上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻

时间:2022年01月14日 来源:

世界上头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合,从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制,自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解增材制造的基本原理、优缺点及具体方法。上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻

上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻,增材制造

Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷,但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件,还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构,包括光子集成电路,光纤顶端和预制晶片等。上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司学习增材制造技术。

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相较于传统生产方式,增材制造能有效降低生产成本与进入门槛。举例来说,制造业应用广的CNC 数控机床加工在全球范围内存在人才短缺问题,且其必备的专业操作人员是沉重的人力成本来源,这也是中小型生产厂家难以与规模较大的竞争对手匹敌的重要原因。 与之形成对比的增材制造技术,对于专业操作人员的要求则不那么高,因为增材设备更加简单、编程相对容易,也因此长期来说操作成本更低。此外,增材制造突破生产的地域限制,您可以在瑞士进行编程设计后,发到国内或其他地区生产,而这在需要诸多工装夹具的传统制造领域是难以实现的。传统制造中更换加工零件既耗时又费力。举例而言,CNC数控机床经常需要花费数十分钟到几个小时才能完成零件的替换。而增材制造可以一次成型多个产品,不同制造作业间可真正达到无缝替换,而每次替换的时间至多可缩短到几分钟内。

    增材制造(AM)是近年来特别热门和相当有**性的制造工艺之一。这种新型制造工艺只要把设计输入机器里,然后把功能部件从机器的另一边取出来即可,这种想法以前出现在上一代人的科幻小说里,虽然现在我们仍离《星际迷航》电影里那样复制人类的技术还很遥远,但我们正在缩小这个差距。塑料、橡胶、陶瓷、油墨、贵金属和一些特殊合金材料,每天都在不同的行业中被制造及应用,其应用领域非常广,包括普通玩具、模具,甚至到人体部位等。现在这一切都可以利用3D打印(增材制造)技术打印出来。Nanoscribe公司作为精密之傲高精度3D打印系统制造商,于2018年在中国成立了分公司,加强了德国高科技公司在中国销售活动,完善了整个亚太地区的客户服务范围。荣获多个奖项的德国Nanoscribe公司开发并销售的3D打印机是高度专业化的综合解决方案,在科学和工业领域,有1,000多位用户正在使用这种空前的全新应用。这包括为微创手术打印显微针、附加生产微镜头阵列、以及生产芯片上微光学元件。每周都有新的科学文献强调应用该器械的多种方式,并称之为“创新引擎”。 增材制造相比传统减材制造更加的节省原料,也更加的节约能源。

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    3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节,兼顾高精度、高性能、高柔性,可以快速制造结构十分复杂的零件,为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域,Nanoscribe表示,其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程,克服了长期的设计限制,并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。 换句话说,Photonic Professional GT系列与您的平均3D打印机不同,因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合,据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法,高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。3D打印机还缩短了设计迭代阶段,允许用户在“短短几天”内将想法转化为功能原型。 增材制造(Additive Manufacturing,AM)俗称3D打印,融合了计算机辅助设计、材料加工与成型技术。上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe是一家纳米,微米和中尺度高精度结构增材制造**。上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。上海双光子聚合增材制造无掩膜光刻

纳糯三维科技(上海)有限公司致力于仪器仪表,是一家生产型公司。公司业务分为PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等,目前不断进行创新和服务改进,为客户提供良好的产品和服务。公司从事仪器仪表多年,有着创新的设计、强大的技术,还有一批**的专业化的队伍,确保为客户提供良好的产品及服务。在社会各界的鼎力支持下,持续创新,不断铸造***服务体验,为客户成功提供坚实有力的支持。

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