宁夏太阳光谱模拟AM1

时间:2023年01月08日 来源:

1)反应性溅镀制备强化膜:在***真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬,反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜;步骤1)中,吸热体的基材为不锈钢片;步骤1)中,靶材为铬靶,功率为9kw,电压为500v,真空度为8.0e-6torr,镀膜速度为6mm/s,氩气流量为120sccm,氧气流量为80sccm,制得的强化膜的厚度为70nm;膜厚是根据工艺要求可调整的;2)溅镀制备低发射率膜:在第二真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铜离子沉积在步骤1)制得的强化膜的外表面上形成低发射率膜;在***真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬。宁夏太阳光谱模拟AM1

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推荐的,步骤3)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~300sccm,氮气流量为10~100sccm,制得的缓冲膜的厚度为30~150nm。推荐的,步骤4)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~500sccm,氮气流量为10~200sccm,氧气流量为10~200sccm,制得的过渡膜的厚度为30~100nm。推荐的,步骤5)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~300sccm,氧气流量为10~200sccm,制得的吸收膜的厚度为30~120nm。推荐的,步骤6)中,靶材为硅靶,氩气流量为50~500sccm,氧气流量为50~200sccm,制得的抗反射膜的厚度为60~200nm。推荐的,步骤1)中,吸热体的基材为不锈钢片、铝板或铜板。海南高级太阳光谱模拟AM0为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例。

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5)反应性溅镀制备吸收膜:在第五真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬,反应生成的氧化铬沉积在步骤4)制得的过渡膜的外表面上形成吸收膜;6)反应性溅镀制备抗反射膜:在第六真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的硅离子与通入的氧气发生化学反应生成二氧化硅,反应生成的二氧化硅沉积在步骤5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜,完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层。在本申请的一个实施例中,步骤1)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~200sccm,氧气流量为10~200sccm,制得的强化膜的厚度为30~120nm。

该仪器能够快速显示实时光谱,因此有可能找到具有***多普勒频移的望远镜位置,同时在这些位置记录更长的曝光光谱,提高信噪比。下图所示的铁谱线相隔约5pm,因为这些光谱不是在太阳圆盘的末端拍摄的。太阳自转引起的两条夫琅和费铁线(相对于未移动的氧线)多普勒频移的测量。在左边的图表中,红色和蓝色的线是HF-8989-3光谱仪的实验数据,当时太阳圆盘的图像通过输入光纤移动到光谱仪(从一个边缘到另一个边缘)。每个实验光谱的曝光时间<1秒。反应性溅镀制备过渡膜:在第四真空镀膜室中,氩离子撞击靶材。

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具体实施方式为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。本申请提供了一种用于选择性吸收太阳光谱的膜层的制备方法,包括以下依次进行的步骤:1)反应性溅镀制备强化膜:在***真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬,反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜;对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例。山西AM1.5太阳光谱模拟AM0

相对的,目前大部分常见太阳能电池只能将25%的可用能量转换为电力。宁夏太阳光谱模拟AM1

本发明涉及图像处理领域,尤其涉及一种太阳光照补偿值计算方法。背景技术:地球静止轨道光学遥感卫星的轨道周期与地球自转周期相同,与地球保持相对静止,拥有较大的成像幅宽,可对某一大面积指定感兴趣区域进行连续观测,具有时间分辨率高、数据时效性好等优点。然而,由于地球自转和围绕太阳公转,导致地球上同一位置的光照强度每天都是不同的。此外,由于地球本身是圆形的,因此即使同一时刻,不同经度和纬度的光照强度也是不一样的,这就导致静止轨道光学遥感卫星在不同日期、不同时间、不同地点拍摄的图像的亮度有很大差别,这对遥感图像后续处理和应用造成很大困难。因此,如何对在不同日期、不同时间、不同地点拍摄的地球静止轨道卫星光学遥感图像进行太阳光照补偿值计算是本领域技术人员亟需解决的问题。宁夏太阳光谱模拟AM1

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