湖北AM1.5太阳光谱模拟代理

针对自研的太阳光谱辐照度计入射光学系统的结构特征,分析了引入余弦误差的因素,研究了直、漫射辐照度以及漫射-总辐射比的余弦校正方法,开展了实验室余弦响应特性测量和多种仪器的敦煌外场比对试验.结果显示,余弦误差与积分球入口黑色阳极化内壁及结构有关,在入射角为60°时,440nm、500nm、670nm和870nm波段太阳光谱辐照度计的余弦误差为4.3%~9.1%;由太阳光谱辐照度计获取的直射辐照度反演得到的大气光学厚度受到余弦误差的严重影响,余弦校正前后与CE318太阳光度计反演结果相比,偏差分别为0.11~0.13和小于0.012;基于天空辐亮度各向同性分布假设,余弦校正后四个波段漫射辐照度数值提升6.8%~10%.基于天空辐亮度分布数据,提出了一种漫射辐照度的精确校正方法,仿真结果显示,余弦校正后的漫射辐照度与理论数据一致,初步验证了该方法的可行性.这一方法不同于一般在房顶或者田野中看到的那种太阳能电池板。湖北AM1.5太阳光谱模拟代理

步骤5)中，靶材为铬靶，功率为11kw，电压为500v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为110sccm，氧气流量为90sccm，制得的吸收膜的厚度为80nm；6)反应性溅镀制备抗反射膜：在第六真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的硅离子与通入的氧气发生化学反应生成二氧化硅，反应生成的二氧化硅沉积在步骤5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层；步骤6)中，靶材为硅靶，功率为6kw，电压为560v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为220sccm，氧气流量为30sccm，制得的抗反射膜的厚度为120nm。四川高级太阳光谱模拟相反地，如果通入过量的气体，则不仅在基材上与溅射出的原子进行反应，也会在靶面上与靶材反应生成化合物。

步骤2)中，靶材为铜靶，功率为7kw，电压为520v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为320sccm，制得的低发射率膜的厚度为200nm；3)反应性溅镀制备缓冲膜：在第三真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氮气发生化学反应生成氮化铬，反应生成的氮化铬沉积在步骤2)制得的低发射率膜的外表面上形成缓冲膜；步骤3)中，靶材为铬靶，功率为7kw，电压为420v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为240sccm，氮气流量为43sccm，制得的缓冲膜的厚度为90nm；

阳光是一种**度、易获得的光源，包括数千个“内置”的校准光谱特征。许多研究都需要用到这种质量的光源，例如日光诱导叶绿素荧光；植被，作物和矿物的地物光谱，高光谱，以及多光谱测试；地球大气层研究等等。LightMachinery的高分辨率光谱仪，不但可以用来测试太阳光谱，也可以利用其高分辨率测试的夫朗和费线反演太阳自转，大气水汽等等。显示太阳光谱**直接的方法是将直射阳光耦合到连接到光谱仪输入端口的光纤中。某些型号的LightMachinery光谱仪提供了必要的光通量和灵敏度来记录太阳光谱，只需将光纤端部大致对准太阳的方向即可。**优于国家标准要求，太阳吸收比α(am1.5)达0.94，半球发射比εh(80℃)*为0.038。

为了得到高质量的化合物薄膜，通常在溅镀金属靶时，通入与被溅射出的物质反应的气体，相互反应生成所需的化合物沉积在基材上，此种溅镀系统称为反应性溅镀。如果所通入的气体含量刚好足够与溅射出的原子进行反应，使得在靶材表面甚少形成化合物，则有利溅射的进行。相反地，如果通入过量的气体，则不仅在基材上与溅射出的原子进行反应，也会在靶面上与靶材反应生成化合物。因此，如何提高吸热体的基材的外表面上的薄膜对太阳热能的吸收，提高光热转换的效率，是本领域技术人员急需解决的技术问题。技术实现要素：反应性溅镀制备缓冲膜：在第三真空镀膜室中，氩离子撞击靶材。湖北AM1.5太阳光谱模拟代理

首先，该方法利用了一族基于锑化镓(GaSb)基底的材料，这常见于红外激光器和光电探测器等应用之中。湖北AM1.5太阳光谱模拟代理

厚度为0.1～2μm的薄层金属氧化物或硫化物，如氧化铜、氧化铬等，具有很高的太阳辐射吸收比和长波辐射透射比。6层构成的膜层的缓冲膜、过渡膜、吸收膜的主要成分是氧化铬等氧化物，能够吸收波长范围为0.20～3.0μm的太阳辐射能量并转化为热能。本申请实现了用于选择性吸收太阳光谱的膜层的吸收率高、发射率低以及附着力好，其中的工作原理是：在2500nm波长以下的太阳光反射光谱，反射率越低，吸收率越高，相反的，在2500nm波长以上的太阳光反射光谱，反射率越高，发射率越低；对基材表面作预处理，增加吸热体表面粗超度，能有效增强附着力，根据标准要求测试，结果为1级。湖北AM1.5太阳光谱模拟代理

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