天津高低温高压试验箱

下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的整机尺寸、真空腔体尺寸。1.内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架：2块3.室温+10℃-250℃控温范围：温度分辨率：0.1℃温度波动度：±0.5℃4.真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa，5.加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态）6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温）。试验箱如何发挥重要作用？合肥真萍告诉您。天津高低温高压试验箱

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖，方便FFU保养及维修。5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。天津高低温高压试验箱合肥真萍告诉您试验箱的运用方式。

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。1.本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2.箱体采用先进设备制作、业内的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。3.工作室材质为不锈钢、外箱材质为质量冷轧钢板，产品外壳使用环保金属漆喷制，整体设计美观大方，适合实验室的颜色搭配。4.工作室内的搁架不可调节。试验箱给社会带来了什么好处？

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的技术参数。产品类型：数显微电脑控制电源电压：AC220V±10％50Hz±2％温控范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动率：≤±0.5℃温度均匀度：≤±2℃输入功率：500W内胆尺寸(mm)：W300×D300×H270外形尺寸(mm)：W580×D480×H440载物托架：2块定时范围：0-9999分钟。试验箱的发展前景如何呢？高低温低压试验箱标准

合肥真萍告诉您什么是试验箱？天津高低温高压试验箱

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器，产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计，使得设备操作完全傻瓜化，控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示，示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后，仪表自行控制加热功率，并显示加热状态，控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。电器控制系统：1.电气控制元器件均采用国内出名品牌“正泰”2.电气线路设计新颖，合理布线，安全可靠3.箱体顶部为电气控制柜，方便于集中检查维修安全保护系统：1.超温报警2.欠相缺相保护3.过电流保护4.快速熔断器5.接地保护天津高低温高压试验箱