四川粒度分析仪厂家

为了实现较佳过程控制，样品测量时间为5分钟左右。催化剂浓度通常在40至1000ppm范围内。C-Quand在线XRF分析仪是一款真正的过程分析仪，专为化工厂的恶劣环境而设计。分析仪配置和操作简单。它配有模拟和串行数据传输协议。C-Quand在线 XRF分析仪可以连续测量多达四个流路，每个流都有自己的校准曲线。此外，C-Quand在线XRF分析仪有各种方法来检查和确保可靠的数据。每小时分析一次内置的固体参考。有了这个内置的自动参考，您将能够在一年内实现无漂移过程测量。驰光机电交通便利，地理位置优越。四川粒度分析仪厂家

为了提高粒径的测量精度，需要较高的圆盘转速，目前市面上常见的运行速度较高在15000RPM，而国内在1500RPM，无法满足CPM化学机械抛光的需求。CPS-24000纳米粒度仪的最高转速为24000转，测试范围在5nm-75um，每次加样只需要0.1ml，降低样液的测试成本，可连续测量多达40个样品。CPS纳米粒度分析仪的使用方法已经列入国标，包括《金属粉末粒度分布的测量-重力沉淀光透法》、《煤矿粉尘粒度分布测定方法》、《橡胶配合剂-炭黑-聚集体尺寸的测定-使用光跟踪盘式离心沉淀仪法》等。四川粒度分析仪厂家驰光机电用先进的生产工艺和规范的质量管理，打造优良的产品！

磨料的粒度测量：以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用，CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米，典型的过大聚集体为1-10微米，并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸，同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%，粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。

CPS纳米粒度分析仪测量参数：粒径、粒形和浓度；粒径范围：0.1-3600μm；浓度范围：高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒)；供样方式：液体、干粉、表面；系统规格/重量电源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二极管检测器；全量程的0.3%，小可达0.2μm；同步频闪光源，亮度和持续时间可调；频闪率；可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系统，检测报告自动生成，符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准；符合多项ISO方法标准；测量池模块：液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。驰光机电科技推行现代化管理制度。

EyeTec浓度测量：除了颗粒大小，激光和颗粒交互产生的信号可以提供非常有用的颗粒浓度信息。EyeTech记录全部的交互信号。因为旋转的激光的检测范围是一定的，所以颗粒浓度可以计算出来。了解颗粒数据库系统：可通过鼠标点击调出每个已检测颗粒的详细数据信息，包括图像、图形和参数；颗粒数量无限制；颗粒信息易于输出至Excel进行进一步处理；提供颗粒信息数据库，数据挖掘便于分析对比和统计。动态粒形分析的形状和粒径相关数据可提供关于单个颗粒丰富的信息。驰光机电科技锐意进取，持续创新为各行各业提供专业化服务。安徽激光粒度粒形分析仪报价

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研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程：化学过程：研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应，生成比较容易去除的物质；物理过程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦，去除化学反应生成的物质。四川粒度分析仪厂家