广东TPPNanoscribe工艺

时间:2023年10月23日 来源:

Nanoscribe称,Quantum X是世界上**基于双光子灰度光刻技术(two-photon grayscale lithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。高度定制化产品,咨询纳糯三维科技(上海)有限公司。广东TPPNanoscribe工艺

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双光子聚合(2PP)是一种可实现比较高精度和完全设计自由度的增材制造方法。而作为同类比较好的3D微加工系统Quantum X shape具有下列优异性能:首先,在所有空间方向上低至 100 纳米的特征尺寸控制,适用于纳米和微米级打印;其次制作高达 50 毫米的目标结构,适用于中尺度打印。高速3D微纳加工系统Quantum X shape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。Quantum X  shape具有先进的激光焦点轨迹控制,可操控振镜加速和减速至比较好扫描速度,并以 1 MHz 调制速率动态调整激光功率德国Nanoscribe微纳机器人Nanoscribe的3D打印设备具有高度灵活性和可定制性,能够满足不同行业的需求。

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Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之,该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性(如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统(MEMS)等)。通过使用Nanoscribe的3D打印系统,科学家们实现了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波导的微观结构。

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**是全世界一个主要死亡原因,2020年有近1000万人死于**[1]。而其中胶质母细胞瘤是一种极具破坏性的脑**,其*细胞增殖非常快且具有**性。为了研究、***和破坏脑肿瘤细胞,研究人员正在研究使用质子放射***,该***手段已被证明在不同**类型中比x射线放射***更有效和微创的技术。然而,质子放射***的成本很高,这使得在动物和人类身上进行的试验也变得非常昂贵,几乎无法进行。质子放射***的高成本也导致缺乏从细胞水平了解质子对胶质母细胞瘤影响的临床研究。体外模型为评估*细胞对药物和辐射的反应提供了一个平台。然而,由于无法模拟体内自然发生的3D环境,传统2D单层细胞培养存在很大局限性。为了寻找更真实的模拟环境,代尔夫特理工大学(DelftUniversityofTechnology)的科学家们利用Nanoscribe的3D微纳加工系统制作了3D工程细胞微环境,并且***次在质子束放射实验中研究了所培养的胶质母细胞瘤细胞3D打印支架,以探究其对辐射的反应。令人印象深刻的是,该实验结果显示,与2D单层细胞相比,3D工程细胞培养中的DNA损伤得到了***降低。更多有关3D微纳加工的咨询,欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。湖北Nanoscribe系统

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Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。广东TPPNanoscribe工艺

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