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在本申请的一个实施例中，步骤6)中，靶材为硅靶，氩气流量为50～500sccm，氧气流量为50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度为60～200nm。在本申请的一个实施例中，步骤1)中，吸热体的基材为不锈钢片、铝板或铜板。本申请中，sccm为体积流量单位，意义为标况毫升/分钟。本申请提供的膜层能够选择性吸收太阳光谱，其中的原理是：太阳辐射到地球上的绝大部分能量，来源于0.20～3.0μm波长范围的紫外线、可见光和红外线，这个波长范围内的能量占地球外太阳辐射总能量的98.07％；而热辐射的波长范围主要集中在2.5～30μm。光谱选择性吸收涂层是应用在吸热体上的，它就是利用太阳辐射的波长范围(主要集中在0.20～3.0μm)与热辐射的波长范围不相同这一特性，可以增强吸热体对太阳辐射吸收的同时，减少吸热体向环境的热辐射损失。选择性涂层材料的比较大特点在于，它们对不同光谱区的辐射具有不同的热辐射性质。首先，该方法利用了一族基于锑化镓(GaSb)基底的材料，这常见于红外激光器和光电探测器等应用之中。辽宁生产太阳光谱模拟购买

例如，获取模块310、***计算模块320、第二计算模块330和第三计算模块340中的任意多个可以合并在一个模块中实现，或者其中的任意一个模块可以被拆分成多个模块。或者，这些模块中的一个或多个模块的至少部分功能可以与其他模块的至少部分功能相结合，并在一个模块中实现。根据本发明的实施例，获取模块310、***计算模块320、第二计算模块330及第三计算模块340中的至少一个可以至少被部分地实现为硬件电路，例如现场可编程门阵列(fpga)、可编程逻辑阵列(pla)、片上系统、基板上的系统、封装上的系统、**集成电路(asic)，或可以通过对电路进行集成或封装的任何其他的合理方式等硬件或固件来实现，或以软件、硬件以及固件三种实现方式中任意一种或以其中任意几种的适当组合来实现。或者，获取模块310、***计算模块320、第二计算模块330及第三计算模块340中的至少一个可以至少被部分地实现为计算机程序模块，当该计算机程序模块被运行时，可以执行相应的功能。江西AM0太阳光谱模拟价格反应生成的氧化铬沉积在步骤4)制得的过渡膜的外表面上形成吸收膜。

第五计算单元325，用于根据太阳高度角和所述拍摄位置高程，计算相对大气光学质量；第六计算单元326，用于根据相对大气光学质量，计算直射辐射大气透明度系数，并根据直射辐射大气透明度系数，计算散射辐射大气透明度系数；第七计算单元327，用于根据大气层上界垂直入射时的太阳辐射强度、所述直射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算所述太阳直接辐射强度；第八计算单元328，用于根据散射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算太阳散射辐射强度。需要说明的是，装置部分的实施例方式与方法部分的实施例方式对应类似，具体细节请参照方法实施例部分，在此不再赘述。

以AgAl-Al2O3金属陶瓷薄膜作为吸收层，成功构建了AgAl-Al2O3太阳光谱选择性吸收涂层。在氮气气氛下经500℃退火1002 h，其太阳光谱吸收率稳定在95%左右，400℃红外发射率约在10-11%，如图1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。   目前国内外研究人员积极开发基于熔融盐（如60% KNO3+40% NaNO3）热工质的高温太阳能热发电系统，其工作温度常在550℃以上，客观上对太阳光谱选择性吸收涂层提出了更为苛刻的要求，如何获得600℃下具备优异热稳定性的太阳光谱选择性吸收涂层是亟需攻克的难题之一。此外，相对的，目前大部分常见太阳能电池只能将25%的可用能量转换为电力。

正因为如此，来自太阳圆盘一侧的光会因多普勒效应而红移，而另一侧的光会蓝移。我们可以观察和理解这些位移，因为太阳谱线波长相对于大气氧线的位移——地球大气吸收产生的氧线相对于望远镜是静止的。从太阳圆盘边缘到边缘的比较大多普勒频移只有~8pm，因此HF-8989-3的仪器分辨率（~1pm），对于测试时必要的。同时，LightMachinery光谱仪的快速采集速率也非常有利于这类测量。与其建立一个复杂的成像系统来显示耦合到光谱仪光纤中的太阳圆盘部分，不如简单地设置SpectraLoK软件，在望远镜从一个分支扫描到另一个分支时，每100毫秒记录一次新的光谱。经检测，本申请制备的膜层的吸收率为93％～97％，比现有技术中膜层的吸收率提高了3％～9％。甘肃AM1太阳光谱模拟价格

以往使用的化学镀膜，对环境污染大，而且对太阳热能的吸收不好。辽宁生产太阳光谱模拟购买

1)反应性溅镀制备强化膜：在***真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜；步骤1)中，吸热体的基材为不锈钢片；步骤1)中，靶材为铬靶，功率为9kw，电压为500v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为120sccm，氧气流量为80sccm，制得的强化膜的厚度为70nm；膜厚是根据工艺要求可调整的；2)溅镀制备低发射率膜：在第二真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铜离子沉积在步骤1)制得的强化膜的外表面上形成低发射率膜；辽宁生产太阳光谱模拟购买

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