北京高级太阳光谱模拟AM0

时间:2023年02月01日 来源:

近年来,中国科学院宁波材料技术与工程研究所功能薄膜与智构器件团队聚焦新型金属陶瓷基太阳光谱选择性吸收涂层研发,以提升热稳定性为抓手,在新型耐高温金属陶瓷材料设计、光学模拟、涂层构筑和热稳定性强化机理研究等方面开展了一系列的工作。前期,利用金属Al合金化Ag纳米粒子,结合多靶共溅射的方法,获得新型AgAl-Al2O3金属陶瓷薄膜,耐热温度较Ag-Al2O3(350℃)提高至500℃,在非真空条件下经高温长时间退火(~1000 h),光学性能非常稳定(ACS Applied Materials Interfaces 2014, 6, 11550; Applied Surface Science 2015, 331, 285)。比现有技术中膜层的光热转换的效率提高了6%~10%。北京高级太阳光谱模拟AM0

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推荐的,步骤3)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~300sccm,氮气流量为10~100sccm,制得的缓冲膜的厚度为30~150nm。推荐的,步骤4)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~500sccm,氮气流量为10~200sccm,氧气流量为10~200sccm,制得的过渡膜的厚度为30~100nm。推荐的,步骤5)中,靶材为铬靶,氩气流量为50~300sccm,氧气流量为10~200sccm,制得的吸收膜的厚度为30~120nm。推荐的,步骤6)中,靶材为硅靶,氩气流量为50~500sccm,氧气流量为50~200sccm,制得的抗反射膜的厚度为60~200nm。推荐的,步骤1)中,吸热体的基材为不锈钢片、铝板或铜板。河北AM0太阳光谱模拟销售制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜,完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层。

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因此,对于地球静止轨道光学遥感卫星在不同日期、不同时间、不同地点拍摄图像的太阳光照补偿值为δet=et(x1,y1,z1,d1,t1)-et(x2,y2,z2,d2,t2),(2)其中,下角标1和2**两个不同拍摄日期、和/或时间和/或位置。至此,通过获取地球静止轨道卫星光学遥感图像的尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程,基于上述方法,实现对于不同日期、不同时间、不同地点拍摄的地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳光照补偿值计算。图3示意性示出了根据本发明一示例性实施例的太阳光照补偿值计算装置的框图,如图3所示,该装置300例如可以包括获取模块310、***计算模块320、第二计算模块330和第三计算模块340。

获取模块310,用于获取地球静止轨道卫星光学遥感图像的尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程。***计算模块320,用于根据遥感图像尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程,计算地球静止轨道卫星光学遥感图像拍摄位置的太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度。第二计算模块330,用于根据太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度,计算地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳总辐照强度。第三计算模块340,用于针对于不同拍摄日期、和/或不同拍摄时间、和/或拍摄位置对应的地球静止轨道卫星光学遥感图像,计算各自对应的太阳总辐照强度相互之间的差值,得到各个地球静止轨道卫星光学遥感图像之间的太阳光照补偿值。这一新设备利用了聚光光伏(CPV)电池板,利用透镜将太阳光集中到微小尺度的太阳能电池上。

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第五计算单元325,用于根据太阳高度角和所述拍摄位置高程,计算相对大气光学质量;第六计算单元326,用于根据相对大气光学质量,计算直射辐射大气透明度系数,并根据直射辐射大气透明度系数,计算散射辐射大气透明度系数;第七计算单元327,用于根据大气层上界垂直入射时的太阳辐射强度、所述直射辐射大气透明度系数和太阳高度角,计算所述太阳直接辐射强度;第八计算单元328,用于根据散射辐射大气透明度系数和太阳高度角,计算太阳散射辐射强度。需要说明的是,装置部分的实施例方式与方法部分的实施例方式对应类似,具体细节请参照方法实施例部分,在此不再赘述。膜层的附着力根据标准要求测试,结果为1级;本申请制备的膜层的光热转换的效率为77%~82%。北京高级太阳光谱模拟AM0

堆栈式电池就像是太阳光筛子,每层的特制材料吸收特定波长**的能量。北京高级太阳光谱模拟AM0

1)反应性溅镀制备强化膜:在***真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬,反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜;步骤1)中,吸热体的基材为不锈钢片;步骤1)中,靶材为铬靶,功率为9kw,电压为500v,真空度为8.0e-6torr,镀膜速度为6mm/s,氩气流量为120sccm,氧气流量为80sccm,制得的强化膜的厚度为70nm;膜厚是根据工艺要求可调整的;2)溅镀制备低发射率膜:在第二真空镀膜室中,氩离子撞击靶材,撞击出来的铜离子沉积在步骤1)制得的强化膜的外表面上形成低发射率膜;北京高级太阳光谱模拟AM0

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