句容ICP-OES质谱仪厂家

时间:2024年04月20日 来源:

质谱仪又称质谱计,用于分离和检测不同同位素的仪器。根据带电粒子在电磁场中能够偏转的原理,按物质原子、分子或分子碎片的质量差异进行分离和检测物质组成的一类仪器。质谱仪的特点:1、准确度高,可以非常准确的测定分子量,确定分子式。2、灵敏度高,样品的用量较小,分析速度 、分析范围十分 ,可以分析气体、液体和固体。4、可以对物质的组成和结构进行定性检测使用质谱仪的注意事项:1、质谱仪的真空度不能过低,过低会引起额外的分子、离子反应,使质谱解析更复杂,还会引起分析系统内电极之间放电。上海禹重实业有限公司致力于提供质谱仪,竭诚为您服务。句容ICP-OES质谱仪厂家

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无机质谱仪与有机质谱仪工作原理不同的是物质离子化的方式不一样,无机质谱仪是以电感耦合高频放电(ICP)或其他的方式使被测物质离子化。质谱分析法的特点是测试速度快,结果精确。 用于地质学、矿物学、地球化学、核工业、材料科学、环境科学、医学卫生、食品化学、石油化工等领域以及空间技术和公安工作等特种分析方面。扩展资料:质谱仪的应用质谱仪 重要的应用是分离同位素并测定它们的原子质量及相对丰度。测定原子质量的精度超过化学测量方法,大约2/3以上的原子的精确质量是用质谱方法测定的。由于质量和能量的当量关系,由此可得到有关核结构与核结合能的知识。对于可通过矿石中提取的放射性衰变产物元素的分析测量,可确定矿石的地质年代。质谱方法还可用于有机化学分析,特别是微量杂质分析,测量分子的分子量。为确定化合物的分子式和分子结构提供可靠的依据。由于化合物有着像指纹一样的独特质谱,质谱仪在工业生产中也得到广泛应用。兴化iCap RQ质谱仪耗材质谱仪,就选上海禹重实业有限公司,让您满意,欢迎您的来电!

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原子发射光谱法原子发射光谱法(英语:AtomicEmissionSpectroscopy,缩写AES),是一种利用受激发气态原子或离子所发射的特征光谱来测定待测物质中元素组成和含量的方法。为光学分析中较早诞生的分析方法之一,其雏形在1860年代即已形成。一般步骤待测物质在激发光源中蒸发、解离、电离并被激发,产生光辐射;产生的复合光通过分光色散成光谱;检测光谱线的波长和强度,进行分析。[1]应用ICP-AES的应用实例包括测定葡萄酒中的金属,食物中的砷,以及与蛋白质结合的微量元素。ICP-OES广泛应用于选矿工程过程,以提供各种物流等级的数据,用于质量平衡的构建。 

质谱仪简介质谱仪以离子源、质量分析器和离子检测器为 。离子源是使试样分子在高真空条件下离子化的装置。电离后的分子因接受了过多的能量会进一步碎裂成较小质量的多种碎片离子和中性粒子。它们在加速电场作用下获取具有相同能量的平均动能而进入 质量分析器。质量分析器是将同时进入其中的不同质量的离子,按质荷比m/e大小分离的装置。分离后的离子依次进入离子检测器,采集放大离子信号,经计算机处理,绘制成质谱图。离子源、质量分析器和离子检测器都各有多种类型。质谱仪按应用范围分为同位素质谱仪、无机质谱仪和有机质谱仪;按分辨本领分为高分辨、中分辨和低分辨质谱仪;按工作原理分为静态仪器和动态仪器。质谱仪,就选上海禹重实业有限公司,欢迎客户来电!

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如果是负离子检测的话,可以向流动相中加入少量异丙醇。(10)理论上液质联用禁止使用任何不挥发性的缓冲盐。如果需要,尽量使用诸如乙酸氨等挥发性盐,浓度不要超过20mmol/L。对于不挥发性的缓冲盐,如果你的仪器有吹扫捕集的话也可使用,但一定要小心。万不得已也不要用,首先有不挥发盐是得不到好的离子流的,其次盐留在质谱中很难除掉,除非停机清洗,不然一直会影响其他样品的分析。可以找质谱友好的条件来做液质联机,例如色谱条件为20mM磷酸盐的水/乙腈流动相,做液质联机的时候就可以用醋酸铵代替,然后用醋酸调节pH值与磷酸盐的一致即可。除了难挥发的盐,三乙胺、表面活性剂、还有高浓度(>)的TFA,都对质谱不好,液质联用的流动相中应该避免。(11)需要使用酸的情况下可以用甲酸、乙酸,三氟乙酸可以用,但能用甲酸或乙酸时就别用TFA。(12)胺类物质做ESI质谱时要注意进样量要少,因为很容易离子化,不易冲洗干净,会影响后面样品的测定。像三乙胺在液质联用时不能用于调节流动相pH值。若不慎引入三乙胺,在正离子检测时总会出现很强的102峰。(13)酸性物质适合做负离子检测,所以流动相偏碱性较合适,促使其解离,碱性物质适合做正离子检测。质谱仪,就选上海禹重实业有限公司,用户的信赖之选,有想法的不要错过哦!句容ICP-OES质谱仪厂家

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电感耦合等离子体ICP源的用途主要有四种:用于等离子体光谱诊断:通过分析ICP源的光谱来分析等离子体原子组分,参见电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES);电感耦合等离子质谱分析技术:作为质谱分析的离子源,分析组分(ICP-MS);用于反应离子刻蚀:通过ICP源产生低温等离子体,刻蚀材料表面,改变材料的物理与化学性质(ICP-RIE);气相沉积薄膜技术(rf-ICP)。是利用通过高频电感耦合产生等离子体放电的光源来进行原子发射光谱分析的方法。它是一种火焰温度范围为6000至10000K的火焰技术。该发射强度表示样品中元素的浓度。为一种新型激发光源,性能优异,应用 。句容ICP-OES质谱仪厂家

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