高压闸阀手动阀

时间:2024年08月27日 来源:

微泰半导体闸阀具有诸多特点:其阀门驱动部分的所有滚子和轴承都经过精心防护处理,形成屏蔽和保护环(Shield Blocker 和 Protection Ring),通过三重预防方式有效切断粉末(Powder),从而延长阀门驱动及使用寿命。该闸阀采用的三重预防驱动方式中的 Shield 功能,能够出色地防止气体和粉末侵入阀体内部,同时具备三重保护驱动保护环,可延长 GV 寿命的 Shield 方法,并已供应给海外半导体 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 设备。此外,挡板与阀体之间的距离小于 1mm,能够强力阻挡内部粉末和气体的流入,屏蔽挡板采用 1.5t AL 材料制成,充分考虑了其复原力,并通过 Viton 粉末热压工艺制成。而三重保护保护环的主要功能则包括:AL 材料的重量减轻和保护环内部照明的改善、保护环内部流速的增加以及三元环的应用确保了驱动性能的提升。用真空闸阀时,应考虑与工艺气体的兼容性、工作压力范围、循环速度和维护要求等因素。高压闸阀手动阀

闸阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,铝闸阀(AL Gate Valve)-产品范围:1.5英寸~10英寸-12英寸可生产的产品尺寸,阀体材料:铝、气动、紧凑设计、重量轻。闸门,阀盖密封:Viton O-Ring使用次数:100000次,易于维护,低颗粒(陶瓷球机构)。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism),微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。HVA闸阀角控制阀为了避免在颗粒敏感应用中产生颗粒,滑动闸门机构的设计旨在避免阀壳处的摩擦。

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微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,一、控制系统闸阀。控制系统闸阀具有可隔离的闸阀,以滑动方式操作,可以在高真空环境中实现精确的压力控制。如半导体等高真空工艺应用。控制系统闸阀是自动控制到用户指定的值,通过控制器和步进电机保持一致的真空压力。二、蝶阀。该蝶阀具有紧凑的设计和坚固的不锈钢结构,通过闸板旋转操作。蝶阀可以实现精确的压力控制和低真空环境。例如半导体和工业过程。蝶阀通过控制器和步进电机自动控制到用户指定的值,保持一致的真空压力。三、多定位闸阀。多定位闸阀是一种利用压缩空气或氮气控制闸阀位置的阀门。它在阀门的顶部有一个内置控制器,可以在本地和远程模式下操作。它还具有紧急关闭功能,以应对泵停止或CDA压缩干空气丢失的情况。其特点之一是能够远程检查阀门状态,并可用于具有不同法兰类型的各种工艺。多定位闸阀具有可隔离的闸阀,以滑动方式操作,适用于需要压力控制的所有加工领域。采用手动调节控制装置控制,用户可直接控制闸门的开启和关闭,以调节压力。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。

微泰,传输阀、转换阀、输送阀、转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它充当将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽。I型和L型转移阀是用于半导体PVD CVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它们的作用是将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽,并极大限度地减少由于闸板打开和关闭造成的真空压力变化,以维持腔室内的真空压力。I型转移阀由铝或不锈钢制成,用于传输晶圆小于450毫米的半导体系统和隔离工艺室。其特点是叶片在垂直方向上快速移动,以确保完美的腔室压力维持。而L型转移阀也由铝或不锈钢制造,其特点是设计紧凑,易于维护。L型转移阀的闸门在两个阶段从垂直到水平方向移动,以确保完美的腔室压力维护。这两种类型的转移阀都具有高耐用性和长寿命的优点,并且在闸门开启和关闭过程中极大限度地减少了振动,对温度变化也非常稳定,以确保较长的使用寿命。如果您需要了解更多关于微泰传输阀、转换阀、输送阀、转移阀的信息,请联系上海安宇泰环保科技有限公司。高压闸阀只许介质单向流动,安装时有方向性。它的结构长度大于闸阀,同时流体阻力大。

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微泰,蝶阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。微泰蝶阀其特点是• 主体材料:铝或不锈钢• 紧凑型设计• 高性能集成控制器• 使用维修零件套件轻松维护• 应用:半导体和工业过程的压力控制。蝶阀规格如下:法兰尺寸(内径):DN40、DN50、馈通:旋转馈通、阀门密封:FKM(VITON)、执行器:步进电机、压力范围:1×10-8 mbar to 1200 mbar 、开启压差:≤ 30 mbar、开启压差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、维护前可用次数:250,000次、阀体温度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料:阀体STS304/机制STS304、安装位置:任意、接口:RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。闸阀的结构紧凑,阀门刚性好,通道流畅,流阻数小,密封面采用不锈钢和硬质合金,使用寿命长。HVA闸阀角控制阀

微泰转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。高压闸阀手动阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。这节介绍加热闸阀、加热式闸阀护套、加热器插入式阀门。带加热器闸阀,加热器插入闸阀:产品范围:2~12英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:20万次•响应时间:0.2秒~3秒;客户指定法兰,加热温度:450℃;蝶形阀;蝶阀:产品范围:DN40、DN50隔离•泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司高压闸阀手动阀

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