浙江工业氢氟酸保存方法

氟化工产业链以萤石为起点，中上游主要为氢氟酸及氟化铝等，并延伸出氟制冷剂、含氟聚合物、含氟精细化学品和无机氟化物四大类，终端产品为空调及汽车用的制冷剂、工业含氟新材料、半导体领域中极其重要的电子级氢氟酸等。氟化工产业链中，随产品加工深度增加，产品的附加值和利润率成几何级数增长。目前四代氟制冷剂、含氟精细化学品、含氟聚合物等产品均处于起步及成长阶段。目前氟化工产业市场容量较大仍为传统的制冷剂行业，但氟橡塑及氟精细化工凭借其普遍的用途及优良的特性正加快在各领域的渗透。无水氢氟酸或工业级氢氟酸通过精馏、超纯水吸收后纯化，并经0.2μm以下超滤等工序后，可制得高纯且超净的电子级氢氟酸，技术难度大。电子级氢氟酸主要运用在集成电路、太阳能光伏和液晶显示屏等领域。氢氟酸的毒性与浓度和暴露时间有关。浙江工业氢氟酸保存方法

通过相关资料了解到，国内外相关产品各标准在相同项目的测定方法基本是一致的。如氢氟酸含量采用以酚酞为指示剂，以氢氧化钠标准滴定溶液为滴定剂的酸碱中和滴定法；氟硅酸含量的测定采用在钾盐存在下使其生成氟硅酸盐后分离，沉淀溶解后用氢氧化钠标准滴定溶液滴定。对于低含量的氟硅酸的测定，一般采用硅钼蓝分光光度法进行测定；硫酸含量的测定是将氢氟酸分离后，用氢氧化钠标准滴定溶液滴定。日本标准中规定的灼烧残渣含量的测定为700℃下灼烧后稳重的方法。相关资料了解，日本标准JIS K1405－1995《氢氟酸》相对于其它国外标准，技术要求、指标项目、试验方法等方面均处于先进水平。但由于日本标准主要是针对本国的生产、使用要求而制定的，与我国对氢氟酸的要求存在一定的差异。但对我国标准有借鉴作用。浙江工业氢氟酸保存方法泼洒氢氟酸的区域应当迅速用大量水冲洗，并立即通知应急人员。

氟化氢是一种有毒气体，溶于水形成氢氟酸。氢氟酸是一种弱酸，具有特殊腐蚀性，所谓特殊腐蚀性，是指它能腐蚀其他强酸所不能腐蚀的玻璃、单晶硅等半导体材料。在半导体生产工艺中有重要应用。氢氟酸的生产并不困难，其主要原料是萤石，而我国萤石的探明储量与南非并列世界一位，按说是具有得天独厚优势的。但应用于半导体生产的氢氟酸可不是普通的氢氟酸，是超净高纯的电子级氢氟酸。普通工业级氢氟酸，洗个玻璃还行，用来洗半导体，基本上只能生产出废品来。因为普通工业级氢氟酸，含有大量杂质，这些杂质对芯片生产是致命的。

各国基本都是采用氯化钾消除氟硅酸盐的干扰，用氢氧化钠标准滴定溶液，以酚酞的指标剂进行滴定。我国标准中的测定方法是将产品的总酸度测出后，再分别测出氟硅酸、硫酸含量。用总酸度数值分别减去氟硅酸含量、硫酸含量，之后结果以氟化氢表示。日本标准中的计算方法与我国标准有所不同但两个标准之后测定结果是一致的。另外从相关资料了解到，在测定氢氟酸含量过程中，我国和日本的测定标准中都加入冰块降温，两者目的都是使产品中的氟硅酸与钾盐反应物的溶解程度降到较低，确保在滴定过程氟硅酸钾不溶解。但我国采用的是在制样过程中加入冰块的方法，而日本标准中是在加入硝酸钾溶液后再加入冰块。我国标准中在制备试验溶液时加入冰块，除了保证氟硅酸钾不溶解，同时还能避免在称样过程中样品的挥发。氢氟酸是一种极其具有危险性的化学物质。

“电子氢氟酸在集成电路、半导体制作、太阳能光伏和液晶显示屏等领域应用普遍，是微电子行业生产所需的关键基础化工原材料之一。”电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一， 主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中 ，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的一道工艺程序：清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被普遍使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。在进行氢氟酸处理时，必须对废水和废液进行密闭和妥善处理。浙江工业氢氟酸保存方法

在使用氢氟酸时，必须注意周围环境的危险性和风险等级等。浙江工业氢氟酸保存方法

氢氟酸为氟化工较重要的中间体，上游主要萤石，下游涵盖制冷剂、氟橡胶、氟树脂、氟化铝、含氟精细化学品等。就我国萤石产量变动情况而言，随着下游氟化工整体需求持续增长，我国萤石需求持续增长，带动国内萤石产量持续升高。根据数据，2021年我国萤石产量为540万吨，约占全球萤石产量860万吨的62.8%。就我国萤石进出口状况而言，近十年，我国萤石进口量呈上升趋势，而出口量震荡下滑。2018年，进口量初次超过出口量，我国正式成为萤石净进口国，2020年我国萤石进口明显高于出口，但是2021年下半年以来，因墨西哥、加拿大两大矿山因自身原因停产，以及全球病情原因，进口数量急剧减少，从整年来看，我国萤石进口量略低于2020年进口，出口量小幅度上升。浙江工业氢氟酸保存方法