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    其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者，本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法，其特征在于，在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中，使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。发明效果本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。因此，本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。具体实施方式本发明的抗蚀剂的剥离液(以下，称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。本发明剥离液中的钾盐没有特别限定，例如，可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是，钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中推荐氢氧化钾。另外，本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定，例如，推荐，更推荐，特别推荐。本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类，例如，可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中推荐异丙基溶纤剂。另外。哪家剥离液的的性价比好。杭州铝钼铝蚀刻液剥离液产品介绍

    在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的剥离液机台的***种结构示意图。图2为本申请实施例提供的剥离液机台的第二种结构示意图。图3为本申请实施例提供的剥离液机台的第三种结构示意图。图4为本申请实施例提供的剥离液机台的第四种结构示意图。图5为本申请实施例提供的剥离液机台的工作方法的流程示意图。具体实施方式目前剥离液机台在工作时，如果过滤剥离光阻时产生的薄膜碎屑的过滤器被阻塞，则需要剥离液机台内的所有工作单元，待被阻塞的过滤器被清理后，才能重新进行剥离制程，使得机台需频繁停线以更换过滤器，极大的降低了生产效率。请参阅图1，图1为本申请实施例提供的过滤液机台100的***种结构示意图。本申请实施例提供一种剥离液机台100，包括：依次顺序排列的多级腔室10、每一级所述腔室10对应连接一存储箱20；过滤器30，所述过滤器30的一端设置通过***管道40与当前级腔室101对应的存储箱20连接，所述过滤器30的另一端通过第二管道50与下一级腔室102连接；其中，至少在***管道40或所述第二管道50上设置有阀门开关60。具体的，图1所示出的是阀门开关60设置在***管道40上的示例图。浙江铜钛蚀刻液剥离液报价龙腾光电用的哪家的剥离液？

    技术领域：本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法，可用于微纳制造，光学领域，电学，生物领域，mems领域，nems领域。技术背景：微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志，对提高人们的生活水平，促进产业发展与经济增长，保障**安全等方法发挥着重要作用，微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。基于半导体制造工艺的光刻技术是**常用的手段之一。对于纳米孔的加工，常用的手段是先利用曝光负性光刻胶并显影后得到微纳尺度的柱状结构，再通过金属的沉积和溶胶实现图形反转从而得到所需要的纳米孔。然而传统的方法由于光刻过程中的散焦及临近效应等会造成曝光后的微纳结构侧壁呈现一定的角度(如正梯形截面)，这会造成蒸发过程中的挂壁严重从而使lift-off困难。同时由于我们常用的高分辨的负胶如hsq，在去胶的过程中需要用到危险的氢氟酸，而氢氟酸常常会腐蚀石英，氧化硅等衬底从而影响器件性能，特别的，对于跨尺度高精度纳米结构的制备在加工效率和加工能力方面面临着很大的挑战。技术实现要素：：为了克服上述技术问题，本发明公开了一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法。

    腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板，按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的存储箱20，在剥离液的水平面超过预设高度后流入过滤器30，再经过过滤器30的过滤将过滤后的剥离液传送至下一级腔室102内。其中，薄膜碎屑70一般为金属碎屑或ito碎屑。其中，如图2所示，图2为本申请实施例提供的剥离液机台100的第二种结构示意图。阀门开关60设置在***管道40及第二管道50上。在过滤器30被阻塞时，关闭位于过滤器30两侧的***管道40及第二管道50上的阀门开关60，可以保证当前级腔室101对应的存储箱20内剥离液不会流出，同时下一级腔室102内的剥离液也不会流出。在一些实施例中，请参阅图3，图3为本申请实施例提供的剥离液机台100的第三种结构示意图。过滤器30包括多个并列排布的子过滤器301，所述***管道40包括多个***子管道401，每一所述***子管道401与一子过滤器301连通，且所述多个***子管道401与当前级腔室101对应的存储箱20连通。在一些实施例中，第二管道50包括公共子管道501及多个第二子管道502，每一所述第二子管道502与一子过滤器301连通。哪家的剥离液的价格低？

    每一所述第二子管道502与所述公共子管道501连通，所述公共子管道501与所述下一级腔室102连通。其中，阀门开关60设置在每一***子管道301上。在一些实施例中，阀门开关60设置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些实施例中，阀门开关60设置在每一第二子管道502上。具体的，阀门开关60的设置位置可以设置在连接过滤器30的任意管道上，在此不做赘述。在一些实施例中，请参阅图4，图4为本申请实施例提供的剥离液机台100的第四种结构示意图。第二管道50包括多个第三子管道503，每一所述第三子管道503与一子过滤器连通301，且每一所述第三子管道503与所述下一级腔室连通102。其中，阀门开关60设置在每一第三子管道503上。本申请实施例提供的剥离液机台，包括：依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱；过滤器，所述过滤器的一端设置通过***管道与当前级腔室对应的存储箱连接，所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接；其中，至少在***管道或所述第二管道上设置有阀门开关。通过阀门开关控制连接每一级腔室的过滤器相互独立，从而在过滤器被阻塞时通过阀门开关将被堵塞的过滤器取下并不影响整体的剥离进程，提高生产效率。剥离液蚀刻后的样貌形态。南通哪家蚀刻液剥离液按需定制

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    具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质，而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收，其大量的使用但不能够有效地回收，或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间进行再生处理，影响了剥离液废液的利用率。本发明对于已知的剥离液的含量以及比例有预先的了解，通过预先制定添加剂的方法，将添加剂以及某些原材料加入后重新制备剥离液新液。本发明中对于回收的剥离液废液的进一步处理加工，是采用现有技术中加压、蒸馏等方式，可以是采用阶段性变压精馏塔进行加压、蒸馏处理。表1：已知的剥离液新液的组分：表二：添加剂的组分组分比例：纯化液体的组分表四：制备剥离液新液在对纯化液体进行加工处理，重新制备剥离液新液的过程中，需要预先制备添加剂，该添加剂中不含有酰胺化合物，而通过表四中可以得出，制备过程中在纯化液体中加入添加剂以及nmf或bdg重新得出与表1组分相同的剥离液新液，该剥离液新液能够达到表1中剥离液新液相同的成分以及相同或大致相同的技术效果。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的。杭州铝钼铝蚀刻液剥离液产品介绍

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