射频温度传感器精度哪家好

    深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括：一般经营项目是：电子产品及其配件的技术开发与销售；国内贸易等。本公司主营推广销售AD（亚德诺）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等国际有名品牌集成电路。产品广泛应用于：汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。本发明涉及温度传感器领域，特别是涉及一种温度传感器制备方法及温度传感器。背景技术：温度传感器包括测温单元和承载该测温单元的基底。温度传感器通常以导热率低的材料做基底，如在二氧化硅上淀积测温材料形成温度传感器。在工艺制程中，通过氧化硅片以在硅片表面生产一层二氧化硅，其中，二氧化硅的导热率较低，但是硅的导热率较高，为避免通过基底下部的硅导热，通常还需通过深槽刻蚀的方式对氧化硅层背面的硅进行刻蚀，如通过氢氧化钾的刻蚀液进行湿法刻蚀，也可用深反应离子刻蚀(deepreactiveionetching)工艺进行干法刻蚀。无论是湿法刻蚀还是干法刻蚀，其工艺时间都会较长且成本较高。技术实现要素：基于此，有必要针对传统技术中温度传感器以二氧化硅为基底时获取基底的工艺时间较长且成本较高的问题，提出了一种新的温度传感器制备方法。靠谱的深圳市美信美科技有限公司，只做原装进口温度传感器。射频温度传感器精度哪家好

    并在钝化层上对应所述温度传感器引出输出端子处设有通孔。因上述热电阻传感器中上层有金属结构如金属铝和金属铂，对于直接暴露在空气中时容易氧化的金属层，其上还形成一层钝化层，可对金属层进行保护。同时，需要在对应温度传感器引出端子处开设通孔，通过通孔可引出输出端子。在本实施例中，是在两端的金属铝上方的钝化层开设通孔。钝化层可为氧化硅层或氮化硅层，也可为叠设的氧化硅层和氮化硅层。在一实施例中，测温单元为一热电偶传感结构，其具体形成过程为：步骤s：在所述氧化硅薄膜上淀积一层多晶硅层，所述多晶硅层包括并排且间隔设置的n型多晶硅条和p型多晶硅条。如图和图所示，在氧化硅薄膜上淀积一层多晶硅层，该多晶硅层包括并排且间隔设置的n型多晶硅条和p型多晶硅条。n型多晶硅可为在多晶硅内部掺杂ⅴ族元素形成导电类型为n型的多晶硅，且其内部掺杂均匀。p型多晶硅可为在多晶硅内部掺杂ⅲ族元素形成导电类型为p型的多晶硅，且其内部掺杂均匀。n型多晶硅条和p型多晶硅条形状相同，在本方案中，n型多晶硅条和p型多晶硅条为长条型，多晶硅条平行设置，具有相同的间距。步骤s：在多晶硅层上淀积第三金属层，第三金属层包括位于相邻多晶硅条之间的金属结构。常州扁平形温度传感器IC温度传感器供货商深圳美信美科技有公司连续两年获得好的供应商称号。

    上述温度传感器制备方法，可以得到氧化硅薄膜，且氧化硅薄膜与硅通过空腔隔离，空腔下方的硅不会影响上方氧化硅薄膜的隔离效果，因此无需通过深槽刻蚀工艺将多余的硅刻蚀掉，简化了制备过程，节约制备时间，节省了制备成本。由于氧化硅薄膜导热率低，将测温单元制备在氧化硅薄膜上，具有较好的测温效果，使温度传感器性能更加稳定。本发明还涉及一种温度传感器，包括：基底，基底包括硅片和在硅片上形成的氧化硅薄膜，硅片和氧化硅薄膜之间形成有空腔；和测温单元，测温单元形成于所述空腔上方的氧化硅薄膜上，所述测温单元用于感测环境温度。如图2c所示，基底包括硅片20和氧化硅薄膜23，硅片20和氧化硅薄膜之间形成有空腔22。测温单元是温度传感器的工作单元，温度传感器通过该测温单元感知温度后形成电信号并输出，在本方案中，测温单元形成于氧化硅薄膜23上且位于空腔上方。在一实施例中，测温单元为一热电阻传感结构，包括：金属层，金属层为金属铂层，金属铂层呈连续弓字形结构；和第二金属层，位于金属铂层外侧两端，用于引出温度传感器的输出端子。如图3和图4所示，氧化硅薄膜23上淀积有一层金属层30，该金属层30为金属铂层，即热电阻传感结构选用铂热电阻。

    钝化层可为氧化硅层或氮化硅层，也可为叠设的氧化硅层和氮化硅层。上述温度传感器，测温单元设于氧化硅薄膜上，氧化硅薄膜具有较低的导热率，因此不会影响测温单元的测温效果。且氧化硅薄膜与硅之间形成有空腔，空腔下方的硅不会影响空腔上方的氧化硅的隔离效果，在温度传感器的制备过程中，无需通过深槽刻蚀工艺将多余的硅刻蚀掉，因此简化了温度传感器的制备时间，节约了成本。以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上实施例表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。原装温度传感器，找深圳美信美科技。

    本发明涉及温度传感器领域，特别是涉及一种温度传感器制备方法及温度传感器。背景技术：温度传感器包括测温单元和承载该测温单元的基底。温度传感器通常以导热率低的材料做基底，如在二氧化硅上淀积测温材料形成温度传感器。在工艺制程中，通过氧化硅片以在硅片表面生产一层二氧化硅，其中，二氧化硅的导热率较低，但是硅的导热率较高，为避免通过基底下部的硅导热，通常还需通过深槽刻蚀的方式对氧化硅层背面的硅进行刻蚀，如通过氢氧化钾的刻蚀液进行湿法刻蚀，也可用深反应离子刻蚀(deepreactiveionetching)工艺进行干法刻蚀。无论是湿法刻蚀还是干法刻蚀，其工艺时间都会较长且成本较高。技术实现要素：基于此，有必要针对传统技术中温度传感器以二氧化硅为基底时获取基底的工艺时间较长且成本较高的问题，提出了一种新的温度传感器制备方法。一种温度传感器制备方法，包括：在硅片形成若干沟槽；热退火使所述若干沟槽变形后相互连通形成一空腔，且所述硅片在所述空腔上方连接起来，将所述空腔封闭；氧化所述空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜；在所述氧化硅薄膜上形成测温单元，所述测温单元用于感测环境温度。上述温度传感器制备方法，先通过刻蚀在硅片上形成若干沟槽。进口的德州温度传感器，就找深圳美信美科技。常州扁平形温度传感器IC

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    沟槽的宽度为沟槽侧壁的大距离，如果沟槽为圆形，则沟槽的宽度为其直径，如果沟槽为正方形，则沟槽的宽度为其对角的距离。步骤s120：热退火使所述若干沟槽变形后相互连通形成一空腔，且所述硅片在空腔上方连接起来，将所述空腔封闭。对开设有沟槽21的硅片20进行适当的热处理，当硅片被加热到一定温度时，硅原子的振动能较大，导致原子的移动能加强，硅原子会发生迁移。由于硅片上开设有沟槽，且沟槽侧壁的间距较小，当硅原子迁移运动达到一定程度时，硅原子会进入沟槽21内，硅片内部的沟槽21会发生形变，沟槽21上部被硅封闭，若干沟槽21中间部位相互连通，形成一空腔22(如图2b所示)。即空腔22处于硅片的中间，空腔22的上部和下部均具有硅结构，上下硅结构被空腔22隔离开。在一实施例中，热退火的温度可为1000℃。改变沟槽21的间距，可以得到不同形态的空腔，且间距越大，所需的退火温度就越高，但是退火的持续时间不超过20min。在本实施例中，沟槽阵列中沟槽之间的间距大于内部沟槽的间距，如此可以避免在空腔边缘处形成缺口。同时，热退火需要在一隔离环境中进行，如真空环境或者惰性气体环境，保证在热退火过程中硅不会与环境中的物质发生化学反应。在本实施例中。射频温度传感器精度哪家好