郑州圆形温度传感器价格

    上述温度传感器制备方法，可以得到氧化硅薄膜，且氧化硅薄膜与硅通过空腔隔离，空腔下方的硅不会影响上方氧化硅薄膜的隔离效果，因此无需通过深槽刻蚀工艺将多余的硅刻蚀掉，简化了制备过程，节约制备时间，节省了制备成本。由于氧化硅薄膜导热率低，将测温单元制备在氧化硅薄膜上，具有较好的测温效果，使温度传感器性能更加稳定。本发明还涉及一种温度传感器，包括：基底，基底包括硅片和在硅片上形成的氧化硅薄膜，硅片和氧化硅薄膜之间形成有空腔；和测温单元，测温单元形成于所述空腔上方的氧化硅薄膜上，所述测温单元用于感测环境温度。如图2c所示，基底包括硅片20和氧化硅薄膜23，硅片20和氧化硅薄膜之间形成有空腔22。测温单元是温度传感器的工作单元，温度传感器通过该测温单元感知温度后形成电信号并输出，在本方案中，测温单元形成于氧化硅薄膜23上且位于空腔上方。在一实施例中，测温单元为一热电阻传感结构，包括：金属层，金属层为金属铂层，金属铂层呈连续弓字形结构；和第二金属层，位于金属铂层外侧两端，用于引出温度传感器的输出端子。如图3和图4所示，氧化硅薄膜23上淀积有一层金属层30，该金属层30为金属铂层，即热电阻传感结构选用铂热电阻。温度传感器故障在空调故障中占有比较大的比例。郑州圆形温度传感器价格

    使氧化硅薄膜结构更加稳定。步骤s130：在所述氧化硅薄膜上形成测温单元，所述测温单元用于感测环境温度。在温度传感器基作完成后，需要做基底上形成测温单元，测温单元是温度传感器的工作单元，温度传感器通过该测温单元感知温度后形成电信号并输出。在一实施例中，测温单元为一热电阻传感结构，其具体形成过程为：步骤s131：在氧化硅薄膜上淀积一层金属层，金属层为金属铂层，金属铂层呈连续弓字形结构。参考图3所示，在氧化硅薄膜23上淀积一层金属层30，该金属层30可为金属铂层，即热电阻传感结构选用铂热电阻。在另一实施例中，也可选用其他电阻温度系数较高的材料如镍、铁等。为减小温度传感器的尺寸，在小尺寸的基底上增大铂热电阻的接触面积，将铂热电阻做成连续弓字形结构(如图4所示)。步骤s132：在所述金属铂层外侧两端各淀积一层第二金属层，用于引出所述温度传感器的输出端子。继续参见图3和图4，在金属铂层30外侧两端淀积一层第二金属层40，该第二金属层40可为金属铝层，从金属铝处引出该温度传感器的输出端子，即温度传感器的输出导线与铝层连接以通过铝层与金属铂层连接。上述铂热电阻传感器。长沙超大规模温度传感器IC温度传感器按测量方式可分为接触式和非接触式两大类。

    钝化层可为氧化硅层或氮化硅层，也可为叠设的氧化硅层和氮化硅层。上述温度传感器，测温单元设于氧化硅薄膜上，氧化硅薄膜具有较低的导热率，因此不会影响测温单元的测温效果。且氧化硅薄膜与硅之间形成有空腔，空腔下方的硅不会影响空腔上方的氧化硅的隔离效果，在温度传感器的制备过程中，无需通过深槽刻蚀工艺将多余的硅刻蚀掉，因此简化了温度传感器的制备时间，节约了成本。以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上实施例表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

    p型多晶硅可为在多晶硅内部掺杂ⅲ族元素形成导电类型为p型的多晶硅，且其内部掺杂均匀。n型多晶硅条和p型多晶硅条形状相同，在本方案中，n型多晶硅条和p型多晶硅条为长条型，多晶硅条平行设置，具有相同的间距。步骤s135：在多晶硅层上淀积第三金属层，第三金属层包括位于相邻多晶硅条之间的金属结构，n型多晶硅条和p型多晶硅条通过金属结构串联，第三金属层还包括位于多晶硅层外侧两端的第二金属结构，用于引出温度传感器的输出端子。继续参见图5和图6，在多晶硅层50上淀积第三金属层60，第三金属层60包括金属结构61和第二金属结构62。金属结构61位于相邻多晶硅条之间以连接该多晶硅条，具体为位于相邻多晶硅条端部位置，所有n型多晶硅条51和p型多晶硅条52通过该金属结构61形成一串联结构，因此，当具有m个多晶硅条时，需要m-1个金属结构61使多晶硅条串联起来。一个n型多晶硅条与一个p型多晶硅条串联形成一个塞贝克(seebeck)结构，在本方案中，是多个塞贝克结构串联形成一个测温单元，因此，m需为偶数。第二金属结构62淀积于多晶硅层外侧的两端，以便于引出温度传感器的输出端子。在本实施例中，第三金属层60为金属铝层。上述热电偶传感结构，利用半导体两端的温度不同时。AD590是美国模拟器件公司的电流输出型温度传感器。

    本发明涉及温度传感器领域，特别是涉及一种温度传感器制备方法及温度传感器。背景技术：温度传感器包括测温单元和承载该测温单元的基底。温度传感器通常以导热率低的材料做基底，如在二氧化硅上淀积测温材料形成温度传感器。在工艺制程中，通过氧化硅片以在硅片表面生产一层二氧化硅，其中，二氧化硅的导热率较低，但是硅的导热率较高，为避免通过基底下部的硅导热，通常还需通过深槽刻蚀的方式对氧化硅层背面的硅进行刻蚀，如通过氢氧化钾的刻蚀液进行湿法刻蚀，也可用深反应离子刻蚀(deepreactiveionetching)工艺进行干法刻蚀。无论是湿法刻蚀还是干法刻蚀，其工艺时间都会较长且成本较高。技术实现要素：基于此，有必要针对传统技术中温度传感器以二氧化硅为基底时获取基底的工艺时间较长且成本较高的问题，提出了一种新的温度传感器制备方法。一种温度传感器制备方法，包括：在硅片形成若干沟槽；热退火使所述若干沟槽变形后相互连通形成一空腔，且所述硅片在所述空腔上方连接起来，将所述空腔封闭；氧化所述空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜；在所述氧化硅薄膜上形成测温单元，所述测温单元用于感测环境温度。上述温度传感器制备方法，先通过刻蚀在硅片上形成若干沟槽。深圳美信美温度传感器价格好。沈阳蒸发温度传感器技术

温度传感器中用来测量温度的传感器种类很多，热敏电阻器就是其中之一。郑州圆形温度传感器价格

    温度传感器通过该测温单元感知温度后形成电信号并输出。在一实施例中，测温单元为一热电阻传感结构，其具体形成过程为：步骤s：在氧化硅薄膜上淀积一层金属层，金属层为金属铂层，金属铂层呈连续弓字形结构。参考图所示，在氧化硅薄膜上淀积一层金属层，该金属层可为金属铂层，即热电阻传感结构选用铂热电阻。在另一实施例中，也可选用其他电阻温度系数较高的材料如镍、铁等。为减小温度传感器的尺寸，在小尺寸的基底上增大铂热电阻的接触面积，将铂热电阻做成连续弓字形结构(如图所示)。步骤s：在所述金属铂层外侧两端各淀积一层第二金属层，用于引出所述温度传感器的输出端子。继续参见图和图，在金属铂层外侧两端淀积一层第二金属层，该第二金属层可为金属铝层，从金属铝处引出该温度传感器的输出端子，即温度传感器的输出导线与铝层连接以通过铝层与金属铂层连接。上述铂热电阻传感器。利用金属铂在温度变化时自身电阻值也会随着温度改变的特性来测量温度，温度传感器的输出端子与显示仪表连接，显示仪表会显示受温度影响得到的铂电阻对应的温度值。通常。形成测温单元还包括钝化步骤，即，步骤s：在金属层上形成钝化层。郑州圆形温度传感器价格