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第五计算单元325，用于根据太阳高度角和所述拍摄位置高程，计算相对大气光学质量；第六计算单元326，用于根据相对大气光学质量，计算直射辐射大气透明度系数，并根据直射辐射大气透明度系数，计算散射辐射大气透明度系数；第七计算单元327，用于根据大气层上界垂直入射时的太阳辐射强度、所述直射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算所述太阳直接辐射强度；第八计算单元328，用于根据散射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算太阳散射辐射强度。需要说明的是，装置部分的实施例方式与方法部分的实施例方式对应类似，具体细节请参照方法实施例部分，在此不再赘述。撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬。陕西购买太阳光谱模拟AM1

1)反应性溅镀制备强化膜：在***真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜；步骤1)中，吸热体的基材为不锈钢片；步骤1)中，靶材为铬靶，功率为9kw，电压为500v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为120sccm，氧气流量为80sccm，制得的强化膜的厚度为70nm；膜厚是根据工艺要求可调整的；2)溅镀制备低发射率膜：在第二真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铜离子沉积在步骤1)制得的强化膜的外表面上形成低发射率膜；海南代理太阳光谱模拟AM1溅镀制备低发射率膜：在第二真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铜离子沉积在步骤。

步骤5)中，靶材为铬靶，功率为11kw，电压为500v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为110sccm，氧气流量为90sccm，制得的吸收膜的厚度为80nm；6)反应性溅镀制备抗反射膜：在第六真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的硅离子与通入的氧气发生化学反应生成二氧化硅，反应生成的二氧化硅沉积在步骤5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层；步骤6)中，靶材为硅靶，功率为6kw，电压为560v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为220sccm，氧气流量为30sccm，制得的抗反射膜的厚度为120nm。

表明了所能达到的效率上限。虽然所用的材料花费很大，但用于制造这种电池的技术很有前途。通过降低成本和回收利用这些生长基底，未来类似的产品可能将被推向市场。背景技术：在平板型太阳能集热器的生产中，往往要在吸热体(吸热板)的基材的外表面镀一层薄膜，以提高对太阳热能的吸收，以往使用的化学镀膜，对环境污染大，而且对太阳热能的吸收不好。由于在溅镀化合物薄膜时，若直接以化合物当作靶材，则所溅镀出来的薄膜会与靶材成份有所差别，且因为不同物质被离子击出的溅击产额不同，因此不容易控制化合物的成份组成与性膜层的附着力根据标准要求测试，结果为1级；本申请制备的膜层的光热转换的效率为77％～82％。

正因为如此，来自太阳圆盘一侧的光会因多普勒效应而红移，而另一侧的光会蓝移。我们可以观察和理解这些位移，因为太阳谱线波长相对于大气氧线的位移——地球大气吸收产生的氧线相对于望远镜是静止的。从太阳圆盘边缘到边缘的比较大多普勒频移只有~8pm，因此HF-8989-3的仪器分辨率（~1pm），对于测试时必要的。同时，LightMachinery光谱仪的快速采集速率也非常有利于这类测量。与其建立一个复杂的成像系统来显示耦合到光谱仪光纤中的太阳圆盘部分，不如简单地设置SpectraLoK软件，在望远镜从一个分支扫描到另一个分支时，每100毫秒记录一次新的光谱。对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例。内蒙古太阳光谱模拟销售

一种用于选择性吸收太阳光谱的膜层的制备方法，包括以下依次进行的步骤。陕西购买太阳光谱模拟AM1

5)反应性溅镀制备吸收膜：在第五真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在步骤4)制得的过渡膜的外表面上形成吸收膜；6)反应性溅镀制备抗反射膜：在第六真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的硅离子与通入的氧气发生化学反应生成二氧化硅，反应生成的二氧化硅沉积在步骤5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层。在本申请的一个实施例中，步骤1)中，靶材为铬靶，氩气流量为50～200sccm，氧气流量为10～200sccm，制得的强化膜的厚度为30～120nm。陕西购买太阳光谱模拟AM1

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