔室结构，可以将工艺模块部件设置于内反应腔20中，而与工艺反应无直接关系的机械模块部件则被设置于外腔室中。经抽真空处理后，位于外腔体10中的工件再经自动门23进入内反应腔20中进行工艺反应，可以有效避免设备杂质和工件杂质进入内反应腔20中。该结构可以避免工艺环境外的污染源进入工艺反应区域。上海手表真空镀膜机规格