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获取模块310，用于获取地球静止轨道卫星光学遥感图像的尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程。***计算模块320，用于根据遥感图像尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程，计算地球静止轨道卫星光学遥感图像拍摄位置的太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度。第二计算模块330，用于根据太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度，计算地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳总辐照强度。第三计算模块340，用于针对于不同拍摄日期、和/或不同拍摄时间、和/或拍摄位置对应的地球静止轨道卫星光学遥感图像，计算各自对应的太阳总辐照强度相互之间的差值，得到各个地球静止轨道卫星光学遥感图像之间的太阳光照补偿值。本发明实施例的目的在于提供一种用于选择性吸收太阳光谱的膜层的制备方法。上海购买太阳光谱模拟AM1.5

针对自研的太阳光谱辐照度计入射光学系统的结构特征,分析了引入余弦误差的因素,研究了直、漫射辐照度以及漫射-总辐射比的余弦校正方法,开展了实验室余弦响应特性测量和多种仪器的敦煌外场比对试验.结果显示,余弦误差与积分球入口黑色阳极化内壁及结构有关,在入射角为60°时,440nm、500nm、670nm和870nm波段太阳光谱辐照度计的余弦误差为4.3%~9.1%;由太阳光谱辐照度计获取的直射辐照度反演得到的大气光学厚度受到余弦误差的严重影响,余弦校正前后与CE318太阳光度计反演结果相比,偏差分别为0.11~0.13和小于0.012;基于天空辐亮度各向同性分布假设,余弦校正后四个波段漫射辐照度数值提升6.8%~10%.基于天空辐亮度分布数据,提出了一种漫射辐照度的精确校正方法,仿真结果显示,余弦校正后的漫射辐照度与理论数据一致,初步验证了该方法的可行性.天津上打光太阳光谱模拟销售等到阳光透过整个堆栈之时，近一半的可用能量都被转换为了电力。

推荐的，步骤3)中，靶材为铬靶，氩气流量为50～300sccm，氮气流量为10～100sccm，制得的缓冲膜的厚度为30～150nm。推荐的，步骤4)中，靶材为铬靶，氩气流量为50～500sccm，氮气流量为10～200sccm，氧气流量为10～200sccm，制得的过渡膜的厚度为30～100nm。推荐的，步骤5)中，靶材为铬靶，氩气流量为50～300sccm，氧气流量为10～200sccm，制得的吸收膜的厚度为30～120nm。推荐的，步骤6)中，靶材为硅靶，氩气流量为50～500sccm，氧气流量为50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度为60～200nm。推荐的，步骤1)中，吸热体的基材为不锈钢片、铝板或铜板。

因此，对于地球静止轨道光学遥感卫星在不同日期、不同时间、不同地点拍摄图像的太阳光照补偿值为δet＝et(x1，y1，z1，d1，t1)-et(x2，y2，z2，d2，t2)，(2)其中，下角标1和2**两个不同拍摄日期、和/或时间和/或位置。至此，通过获取地球静止轨道卫星光学遥感图像的尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程，基于上述方法，实现对于不同日期、不同时间、不同地点拍摄的地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳光照补偿值计算。图3示意性示出了根据本发明一示例性实施例的太阳光照补偿值计算装置的框图，如图3所示，该装置300例如可以包括获取模块310、***计算模块320、第二计算模块330和第三计算模块340。我们的新设备能够解锁存储在长波长光子中的能量，这些是传统太阳能电池力所未逮之处。

反应性溅镀制备缓冲膜：在第三真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氮气发生化学反应生成氮化铬，反应生成的氮化铬沉积在步骤2)制得的低发射率膜的外表面上形成缓冲膜；4)反应性溅镀制备过渡膜：在第四真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气与氮气发生化学反应生成氮氧化铬、氮化铬以及氧化铬，反应生成的氮氧化铬、氮化铬以及氧化铬沉积在步骤3)制得的缓冲膜的外表面上形成过渡膜；5)反应性溅镀制备吸收膜：在第五真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在步骤4)制得的过渡膜的外表面上形成吸收膜；这一方法不同于一般在房顶或者田野中看到的那种太阳能电池板。天津AM0太阳光谱模拟工厂

由于在溅镀化合物薄膜时，若直接以化合物当作靶材，则所溅镀出来的薄膜会与靶材成份有所差别。上海购买太阳光谱模拟AM1.5

具体实施方式为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本申请提供了一种用于选择性吸收太阳光谱的膜层的制备方法，包括以下依次进行的步骤：1)反应性溅镀制备强化膜：在***真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜；上海购买太阳光谱模拟AM1.5

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