上海Nanoscribe灰度光刻3D打印
如何减少甚至避免因此带来的柔软样品表面的形变,以实现对原始表面的精确成像一直是一个重要议题。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统,双光子聚合技术是实现微纳尺度3D打印特别有效的技术,其打印物体的特别小特征尺寸可达亚微米级,并可达到光学质量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及非常普遍的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X,适用于制造微光学衍射以及折射元件。上海Nanoscribe灰度光刻3D打印
Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及非常广的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中,超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。上海Nanoscribe灰度光刻3D打印如果了解双光子灰度光刻技术,欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。
作为欧盟光子计算项目PHOENICS(2020Horizont欧盟地平线科研项目)的成员,Nanoscribe携手德国明斯特大学,与全球光子计算领域的**一起,展开了为期四年的科研项目,以实现超高宽带的高能效千兆计算处理能力,用于新一代人工智能(AI)应用的计算平台。Nanoscribe将为光子封装技术开发新的硬件和软件解决方案。各种不同光子平台都有着不同类型的光子耦合接口,而这正是光子封装系统工业化的主要困难和挑战。双光子无掩模光刻系统QuantumX作为硬件载体框架,并计划建立一个先进的平台,成为下一代光子封装技术的行业榜样。
国际上,激光直写设备是光掩模制备的主要工具,尤其在高世代TFT-Array掩模的平面图形,面积可达110英寸(瑞典MICRONIC)单价高于1.5亿元/套,制备一个线宽分辨率1.5微米的110吋光掩模单价500万RMB;然而,这种激光直写设备并不适用于微纳3D形貌结构和深纹图形制备。已有的基于蓝光405nm直接成像光刻(DIL)适合光刻分辨率较低的图形,也不适用于3D结构的灰度光刻。因此,面向柔性光电子材料与器件的需求,必须攻克大面积3D形貌的微结构的高效高精度制备,解决海量数据高效率转化、高精度数据迭代与叠加曝光,高速率飞行直写技术的难题。想要了解更多双光子灰度光刻技术,请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。
微凹透镜阵列结构是光学器件中的一种常见组件,具有较强的聚焦和成像能力。以往制备此类结构的方法有热回流、灰度光刻、干法刻蚀和注射浇铸等。受加工手段的限制,传统的微透镜阵列往往是在1个平板衬底上加工出一系列相同尺寸的凹透镜结构,这样的1组微透镜阵列无法将1个平面物体聚焦至1个像平面上,会产生场曲。在商业生产中,为了消除场曲这种光学像差,只能在后续光路中引入场镜组来进行校正,从而增加了器件复杂度和成本。如果采用3D飞秒激光打印来加工微凹透镜阵列即可通过设计一系列具有渐变深度的微凹透镜单元直接消除场曲。双光子灰度光刻技术多强大,如需了解详情请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。天津灰度光刻技术
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解双光子灰度光刻技术的应用。上海Nanoscribe灰度光刻3D打印
Nanoscribe成立于2007年,凭借着尔斯鲁厄理工学院(KIT)的技术背景和卡尔蔡司公司(CarlZeissAG)的支持,经过十几年的不断研究和成长成为了现在世界公认的微纳米加工技术和3D打印市场的带领者,并于2017年在上海成立分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。公司主要产品有基于双光子聚合技术(Two-PhotonPolymerization)并拥有多项国际专项的双光子微纳3D打印系统PhotonicProfessionalGT2。全球头一台工业级双光子灰度光刻(2GL®)微纳打印设备QuantumX受到普遍关注并被众多高学府和高科技单位所采用,例如哈佛大学,牛津大学等出名的院校,华为公司等。可应用于微纳机器人,再生医学工程,微纳光学,力学超材料等不同领域。上海Nanoscribe灰度光刻3D打印
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