杭州组分检测分析

D8DISCOVER特点：微焦源IµS配备了MONTEL光学器件的IµS微焦源可提供小X射线束，非常适合小范围或小样品的研究。1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景2.绿色环保设计：低功耗、无耗水、使用寿命延长3.MONTEL光学器件可优化光束形状和发散度4.与布鲁克大量组件、光学器件和探测器完全兼容。5.提供各种技术前列的全集成X射线源，用于产生X射线。6.工业级金属陶瓷密封管，可实现线焦斑或点焦斑。7.专业的TWIST-TUBE（旋转光管）技术，可快速简便地切换线焦斑和点焦斑。8.微焦斑X射线源（IµS）可提高极小焦斑面积上的X射线通量，而功耗却很低。9.TURBOX射线源（TXS）旋转阳极可为线焦斑、点焦斑和微焦斑等应用提供比较高X射线通量。10.性液态金属靶METALJET技术，可提供无出其右的X射线光源亮度。11.高效TurboX射线源（TXS-HE）可为点焦斑和线焦斑应用提供比较高X射线通量，适用于D8DISCOVERPlus。12.这些X射线源结合指定使用X射线光学元件，可高效捕获X射线，并将之转化为针对您的应用而优化的X射线束。XRD可研究材料的结构和物理特性，是 重要的材料研究工具之一。杭州组分检测分析

X射线反射率测定引言X射线反射率（XRR：X-RayReflectivity）是一种表面表征技术，是利用X射线在不同物质表面或界面的反射线之间的干涉现象分析薄膜或多层膜结构的工具。通过分析XRR图谱(图1)可以确定各层薄膜的密度、膜厚、粗糙度等结构参数。XRR的特点：1无损检测2对样品的结晶状态没有要求，不论是单晶膜、多晶膜还是非晶膜均可以进行测试3XRR适用于纳米薄膜，要求厚度小于500nm4晶面膜，表面粗糙度一般不超过5nm5多层膜之间要求有密度差广东原位分析XRD衍射仪检测在DIFFRAC.EVA中，进行半定量分析，以现实孔板上不同相的浓度。

残余应力分析：：在DIFFRAC.LEPTOS中，使用sin2psi法，用Cr辐射进行测量，对钢构件的残余应力进行分析。使用了2D检测器的μXRD：使用DIFFRAC.EVA,测定小区域结构特性。通过积分2D图像，进行1D扫描，来进行定性相分析和微观结构分析。定性相分析：候选材料鉴别（PMI）为常见，这是因为其对原子结构十分灵敏，而这无法通过元素分析技术实现。高通量筛选（HTS）:在DIFFRAC.EVA中，进行半定量分析，以现实孔板上不同相的浓度。非环境XRD：在DIFFRAC.WIZARD中配置温度曲线并将其与测量同步，然后可以在DIFFRAC.EVR中显示结果。小角X射线散射（SAXS）：在DIFFRAC.SAXS中，对EIGER2R500K通过2D模式手机的NISTSRM80119nm金纳米颗粒进行粒度分析。

药物：从药物发现到药物生产，D8D为药品的整个生命周期提供支持，其中包括结构测定、候选材料鉴别、配方定量和非环境稳定性测试。地质学：D8D是地质构造研究的理想之选。借助μXRD，哪怕是对小的包裹体进行定性相分析和结构测定也不在话下。金属：在常见的金属样品检测技术中。残余奥氏体、残余应力和织构检测不过是其中的一小部分，检测目的在于确保终产品复合终用户的需求。薄膜计量：从微米厚度的涂层到纳米厚度的外延膜的样品都受益于用于评估晶体质量、薄膜厚度、成分外延排列和应变松弛的一系列技术。定性相分析和结构测定 微米应变和微晶尺寸分析 应力和织构分析 粒度和粒度分布测定 微米大小X射线束局部分析。

X射线粉末衍射（XRPD）技术是重要的材料表征工具之一。粉末衍射图中的许多信息，直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE软件的支持下，您将能简单地实施常见的XRPD方法：鉴别晶相和非晶相，并测定样品纯度对多相混合物的晶相和非晶相进行定量分析微观结构分析（微晶尺寸、微应变、无序…）热处理或加工制造组件产生的大量残余应力织构（择优取向）分析指标化、从头晶体结构测定和晶体结构精修，由于具有出色的适应能力，使用D8ADVANCE，您就可对所有类型的样品进行测量：从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户，都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的：配置仪器时，免工具、免准直，同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不仅如此——布鲁克提供基于NIST标样刚玉（SRM1976）的准直保证。目前，在峰位、强度和分辨率方面，市面上尚无其他粉末衍射仪的精度超过D8ADVANCE。新结构测定以及多晶筛选是药物开发的关键步骤，对此，D8 DISCOVER具有高通量筛选功能。湖北微观应变分析XRD衍射仪推荐咨询

PATHFINDERPlus光学器件有一个确保测得强度的线性的自动吸收器，并可在以下之间切换：电动狭缝，分光晶体。杭州组分检测分析

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