德国德国Nanoscribe微纳光刻

时间:2024年01月14日 来源:

Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。更多有关3D打印的咨询,欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。德国德国Nanoscribe微纳光刻

德国德国Nanoscribe微纳光刻,Nanoscribe

拉曼光谱是针对于有机组织和生物组织的一种强大的分析技术,可以根据样品的个别光谱指纹对其进行定性,如细菌。拉曼散射的固有弱点可以通过金属化的微纳结构表面得到加强,从而创造出与样品相互作用的信号热点。在他们的研究中,科学家们使用双光子聚合技术(2PP)在光纤的表面3D打印了这些微纳结构,然后添加上一层薄薄的镀金涂层。在SERS测量中,激光被耦合到光纤中并激发光纤探针的微纳结构表面的信号热点。在与分析物的相互作用中,SERS信号就可产生并被光纤传感器收集。浙江高分辨率Nanoscribe中国高效能能源器件,咨询纳糯三维科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe双光子灰度光刻系统Quantum X ,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X,适用于制造微光学衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球头一次创建工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X,适用于制造微光学衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术,斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接打印在光纤上,构建了一款功能齐全的超薄像差校正光学相干断层扫描探头

作为微纳加工和3D打印领域的带领者,Nanoscribe一直致力于推动各个科研领域,诸如力学超材料,微纳机器人,再生医学工程,微光学等创新领域的研究和发展,并提供优化制程方案。2017年在上海成立的中国子公司纳糯三维科技(上海)有限公司更是加强了全球销售活动,并完善了亚太地区客户服务范围。此次推出的中文版官网在视觉效果上更清晰,结构分类上更明确。首页导航栏包括了产品信息,产品应用数据库,公司资讯和技术支持几大专栏。比较大化满足用户对信息的了解和需求。Nanoscribe中国子公司总经理崔博士表示:“中文网站的发布是件值得令人高兴的事情,我们希望新的中文网站能让我们的中国客户无需顾虑语言障碍,更全方面深入得了解我们的产品以及在科研和工业方面的应用Nanoscribe的3D打印设备具有高度灵活性和可定制性,能够满足不同行业的需求。

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德国Nanoscribe在2017年底在上海成立了全资中国子公司-纳糯三维科技(上海)有限公司,加强了德国高新技术在中国的销售推广。Nanoscribe客户遍布30个国家,超过1500名用户。大学中已经多所正在使用Nanoscribe3D打印机。这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院等等。在科研领域,Nanoscribe的系列3D打印设备帮助推动着诸如超材料,微纳机器人,再生医学工程,微纳光学,微流道,微机电系统等等领域的研究和发展。使用Nanoscribe的3D微加工技术并配合其新型研发的IP-Visio光刻胶,可以打印极其复杂的3D微支架。江苏工业级Nanoscribe3D微纳加工

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光子集成电路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 与电子集成电路类似,但不同的是电子集成电路集成的是晶体管、电容器、电阻器等电子器件,而光子集成电路集成的是各种不同的光学器件或光电器件,比如激光器、电光调制器、光电探测器、光衰减器、光复用/解复用器以及光放大器等。集成光子学可较广地应用于各种领域,例如数据通讯,激光雷达系统的自动驾驶技术和YL领域中的移动感应设备等。而光子集成电路这项关键技术,尤其是微型光子组件应用,可以很大程度缩小复杂光学系统的尺寸并降低成本。光子集成电路的关键技术还在于连接接口,例如光纤到芯片的连接,可以有效提高集成度和功能性。类似于这种接口的制造非常具有挑战性,需要权衡对准、效率和宽带方面的种种要求。德国德国Nanoscribe微纳光刻

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