四川自主研发超快激光玻璃晶圆切割设备按需定制

近年来光电产业的快速发展，高集成度和高性能的半导体晶圆需求不断增长，硅、碳化硅、蓝宝石、玻璃以及磷化铟等材料被广泛应用于半导体晶圆的衬底材料。随着晶圆集成度大幅提高，晶圆趋向于轻薄化，传统的很多加工方式已经不再适用，于是在部分工序引入了激光技术。在诸多激光技术中脉冲激光特别是超短脉冲激光在精密加工领域应用又尤为***，超短脉冲激光是指激光单个脉冲宽度达到甚至小于10-12秒（即皮秒）这个量级的激光，由于激光脉冲时间宽度极短，在某个频率（即一定脉冲个数）下需要释放设定的激光功率，单个脉冲的激光功率就是固定的，将单个脉冲的能量在极短的时间释放出去，造成瞬时功率极高（兆瓦及以上），瞬间改变材料性质，平均功率很低对材料加工区域热影响很小的加工效果即激光冷加工。超短脉冲激光加工具有诸多独特的优势：无锡超快激光玻璃晶圆切割设备的市场价格。四川自主研发超快激光玻璃晶圆切割设备按需定制

主要性能参数产品型号CTI-GlassCut皮秒激光器激光器波长1064 nm激光器脉宽10 ps平均峰值功率50W切割头切割焦深5 mm**小光斑1-2 um切割精度±20 um崩边<5 um切割速度100mm/s (3mm白玻璃)工作平台参数平台形式XY直线电机基座高精度大理石平台加工范围400×400 mm（可定制）定位精度±3 um重复定位精度±2 um比较大速度1000 mm/sCCD工业相机600W镜头远心镜头系统属性支持文件格式DXF等常规CAD格式环境要求温度：20-30℃，湿度：<60%电力需求380V/50Hz/10KVA湖北销售超快激光玻璃晶圆切割设备按需定制超快激光玻璃晶圆切割设备的厂家哪个好？无锡超通智能告诉您。

半导体晶圆机械划线直至1990年代未曾改变[6]，刀具有硬质合金刀轮、三角锥或四角锥台等形式，皆以鑽石及其他硬質合金製成，因其耐磨性比较好。機械劃線用角錐的稜劃線，輪流標示刻槽，此法的应用受限于有如应力集中系数k之标准，透过施加弯矩决定在表面的比较大弯曲应力，可经下列公式计算：k=(0.355(t-d)/r)+0.85)/2+0.08(1)其中，t：晶圆厚度；d：切割深度；r：钻石粒径。由此可知，晶圆愈厚所需的弯曲应力愈大。可透过增加划痕深度减少所需的弯曲应力，但如此沿切割线的缺陷程度便会增加，且划线工具上压力提高可能导致材料分裂不受控制；另可加大钻石粒径，但同样会影响芯片断面品质及其机械强度。

碳化硅是宽禁带半导体器件制造的**材料，SiC 器件具有高频、大功率、耐高温、耐辐射、抗干扰、体积小、重量轻等诸多优势。对于它的加工也有很多方式，其中激光划片是目前较为理想的方式之一。激光划片设备采用工业激光器，波长主要有 1 064 nm、532 nm、355 nm 三种，脉宽为纳秒、皮秒和飞秒级。理论上，激光波长越短、脉宽越短，加工热效应越小，有利于微细精密加工，但成本相对较高。355 nm 的紫外纳秒激光器因其技术成熟、成本低、加工热效应小，应用非常多。近几年 1 064 nm 的皮秒激光器技术发展迅速，应用到很多新领域，获得了很好的效果。无锡超快激光玻璃晶圆切割设备的厂家排名。

硅材料对红外透过率很高，所以硅的隐形切割设备，通过选用短脉冲红外激光器，将激光脉冲聚焦到硅衬底内部，实现隐形切割。激光隐形切割是非接触式切割，解决了砂轮切割引入外力冲击对产品破坏的问题。不过一般设备的激光隐形切割形成的改质层区域会使材料变得酥脆，还是会形成少量细小硅碎屑掉落，虽然碎屑数量远少于砂轮切割，如前文所述，MEMS晶圆因为无法通过清洗的方法去除细小硅碎屑，故这些碎屑将对芯片造成破坏，影响良率。超通智能生产的硅晶圆激光切割设备，选用自制的红外激光器和自主开发的激光加工系统，实现硅晶圆的隐形切割，该设备能够很好的控制隐形切割后碎屑的产生，从而满足***MEMS晶圆切割的要求，保证切割良率选择超快激光玻璃晶圆切割设备的的方法。山西国产超快激光玻璃晶圆切割设备哪家强

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由于碳化硅自然界中拥有多态（Polymorphs），例如3C-SiC，4H-SiC，6H-SiC等，其中六方晶系的碳化硅理论上有无数种多态可能性。目前行业内选用的碳化硅多态为4H-SiC。为了获得想要的低缺陷4H-SiC，SiC晶圆通常需要以4°偏轴在种子晶格上进行晶锭生长。因此，在切割垂直晶圆平边的方向时，裂纹会与C面轴向[0001]产生4°偏角。使用普通激光切割设备进行切割时，4°的偏角会使材料裂开变得困难，从而使得**终该方向产生严重崩边（chipping）和切割痕迹蜿蜒（meandering）。四川自主研发超快激光玻璃晶圆切割设备按需定制

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