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    高真空多层精密光学镀膜机BLL-1200F型常规配置;真空系统真空泵:2X-70SV300E2M275增压泵:ZJP300WAU1001/2001EH1200/EH2600高真空泵:分子泵低温泵扩散泵真空室加热系统ZUI高温度:0到400℃型号:不锈钢管装加热器(选择:红外线灯管)基片架盘型号:球面型(选择:平面型，公自转，多行星型，可调角度行星盘)转速:0到30转数/分软启，软停，可调速电器控制系统:PC和PLC控制VAC系统:进口复合真空计MFC系统:进口质量流量控制器;进口电磁阀APC系统镀膜沉积控制系统:晶控美国产IC-6，XTC-3S/M，INFICON310.石英晶体感应器:1，2，6头光控控制国产光控(或进口光控)离子源:霍儿源(或考夫曼，RF源)电子束源:10KW180°或270°电子枪深冷系统:真空室麦斯纳阱扩散泵冷阱全程自动控制镀膜以达到产品ZUI终所需要求。 真空镀膜机可以提高产品的外观质量和使用寿命。全国镀膜机供应商

    BLLl-1350RS真空镀膜机简介

该设备属溅射高真空镀膜机，采用分子泵为主泵，避免了返油，镀膜更牢，能耗更低（与扩散泵比节电50%），效率更高。镀膜过程采用全自动方式，重复性更高，一致性更好。达到高精度、高稳定性、自动化，实现量产化高反射膜（装饰膜）加保护膜的蒸镀，同时能实验性做反应膜。二.设备构造1．尺寸直径*高度φ1350*H18002．前开门/前门位置两个观察窗。3．直空室主体材料为SUS304不锈钢焊接。三.抽气性能1.极限真空：*：大气至*10-3pa≤（保压）：。四.工转架运动方式。2.公转转速0-10转/分钟，变频器控制三相电机。五.整机控制方式全自动PC控制镀膜或手动操作。2.预编程镀膜工艺存储，抽真空和镀膜1键完成。3.镀膜过程的参数有实时记录，并自动保存，以历史记录方式可查。4.工艺过程中对参数有实时曲线视觉，并有历史可查（500GB硬盘，存盘满自动刷新）。5.全系统具有防呆，互锁，报警，缺相等系统功能。6.气体流量，测射靶电流，偏压数字量控制。7.主机总功率：100KVA。 广东光学真空镀膜机参考价真空镀膜机可以实现多种镀膜工艺，如热蒸发、磁控溅射等。

光学真空镀膜机是一种用于制备光学薄膜的设备，其镀膜材料主要包括金属、氧化物、氟化物、硅化物等。以下是常见的镀膜材料及其特点：1.金属：如铝、银、镍、铬等。金属薄膜具有良好的导电性和导热性，适用于制备反射镜、透镜等光学元件。2.氧化物：如二氧化硅、氧化铝、氧化锌等。氧化物薄膜具有良好的耐腐蚀性和光学性能，适用于制备光学滤波器、偏振器等元件。3.氟化物：如氟化镁、氟化镁铝、氟化铝等。氟化物薄膜具有良好的耐腐蚀性和光学性能，适用于制备高透过率的光学元件。4.硅化物：如二氧化硅、氮化硅、碳化硅等。硅化物薄膜具有良好的机械性能和光学性能，适用于制备光学薄膜和硬质涂层。总之，光学真空镀膜机的镀膜材料种类繁多，不同的材料具有不同的特点和应用范围，选择合适的镀膜材料对于制备高质量的光学薄膜非常重要。

光学真空镀膜机的离子源选择需要考虑以下几个方面：1.离子源类型：根据不同的镀膜需求，可以选择不同类型的离子源，如离子束源、离子阱源、离子源等。离子束源适用于大面积均匀镀膜，离子阱源适用于高精度镀膜，离子源适用于局部镀膜。2.离子源能量：离子源的能量决定了离子轰击物体表面的效果，影响着膜层的致密性、平整度和附着力等。一般来说，离子源的能量应根据不同的材料和镀膜要求进行调整。3.离子源流量：离子源的流量决定了离子轰击物体表面的强度和时间，影响着膜层的厚度和均匀性等。一般来说，离子源的流量应根据不同的材料和镀膜要求进行调整。4.离子源位置：离子源的位置决定了离子轰击物体表面的方向和范围，影响着膜层的均匀性和质量等。一般来说，离子源应位于物体表面的正上方，并且与物体表面的距离应适当。综合考虑以上因素，可以选择合适的离子源，以满足不同的光学镀膜需求。磁控溅射真空镀膜机可以实现在线监测和控制，可以提高生产过程的稳定性和可靠性。

    BLL-1350PVD真空镀膜机使用注意事项1.开机前确认冷却水，压缩空气是否正常。2.确认中频电源及靶材冷却水是否正常。3.确认工艺所使用的反应气体是否还充足。4.如遇紧急情况可以按下“急停”按钮停止所有输出。5.画面参数更改方式，先选中，更改后点击旁边空白处即确认。6.进入维修权限，在左上角工艺名称处输入86577718，点击空白处，再点击维修按钮，3秒后维修按钮变为绿色，进入维修模式（非专业人员请勿进入维修模式）。7.主页上阀门如RV,HV,MV,VV上小红点为到位检测开关，红色表示该阀门已经关到位，绿色表示打开状态。如遇真空动作异常时可以先确认阀门时候动作到位。8.打开工艺文件的密码编制工艺。 光学真空镀膜机广泛应用于光学、电子、航空航天等领域。江西多弧离子真空镀膜机参考价

真空镀膜机的镀膜速度快，生产效率高。全国镀膜机供应商

    多弧离子真空镀膜机是一种高科技的表面处理设备，它采用先进的真空镀膜技术，可以在各种材料表面上形成均匀、致密、具有高质量的薄膜。这种设备广泛应用于电子、光学、化工、机械、航空航天等领域，是现代工业生产中不可或缺的重要设备。多弧离子真空镀膜机具有以下几个特点：1.高效节能：采用先进的真空镀膜技术，可以在一定温度进行薄膜沉积，从而降低了能耗，提高了生产效率。2.高质量：多弧离子真空镀膜机可以在各种材料表面上形成均匀、致密、具有高质量的薄膜，具有很好的耐腐蚀性、耐磨性和耐高温性。3.多功能：多弧离子真空镀膜机可以进行金属、非金属、合金等多种材料的镀膜，可以满足不同领域的需求。4.易操作：多弧离子真空镀膜机采用先进的自动化控制系统，操作简单方便，可以实现自动化生产。5.环保节能：多弧离子真空镀膜机采用先进的真空技术，不会产生废气、废水等污染物，符合环保要求。多弧离子真空镀膜机是我们公司的主要产品，我们致力于为客户提供高质量、高效率的设备和服务。我们拥有一支专业的技术团队，可以为客户提供定制化的解决方案，满足客户不同的需求。我们的设备已经广泛应用于电子、光学、化工、机械、航空航天等领域。 全国镀膜机供应商