南通市面上哪家减薄用清洗剂主要作用

时间:2024年03月06日 来源:

    用于将空气喷射到玻璃的将被暴露于激光束的预定部分并因此瞬时去除喷淋液,从而可得到更准确地玻璃厚度测量数据。一般的,所述目标厚度为减薄处理后所需求玻璃的理论厚度值,所述理论厚度值为具有公差的范围值。所述玻璃减薄生产线还包括辅助厚度测量仪,所述辅助厚度测量仪设置在所述冲洗区2中并用于再次测量经减薄处理后的玻璃厚度,所述辅助厚度测量仪将测得玻璃厚度发送到所述控制器。所述辅助厚度测量仪的设置可降低所述主厚度测量仪32失灵或因所述蚀刻区3中的阻碍因素不能正确测量玻璃厚度时异常操作而造成的玻璃减薄缺陷,所述阻碍因素可以为喷淋液的喷淋阻碍或所述玻璃加工治具4的振动。所述控制器基于所述辅助厚度测量仪测得的玻璃厚度确定在所述蚀刻区3中是否正常执行减薄处理或者所述主厚度测量仪32是否正确工作。一般的,从所述辅助厚度测量仪接收的玻璃的厚度超出目标厚度的公差范围,则所述控制器确定所述主厚度测量仪32无法正确工作或者在所述蚀刻区3中没有正常执行减薄处理。在这种情况下,所述控制器发出警报来通知管理者,所述主厚度测量仪32失灵或者所述蚀刻区3中的减薄处理异常。所述主厚度测量仪32失灵或所述者蚀刻区3中的减薄处理异常可能是暂时的。减薄用清洗剂的类别一般有哪些?南通市面上哪家减薄用清洗剂主要作用

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    本发明涉及玻璃减薄技术领域,具体涉及一种玻璃减薄设备。背景技术:随着便携式电子器件的发展,手机、平板等便携式电子器件越来越纤细化及薄型化,因此需要制造较薄的玻璃基板。为了制造较薄的玻璃基板,目前的采用的方法是浸泡式减薄法。用浸泡式减薄法减薄玻璃是将玻璃减薄液放入玻璃减薄设备的反应槽中,然后将玻璃放入玻璃减薄液中放置一定时间,使玻璃减薄液与玻璃反应,实现玻璃减薄。目前的浸泡式减薄法中,反应产物会悬浮于玻璃减薄液中,然后再粘附在玻璃上,造成不良品;并且,这种方法容易造成蚀刻不均,导致进行减薄后还需要进行抛光处理,提高了制备成本。鉴于上述缺陷,本发明创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本发明。技术实现要素:为解决上述技术缺陷,本发明采用的技术方案在于,提供一种玻璃减薄设备,包括蚀刻区,用于对竖直容纳在玻璃加工治具中的多个玻璃进行减薄处理;冲洗区,用于所述玻璃加工治具上的玻璃进行减薄前清洁和减薄后清洁;转换区,用于待减薄处理的所述玻璃加工治具加载到所述冲洗区中,并将减薄处理后的所述玻璃加工治具从所述冲洗区卸载到外部;制动组件。广东好用的减薄用清洗剂供应减薄清洗剂,让您的产品更加完美,满足高精度要求。

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    所述支撑条431和所述第二支撑条432一一平行对应设置,所述连接部433活动连接所述支撑条431和所述第二支撑条432,所述支撑条431固定设置于所述底座41上,所述接触部434均匀设置在所述第二支撑条432上。同时可通过设置所述支撑条431的高度或所述支撑条431的固定位置从而调节所述底支撑件43的高度,如通过将上述支撑条431的两端固定在两所述竖直平板421上。较佳的,所述支撑条431和所述第二支撑条432上设置有磁性组,所述支撑条431和所述第二支撑条432在所述磁性组提供的磁性斥力作用下具有调节间隙。所述磁性组包括磁性件435和第二磁性件436,所述磁性件435和所述第二磁性件436分别设置于所述支撑条431和所述第二支撑条432上,且所述磁性件435和所述第二磁性件436之间具有磁性斥力,从而使所述第二支撑条432悬浮于所述支撑条431的上方。所述连接部433设置有限位孔437,所述限位孔437设置为腰型孔,所述支撑条431的水平两侧均设置有若干限位块438,所述第二支撑条432的水平两侧均设置有若干第二限位块439,所述限位块438和所述第二限位块439一一对应设置,对应设置的所述限位块438和所述第二限位块439均设置在同一所述连接部433的所述限位孔437内。

    图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图;图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图;图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图;图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图;图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想,为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置,用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄,如图1所示,包括托盘10、喷头11和磁转子12,当然,本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等,托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中,托盘10,可选为石英托盘,用于固定待加工部件20,待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110,以对待加工表面进行抛光。质量比较好的减薄用清洗剂的公司。

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    本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术:采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性,已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中,inp(磷化铟)化合物具有独特的优势,这主要得益于其优良的材料特性,例如,inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小,以及电子饱和速率很高等,所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor,高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor,异质结双极晶体管)结构,都具有非常优异的高频、大功率性能。但是,inp材料的物理性能却很差,非常易碎,很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃,因此,inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中,如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时,减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素:有鉴于此,本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。南通市面上哪家减薄用清洗剂主要作用

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