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同时,氮化铝耐熔融状态下金属的侵蚀,几乎不受酸的稳定。因氮化铝表面暴露在湿空气中会反应生成极薄的氧化膜,人们利用此特性,将它用作铝、铜、银、铅等金属熔炼的坩埚和烧铸模具材料。也因为氮化铝陶瓷的金属化性能较好,可替代有毒性的氧化铍陶瓷在电子工业中广泛应用。氮化铝的化学式为AlN,化学组成AI约占,N约占。它的粉体为一般是白色或灰白色,单晶状态下则是无色透明的,常压下的升华分解温度达到2450℃。氮化铝陶瓷导热率在170~210W/()之间,而单晶体更可高达275W/()以上。热导率高(>170W/m·K),接近BeO和SiC;热膨胀系数(×10-6℃)与Si(×10-6℃)和GaAs(6×10-6℃)匹配;各种电性能(介电常数、介质损耗、体电阻率、介电强度)优良;机械性能好,抗折强度高于Al2O3和BeO陶瓷,可以常压烧结;可采用流延工艺制作。氮化铝陶瓷作为一种硬脆材料,烧结后的氮化铝陶瓷加工起来十分的困难,它的各种性质优异于其他的陶瓷材料也意味着它的加工难度比其他陶瓷高,并且氮化铝陶瓷加工还有一个致命难点,它脆性大,十分容易白边。在此情况下,用氮化铝制作陶瓷加热盘也变得分外艰难。8英寸的氮化铝陶瓷加热盘约莫是315mm直径、19mm厚度的圆盘。 其中,底板上设置有过温保护器。MSA FACTORYPA8010-PCC10A加热板一级代理
以恢复晶格的完整性。使植入的掺杂原子扩散到替代位置,产生电特性。去除氮化硅层用热磷酸去除氮化硅层,掺杂磷(P+5)离子,形成N型阱,并使原先的SiO2膜厚度增加,达到阻止下一步中n型杂质注入P型阱中。去除SIO2层退火处理,然后用HF去除SiO2层。干法氧化法干法氧化法生成一层SiO2层,然后LPCVD沉积一层氮化硅。此时P阱的表面因SiO2层的生长与刻蚀已低于N阱的表面水平面。这里的SiO2层和氮化硅的作用与前面一样。接下来的步骤是为了隔离区和栅极与晶面之间的隔离层。光刻技术和离子刻蚀技术利用光刻技术和离子刻蚀技术,保留下栅隔离层上面的氮化硅层。湿法氧化生长未有氮化硅保护的SiO2层,形成PN之间的隔离区。生成SIO2薄膜热磷酸去除氮化硅,然后用HF溶液去除栅隔离层位置的SiO2,并重新生成品质更好的SiO2薄膜,作为栅极氧化层。氧化LPCVD沉积多晶硅层,然后涂敷光阻进行光刻,以及等离子蚀刻技术,栅极结构,并氧化生成SiO2保护层。形成源漏极表面涂敷光阻,去除P阱区的光阻,注入砷(As)离子,形成NMOS的源漏极。用同样的方法,在N阱区,注入B离子形成PMOS的源漏极。沉积利用PECVD沉积一层无掺杂氧化层,保护元件,并进行退火处理。ASONE亚速旺加热板HPRB-6040而成为有特定电性功能的集成电路产品。
设计不同的热流密度;防止工质进入过渡沸腾区,从而导致传热恶化,壁温过热。(3)采用合理的绝缘固定方式,保证每匝线圈之间的节距,以及线圈到加热筒体内外壁之间的距离,保证各区段的电感量在设计范围之内。附图说明图1为本发明提供的电磁感应加热单元结构示意图;图2为本发明提供的电磁感应加热单元剖视图;图3为本发明提供的电磁感应加热单元外部结构示意图;图4为电磁感应加热单元与蒸汽炉配合工作流程示意图。附图标记说明:1-汽水引出管;2-中心加热筒;3-内筒体;4-外筒体;5-汽水引进管;6-辅助加热水套汽水引入管;7-线圈;8-线圈固定装置;81-支柱固定块;82-支柱定位管;83-绝缘支柱;84-定位螺栓。具体实施方式下面结合附图对本发明作更进一步的说明。如图1所示的一种电磁感应加热单元结构,包括两端开口的中心加热筒2,沿中心加热筒2切向向外依次套装有内筒体3和外筒体4。内筒体3与外筒体4底部位于同一封闭平面,内筒体3与外筒体4之间形成倒u型辅助加热水套。外筒体4顶端与中心加热筒2顶端位于同一平面。中心加热筒2与辅助加热水套连接处开有若干通孔。其中中心加热筒2承担90%左右的加热量,辅助加热水套承担10%左右的加热量。
所述线圈截面为正方形,线圈上端距离顶部端面不低于150mm;所述线圈缠绕密度从上端至底部依次减少;所述中心加热筒上端开口连接汽水引出管,下端开口连接汽水引进管,所述外筒体一侧与辅助加热水套汽水引入管连接。进一步地,所述线圈固定装置包括绝缘支柱,所述绝缘支柱上端通过支柱定位管与支柱固定块固定连接,下端与固定于底端平面的支柱底座连接;所述绝缘支柱上设有若干用于线圈定位的定位螺栓。进一步地,所述线圈固定装置设有三组,以中心加热筒轴线为中心呈正三角形分布。进一步地,所述绝缘支柱采用耐高温二苯醚层压板,压板外侧设有陶瓷套。进一步地,所述汽水引出管连接锅筒;所述锅筒还设有分别与汽水引进管以及辅助加热水套汽水引入管连接的下降管,形成完整的汽水循环。进一步地,所述电磁感应加热单元结构设置有若干组,每两组电磁感应加热单元未封闭端面距离不低于500mm。有益效果:本发明提供的电磁感应加热单元具有以下优点:(1)采用全包覆紧凑型设计,一方面减少电磁场泄漏,另一方面可以缩减加热单元之间或加热单元与周边金属框架之间的间距。(2)采用线圈的分区段设计,针对立式管内被加热工质存在预热段、过冷沸腾段、核态沸腾段等不同区段。物件温度保持在目标温度值的士5°C的范围内。
本发明半导体加工领域,尤其涉及一种晶圆加热器。背景技术:现有的晶圆加热设备,加热丝呈螺旋状从中心向**旋转,加热丝在热盘中的分布不够均匀,无法达到均匀加热的目的,无法满足晶圆的高精度加热,而高精度加热对半导体的工艺至关重要。如中国发明专利cna所公开的一种能够提高照射效率的加热器。实施方式所涉及的加热器具备发光管、发热体及反射膜。发光管呈筒状,且所述发光管透光。发热体设置在发光管的内部,且发热体以碳作为主要成分。反射膜设置在发光管的外周面,并对光进行反射。上述现有技术的晶圆加热器无法恒温的均匀加热。技术实现要素:一、要解决的技术问题本发明的目的是针对现有技术所存在的上述问题,特提供一种晶圆加热器,解决现有加热器无法恒温的均匀加热的问题。二、技术方案为解决上述技术问题,本发明提供一种晶圆加热器,包括:加热盘、底板和若干垫柱;加热盘上设有七个加热区域,分别为***加热区域、第二加热区域、第三加热区域、第四加热区域、第五加热区域、第六加热区域和第七加热区域;***加热区域设置于中心区域,第二加热区域和第三加热区域设置于***加热区域外圆周。本发明提供一种高频加热时精确控制温度的装置及方法。上海 PA8005-PCC10A加热板价格
为了保证测控精度,采用红外线温度测控模块作为温度测控模块。MSA FACTORYPA8010-PCC10A加热板一级代理
每组加热片的形状均是拱形包抄着由中心点o向外拓展;相邻两组加热片包抄的拐点彼此错开,每组加热片的自由端分别连结电源的两极。其中,加热片的数目可以是如图4所示为两组,包括:***加热片6和第二加热片7;所述***加热片6的***迂回端61和第二加热片7的第二迂回端71彼此纵横组成曲折的留置区8。本发明的***个实施例:如图4所示,所述每组加热片为单独设立彼此分离,座落中心点o附近的加热片的自由端连结着相同电极,***热弧片60和第二热弧片70分别与***加热片6和第二加热片7连结。在该实行例中,由于多组加热片是单独设立的,因此当加热片受热后,其自身可以具足够大的延展空间,不会影响总体的变形,从而化解了技术疑问一;而中心对称设立的多组加热片可以合理摆设加热片的电极,如图4所示,在中心对称的外边沿可以设立相同的电极,而中心点o的附近连通相同的另一个电极,这种长距离分布,可以防范电源短路,进而化解了技术疑问二。同时,为了确保加热的平稳,中心对称的加热片可以很好的通过错位,让相邻两组加热片之间的留置区8布置的更合理,而这种合理的相距可以避免图3所示的,两组加热片附近的加热片变形等,进而化解了技术疑问三。MSA FACTORYPA8010-PCC10A加热板一级代理
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